一種納米材料真空鍍膜機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及納米鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種納米材料真空鍍膜機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]納米防水鍍膜技術(shù)廣泛用于航空航天軍工、電路板、磁性材料、傳感器、硅橡膠、密封件、醫(yī)療器械、珍貴文物、小家電(豆?jié){機(jī)、電飯鍋、電磁爐、剃須刀、遙控器、空調(diào)扇、空調(diào)、微波爐等、音響)、數(shù)碼(手機(jī)、相機(jī)、筆記本、平板、耳機(jī)、)、衛(wèi)浴、蓄電池、汽車(電子鑰匙、倒車?yán)走_(dá)、充電粧)等領(lǐng)域；能在金、銀、鎢、鈷、鈀等不同金屬表面形成2-10nm厚度左右的鍍層，從而使金屬表面具有良好的耐磨性、防水、導(dǎo)電性能、耐腐蝕、耐高溫、防氧化及改變表面張力等特性，從而提升材料性能，可以全面的改善產(chǎn)品品質(zhì)。
[0003]現(xiàn)有的鍍膜機(jī)具有以下缺陷:1.氣密性不強(qiáng)，影響真空效果，抽真空效果不好，生產(chǎn)效率低；且影響鍍膜效果，制得的成品良品率低；2.鍍膜效果差，薄膜容易從產(chǎn)品上脫落；3.設(shè)備機(jī)構(gòu)負(fù)責(zé)，不便維修；4.只能適用于一些金屬鍍膜材料，易生成有害氣體。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實(shí)用新型的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足提供一種納米材料真空鍍膜機(jī)，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、緊湊，密封性強(qiáng)，鍍膜效果好，薄膜不宜脫落，鍍膜材料采用納米材料不會(huì)生產(chǎn)有害氣體。
[0005]本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的，一種納米材料真空鍍膜機(jī)，包括用于將鍍膜材料蒸發(fā)成氣體的蒸發(fā)爐、對(duì)氣體進(jìn)行裂解反應(yīng)的裂解爐以及對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行鍍膜的鍍膜裝置，所述鍍膜裝置包括真空爐、對(duì)真空爐內(nèi)進(jìn)行抽真空的真空栗以及對(duì)真空爐內(nèi)進(jìn)行加壓的加壓栗，所述真空爐分別通過管道與真空栗和加壓栗連接，所述蒸發(fā)爐、裂解爐和真空爐之間通過管道連通，所述裂解爐和真空爐之間還設(shè)置有氣動(dòng)閥。
[0006]作為優(yōu)選，所述蒸發(fā)爐包括蒸發(fā)爐體和密封門，所述蒸發(fā)爐體內(nèi)設(shè)置有蒸發(fā)室，所述蒸發(fā)室內(nèi)設(shè)置有內(nèi)加熱板，所述內(nèi)加熱板包括板體，所述板體內(nèi)設(shè)置有加熱絲和第一冷凝管，所述蒸發(fā)爐體的外表面設(shè)置有外層加熱板。
[0007]作為優(yōu)選，所述內(nèi)加熱板包括板體，所述板體由底板和蓋板組成，所述蓋板設(shè)置有若干個(gè)相互平行的第一槽位，相鄰的兩個(gè)第一槽位之間通過第一圓弧槽連通，若干個(gè)所述第一槽位和若干個(gè)所述第一圓弧槽內(nèi)均設(shè)置有加熱絲；所述底板設(shè)置有若干個(gè)相互平行的第二槽位，相鄰的兩個(gè)第二槽位之間通過第二圓弧槽連通，若干個(gè)所述第二槽位和若干個(gè)所述第二圓弧槽內(nèi)均設(shè)置有第一冷凝管。
[0008]作為優(yōu)選，所述底板和蓋板均為鋁合金板。
[0009]作為優(yōu)選，所述裂解爐包括第一管體，所述第一管體內(nèi)設(shè)置有裂解室，所述第一管體的外部設(shè)置有加熱層，所述加熱層的外部設(shè)置有保溫層。
[0010]作為優(yōu)選，所述氣動(dòng)閥包括閥體，所述閥體的底部設(shè)置有進(jìn)氣口，所述閥體內(nèi)設(shè)置有控制進(jìn)氣口打開或關(guān)閉的閥蓋，所述閥體的外部設(shè)置有氣缸，所述閥體的上蓋板設(shè)置有一通孔，所述通孔內(nèi)設(shè)置有軸套，所述軸套內(nèi)設(shè)置有第一密封件，所述氣缸的活塞桿依次穿過軸套和第一密封件，并延伸至閥體內(nèi)與閥蓋固定連接，所述活塞桿的底端設(shè)置有壓環(huán)，所述壓環(huán)與閥蓋固定連接，所述活塞桿的外壁套設(shè)有波紋管。
