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一種噴硼源支架的制作方法

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一種噴硼源支架的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種液體噴吹支架技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及噴硼源支架領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]在電子生產(chǎn)中,進(jìn)行硼擴(kuò)散大多用的是勻膠機(jī),雖然過(guò)程中感覺(jué)很均勻,可出爐后得到的結(jié)果顯示卻是不均勻的,因此參數(shù)的一致性并不是很好,并且物料耗用較多,操作繁復(fù)不簡(jiǎn)便,基于這些原因,我們考慮通過(guò)噴硼的方式來(lái)解決現(xiàn)有硼源不均勻的問(wèn)題。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)對(duì)噴硼方式的研究主要是噴硼是否均勻等方面,例如CN204295523U —種硼砂噴吹裝置,包括底座,底座上開(kāi)有固定孔并固定安裝有噴射桶,噴射桶的內(nèi)部設(shè)有喇叭狀的分流器、并且分流器的內(nèi)壁上焊接有若干導(dǎo)向葉片,分流器的闊端位于噴射桶的端面上、窄端開(kāi)口并連通至噴射桶的另一端;噴射桶的另一端固定安裝有導(dǎo)氣管,導(dǎo)氣管的一端穿過(guò)噴射桶導(dǎo)入分流器、另一端固定并連通分氣罩,分流器的窄端開(kāi)口連通至噴射桶并設(shè)有進(jìn)氣口,分氣罩的端部設(shè)有進(jìn)氣口。該專(zhuān)利以直射的方式解決了無(wú)縫鋼管生產(chǎn)領(lǐng)域噴吹的硼砂沒(méi)有擴(kuò)散角以及隨毛管管徑變化時(shí)更換噴吹裝置,一定程度上節(jié)約了物料,同時(shí)提高了先前噴硼均勻的程度。但該實(shí)用新型為固體粉末噴吹裝置,不適用于電子生產(chǎn)領(lǐng)域中的半導(dǎo)體中硼擴(kuò)涂源,其次硼和氮?dú)獠荒芡耆蛛x開(kāi)來(lái),其混合物對(duì)產(chǎn)品的參數(shù)一致性也有一定的影響,并且在操作時(shí)不能夠靈活調(diào)節(jié)硼源和氮?dú)鈬娚淇冢蛊浼葴?zhǔn)確又簡(jiǎn)便的對(duì)準(zhǔn)產(chǎn)品。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型的目的是提供一種噴硼源支架,解決現(xiàn)有電子生產(chǎn)領(lǐng)域中的硼擴(kuò)散問(wèn)題,本實(shí)用新型對(duì)噴硼源的支架進(jìn)行設(shè)計(jì),使之在操作時(shí)可靈活調(diào)節(jié)硼源和氮?dú)鈬娚淇?,使其既?zhǔn)確又簡(jiǎn)便的對(duì)準(zhǔn)產(chǎn)品,既節(jié)約材料又噴灑硼源均勻,最終使參數(shù)的一致性得到很大提尚。
[0005]本實(shí)用新型解決上述技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案如下:
[0006]—種噴硼源支架,其特征在于,包括支撐板、支撐桿、氮?dú)鈬婎^、硼源管和燒杯支架,所述支撐板上垂直連接有所述支撐桿,所述支撐桿上依次安裝有所述氮?dú)鈬婎^和所述燒杯支架,所述硼源管一端與所述氮?dú)鈬婎^端部形成負(fù)壓區(qū),另一端伸入所述燒杯支架上的燒杯內(nèi)。
[0007]本實(shí)用新型支架結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作簡(jiǎn)便,可靈活調(diào)節(jié),從而達(dá)到嚴(yán)格控制每片半導(dǎo)體上硼源的噴量,達(dá)到提高產(chǎn)品參數(shù)一致性的目的。
[0008]在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,本實(shí)用新型還可以做如下改進(jìn):
[0009]進(jìn)一步,所述支撐板上設(shè)置有滑動(dòng)裝置,所述滑動(dòng)裝置包括滑塊和軌道,所述軌道設(shè)置在所述支撐板上,所述軌道上安裝有滑塊,所述支撐桿垂直安裝在所述滑塊上,采用本步的有益效果是在支撐板上設(shè)有軌道和滑塊,滑塊可在軌道上上下滑動(dòng),從而帶動(dòng)支撐桿上下進(jìn)行位置調(diào)節(jié);
[0010]進(jìn)一步,所述氮?dú)鈬婎^與所述支撐桿之間連接有氮?dú)鈬婎^夾持塊,所述燒杯支架與所述支撐桿之間連接有燒杯夾持塊,采用本步的有益效果是氮?dú)鈬婎^夾持塊和燒杯夾持塊可在支撐桿上來(lái)回移動(dòng),從而可調(diào)整氮?dú)鈬婎^和燒杯支架之間的位置距離;
[0011]進(jìn)一步,所述硼源管形成負(fù)壓區(qū)的一端為尖嘴噴頭,采用本步的有益效果是尖嘴噴頭的設(shè)計(jì)有利于控制硼源管出口的硼源噴出量,尖嘴噴頭與氮?dú)鈬婎^貼近有利于通過(guò)氮?dú)鈿饬鲗⑴鹪磭姙⒕鶆颍?br>[0012]進(jìn)一步,所述氮?dú)鈬婎^與所述硼源管之間固定連接有L型實(shí)心管,采用本步的有益效果是通過(guò)實(shí)心管固定氮?dú)鈬婎^和硼源管之間的位置,讓它們始終不會(huì)分離過(guò)遠(yuǎn),防止操作時(shí)硼源管發(fā)生滑動(dòng)松開(kāi)或抖動(dòng),更加有利于通過(guò)控制氮?dú)鈮毫Υ笮∵M(jìn)而控制硼源噴灑面積;
[0013]進(jìn)一步,所述氮?dú)鈬婎^與所述硼源管為石英材質(zhì),采用本步的有益效果是因?yàn)槭⒉馁|(zhì)耐酸耐高溫,遇化學(xué)制劑不易腐蝕的特點(diǎn);
[0014]進(jìn)一步,所述燒杯支架包括燒杯調(diào)節(jié)桿、底盤(pán)和燒杯圈,所述燒杯調(diào)節(jié)桿與所述燒杯夾持塊螺紋連接,且燒杯調(diào)節(jié)桿下方依次安裝有所述燒杯圈、底盤(pán),所述燒杯圈位于底盤(pán)上方,采用本步的有益效果是燒杯調(diào)節(jié)桿上部與燒杯夾持塊連接部分設(shè)有螺紋,有利于調(diào)節(jié)燒杯支架的高度,使燒杯可以靈活適應(yīng)硼源管的高度;
[0015]進(jìn)一步,所述氮?dú)鈬婎^夾持塊和燒杯夾持塊上均分別設(shè)有橫向調(diào)節(jié)槽和縱向調(diào)節(jié)槽,并分別配有用于緊固的螺栓,采用本步的有益效果是橫向調(diào)節(jié)槽用于調(diào)節(jié)氮?dú)鈬婎^夾持塊和燒杯夾持塊在支撐桿上面前后移動(dòng),氮?dú)鈬婎^夾持塊上的縱向調(diào)節(jié)槽和螺栓用于調(diào)節(jié)氮?dú)鈬婎^的高度和確定位置后的緊固作用,燒杯夾持塊上的縱向調(diào)節(jié)槽和螺栓用于調(diào)節(jié)燒杯支架的高度和確定為之后的緊固作用;
[0016]進(jìn)一步,所述氮?dú)鈬婎^上方連接有空心管,所述空心管與氮?dú)鈮毫φ{(diào)節(jié)裝置連接,采用本步的有益效果是通過(guò)氮?dú)鈮毫φ{(diào)節(jié)裝置調(diào)節(jié)氮?dú)鈮毫Υ笮?,進(jìn)而控制硼源管的硼源量和硼源噴灑面積。
[0017]本實(shí)用新型工作原理:
[0018]本實(shí)用新型在使用時(shí),通過(guò)虹吸原理,氮?dú)馔ㄟ^(guò)壓力調(diào)節(jié)裝置經(jīng)過(guò)空心管吹進(jìn)氮?dú)鈬娮靸?nèi),抵達(dá)硼源管尖嘴噴頭位置形成負(fù)壓,由于壓力差的存在,硼源液體從燒杯中通過(guò)硼源管吸入上升再?gòu)募庾靽婎^位置噴灑而出,同時(shí)在氮?dú)庥绊懴?,硼源在一定范圍?nèi)噴灑均勻,這樣既解決了噴吹不勻的問(wèn)題,也減少了物料的耗用,提高了加工效率。
[0019]本實(shí)用新型的有益效果是:
[0020]1.本實(shí)用新型支架結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,在支撐板上設(shè)有軌道和滑塊,滑塊可在軌道內(nèi)上下滑動(dòng),從而帶動(dòng)支撐桿上的氮?dú)鈬婎^夾持塊和燒杯夾持塊上下移動(dòng)進(jìn)行調(diào)整,尖嘴噴頭的設(shè)計(jì)有利于控制硼源管出口的硼源噴出量,尖嘴噴頭與氮?dú)鈬婎^貼近更加有利于充分利用氮?dú)鈿饬鲗⑴鹪磭姙⒕鶆颉?br>[0021]2.本實(shí)用新型在氮?dú)鈬婎^和硼源管之間固定有實(shí)心管,使氮?dú)鈬婎^和尖嘴噴頭始終不會(huì)分離過(guò)遠(yuǎn),以防止操作時(shí)硼源管發(fā)生滑動(dòng)松開(kāi)或抖動(dòng),硼源噴灑面積不均勻或者失控。
[0022]3.本實(shí)用新型的氮?dú)鈬婎^和硼源管采用石英材質(zhì),是因?yàn)槭⒉馁|(zhì)耐酸耐高溫,遇化學(xué)制劑不易腐蝕的特點(diǎn),可延長(zhǎng)支架的使用壽命。
[0023]4.本實(shí)用新型設(shè)有用于調(diào)節(jié)氮?dú)鈬婎^夾持塊和燒杯夾持塊在支撐桿上面前后移動(dòng)的橫向調(diào)節(jié)槽,和用于調(diào)節(jié)氮?dú)鈬婎^的高度和確定位置后的緊固作用的氮?dú)鈬婎^夾持塊上的縱向調(diào)節(jié)槽和螺栓,在靈活調(diào)節(jié)支架零件的同時(shí)確保了穩(wěn)固性。
[0024]5.本實(shí)用新型通過(guò)氮?dú)鈮毫φ{(diào)節(jié)裝置調(diào)節(jié)氮?dú)鈮毫Υ笮?,進(jìn)而控制硼源管的硼源量和硼源噴灑面積。
【附圖說(shuō)明】
[0025]圖1為本實(shí)用新型具體實(shí)施例所述的一種噴硼源支架的正視圖;
[0026]圖2為本實(shí)用新型具體實(shí)施例所述的一種噴硼源支架的側(cè)視圖;
[0027]圖3為本實(shí)用新型具體實(shí)施例所述的一種噴硼源支架的俯視圖;
[0028]附圖中,各標(biāo)號(hào)所代表的部件列表如下:
[0029]1.支撐板,
[0030]2.軌道,
[0031]3.滑塊,
[0032]4.支撐桿,
[0033]5.氮?dú)鈬婎^夾持塊,
[0034]6.燒杯夾持塊,
[0035]7.氮?dú)鈬婎^,
[0036]8.硼源管,
[0037]9.尖嘴噴頭,
[0038]10.燒杯支架,
[0039]11.實(shí)心管,
[0040]12.燒杯調(diào)節(jié)桿,
[0041]13.燒杯,
[0042]14.燒杯圈,
[0043]15.底盤(pán),
[0044]16.螺栓,
[0045]17.橫向調(diào)節(jié)槽,
[0046]18.豎向調(diào)節(jié)槽,
[0047]19.螺紋,
[0048]20.空心管,
[0049]21.氮?dú)鈮毫φ{(diào)節(jié)裝置。
【具體實(shí)施方式】
[0050]以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的原理和特征進(jìn)行描述,所舉實(shí)例只用于解釋本實(shí)用新型,并非用于限定本實(shí)用新型的范圍。
[0051]本實(shí)用新型為一種噴硼源支架,包括支撐板、支撐桿、氮?dú)鈬婎^、硼源
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