[0011]作為優(yōu)選，所述真空爐包括真空爐體和爐門，所述真空爐體內(nèi)設(shè)置有工件掛架，還包括用于驅(qū)動(dòng)所述工件掛架轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī)，所述真空爐體的底部設(shè)置有一通孔，所述通孔內(nèi)設(shè)有第二密封件，所述電機(jī)的電機(jī)軸穿過所述通孔和第二密封件與工件掛架驅(qū)動(dòng)連接。
[0012]作為優(yōu)選，所述鍍膜裝置還包括有冷凝回收裝置，所述冷凝回收裝置包括第二管體，第二管體的右端密封，第二管體開設(shè)有材料入口和氣體出口，所述材料入口通過管道與真空爐連通，所述氣體出口通過管道與真空栗連通，還包括冷凝器，冷凝器包括設(shè)置于第二管體內(nèi)部的第二冷凝管、與第二冷凝管的左端固定連接的冷凝端蓋，冷凝端蓋的右壁面與第二管體的左端可拆卸連接，所述第二冷凝管的管體設(shè)置有螺紋結(jié)構(gòu)。
[0013]作為優(yōu)選，所述冷凝器還包括與冷凝端蓋的左壁面固定連接的柱狀體，柱狀體開設(shè)有深冷接頭，深冷接頭設(shè)置有冷卻水入口和回流水出口。
[0014]本實(shí)用新型有益效果:一種納米材料真空鍍膜機(jī)，包括用于將鍍膜材料蒸發(fā)成氣體的蒸發(fā)爐、對(duì)氣體進(jìn)行裂解反應(yīng)的裂解爐以及對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行鍍膜的鍍膜裝置，所述鍍膜裝置包括真空爐、對(duì)真空爐內(nèi)進(jìn)行抽真空的真空栗以及對(duì)真空爐內(nèi)進(jìn)行加壓的加壓栗，所述真空爐分別通過管道與真空栗和加壓栗連接，所述蒸發(fā)爐、裂解爐和真空爐之間通過管道連通，所述裂解爐和真空爐之間還設(shè)置有控制經(jīng)過裂解反應(yīng)的氣體進(jìn)入真空爐內(nèi)的氣動(dòng)閥，將納米鍍膜材料放入蒸發(fā)爐內(nèi)蒸發(fā)成氣體，再進(jìn)入裂解爐內(nèi)進(jìn)行裂解反應(yīng)，真空栗對(duì)真空爐進(jìn)行抽真空處理，經(jīng)過裂解后的氣態(tài)鍍膜材料會(huì)吸附在產(chǎn)品的表面形成一層薄膜，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、緊湊，密封性強(qiáng)，鍍膜效果好，薄膜不宜脫落，鍍膜材料采用納米材料不會(huì)生產(chǎn)有害氣體。
【附圖說明】
[0015]圖1為本實(shí)用新型的主視圖。
[0016]圖2為本實(shí)用新型的俯視圖。
[0017]圖3為本實(shí)用新型蒸發(fā)爐的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖4為本實(shí)用新型內(nèi)加熱板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0019]圖5為本實(shí)用新型蓋板的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020]圖6為本實(shí)用新型底板的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021]圖7為本實(shí)用新型裂解爐的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]圖8為本實(shí)用新型氣動(dòng)閥的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]圖9為圖8中A處的放大結(jié)構(gòu)示意圖。
[0024]圖10為圖8中B處的放大結(jié)構(gòu)示意圖。
[0025]圖11為本實(shí)用新型真空爐的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]圖12為本實(shí)用新型冷凝回收裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0027]附圖標(biāo)記為:
[0028]I—蒸發(fā)爐11一蒸發(fā)爐體
[0029]12—密封門13—蒸發(fā)室
[0030]14—內(nèi)加熱板141 一底板
[0031]1411—第二槽位1412—第二圓弧槽
[0032]142—蓋板1421—第一槽位
[0033]1422—第一圓弧槽15—加熱絲
[0034]16—第一冷凝管17—外層加熱板。
[0035]2—裂解爐21—第一管體
[0036]22—裂解室23—加熱層
[0037]24—保溫層3—真空爐
[0038]31—真空爐體32—工件掛架
[0039]33—電機(jī)34—第二密封件
[0040]4 一真空栗
[0041]6—?dú)鈩?dòng)閥61—閥體
[0042]62—進(jìn)氣口63—閥蓋
[0043]64—?dú)飧?41—活塞桿
[0044]65—軸套66—第一密封件
[0045]67—壓環(huán)68—波紋管
[0046]7—冷凝回收裝置71—第二管體
[0047]72—材料入口73—?dú)怏w出口
[0048]74—第二冷凝管75—冷凝端蓋
[0049]76—柱狀體77—深冷接頭。
【具體實(shí)施方式】
[0050]下面結(jié)合附圖1至圖12，以及【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步地說明。
[0051]如圖1至圖2所示，一種納米材料真空鍍膜機(jī)，包括用于將鍍膜材料蒸發(fā)成氣體的蒸發(fā)爐1、對(duì)氣體進(jìn)行裂解反應(yīng)的裂解爐2以及對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行鍍膜的鍍膜裝置，所述鍍膜裝置包括真空爐3、對(duì)真空爐3內(nèi)進(jìn)行抽真空的真空栗4以及對(duì)真空爐3內(nèi)進(jìn)行加壓的加壓栗5，所述真空爐3分別通過管道與真空栗4和加壓栗5連接，所述蒸發(fā)爐1、裂解爐2和真空爐3之間通過管道連通，所述裂解爐2和真空爐3之間還設(shè)置有氣動(dòng)閥6。
[0052]本實(shí)施例將納米鍍膜材料放入蒸發(fā)爐I內(nèi)蒸發(fā)成氣體，再進(jìn)入裂解爐2內(nèi)進(jìn)行裂解反應(yīng)，真空栗4對(duì)真空爐3進(jìn)行抽真空處理，經(jīng)過裂解后的氣態(tài)鍍膜材料會(huì)吸附在產(chǎn)品的表面形成一層薄膜，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、緊湊，密封性強(qiáng)，鍍膜效果好，薄膜不宜脫落，鍍膜材料采用納米材料不會(huì)生產(chǎn)有害氣體。
[0053]在鍍膜工藝中，需要將鍍膜材料放入蒸發(fā)爐里面蒸發(fā)變成氣體，然后再進(jìn)入裂解爐內(nèi)反應(yīng)，工作時(shí)，蒸發(fā)爐內(nèi)的加熱板一直保持在高溫狀態(tài)，時(shí)間長(zhǎng)的話，加熱板會(huì)因承受不了長(zhǎng)時(shí)間的高溫而出現(xiàn)損壞、使用壽命降低，導(dǎo)致蒸發(fā)爐不能正常工作，降低效率，加熱板頻繁的更換也增加了生產(chǎn)成本，如圖3至圖6所示，本實(shí)施例中，所述蒸發(fā)爐包括蒸發(fā)爐體11和密封門12，所述蒸發(fā)爐體11內(nèi)設(shè)置有蒸發(fā)室13，所述蒸發(fā)室內(nèi)設(shè)置有內(nèi)加熱板14，所述內(nèi)加熱板14包括板體，所述板體內(nèi)設(shè)置有加熱絲15和第一冷凝管16，所述蒸發(fā)爐體11的外表面設(shè)置有外層加熱板17，當(dāng)內(nèi)加熱板14完成一次加熱后，第一冷凝管16能夠?qū)?nèi)加熱板14的溫度迅速降至常溫，延長(zhǎng)使用內(nèi)加熱板14的使用壽命，防止內(nèi)加熱板14長(zhǎng)時(shí)間承受尚溫而損壞。
[0054]本實(shí)施例中，所述板體由底板141和蓋板142組成，所述蓋板142設(shè)置有若干個(gè)相互平行的第一槽位1421，相鄰的兩個(gè)第一槽位1421之間通過第一圓弧槽1422連通，若干個(gè)所述第一槽位1421和若干個(gè)所述第一圓弧槽1422內(nèi)均設(shè)置有加熱絲15，使得蓋板142的各個(gè)區(qū)域的受熱更為均勻，進(jìn)一步降低了蓋板142在工作時(shí)各個(gè)區(qū)域溫度的差異并同時(shí)進(jìn)一步提高了蓋板