一種類金剛石薄膜的磁靴增強(qiáng)磁控濺射鍍膜裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于物理氣相沉積領(lǐng)域，涉及一種類金剛石薄膜的磁靴增強(qiáng)磁控濺射鍍膜裝置，可以用于金屬薄膜、氮化物薄膜和碳化物薄膜的生長。
【背景技術(shù)】
[0002]類金剛石碳膜具有許多與金剛石相似的性能，如高硬度、低摩擦系數(shù)、高耐磨性以及良好的化學(xué)穩(wěn)定性、導(dǎo)熱性、電絕緣性、光透過性和生物相容性等，其作為新型功能薄膜材料，在許多領(lǐng)域都有著巨大的應(yīng)用前景。此外，相對于金剛石薄膜，類金剛石碳膜又具有許多獨特的優(yōu)點，如沉積溫度低、沉積面積大、沉積條件簡單、膜面平整光滑等，使得金剛石薄膜并不能完全取代它，特別是在某些要求沉積溫度低、膜面粗糙度小的場合。
[0003]近年來，隨著國IV、國V標(biāo)準(zhǔn)的實施，國內(nèi)零配件企業(yè)面臨技術(shù)落后、競爭力欠缺等困境。內(nèi)燃機(jī)工業(yè)“十二五”發(fā)展規(guī)劃指出：〃提高核心零部件制造企業(yè)的自主創(chuàng)新能力和技術(shù)競爭力是行業(yè)當(dāng)前面臨的首要問題〃。"節(jié)能與新能源汽車產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃"也提出了突破低阻零部件等技術(shù)，大幅提高發(fā)動機(jī)水平。通過采用低摩擦技術(shù)，短期內(nèi)可提高發(fā)動機(jī)效率20%，而未來15-25年內(nèi)可提高到60%以上。
[0004]一般，發(fā)動機(jī)在穩(wěn)定運行階段處于全膜潤滑，即液體潤滑，而在低速或運行停止階段時處于混合、邊界潤滑狀態(tài)。發(fā)動機(jī)關(guān)鍵零部件失效大量與摩擦磨損有關(guān)，主要體現(xiàn)在高壓共軌燃油噴射系統(tǒng)柱塞偶件、氣門挺柱、挺桿、活塞環(huán)、活塞銷、凸輪軸等摩擦副上。摩擦副元件兩金屬表面相互摩擦，由于彼此粗糙度和硬度有別或受到游離堅硬顆粒在其間滑動引起會引起元件的磨料磨損；摩擦副兩摩擦表面在交變剪切應(yīng)力反復(fù)或長期作用下，達(dá)到或超過表面材料持久極限強(qiáng)度后，會導(dǎo)致元件產(chǎn)生疲勞磨損；如，高壓共軌燃油噴射系統(tǒng)往往工作壓力高、流量大，摩擦副間溫度較高，導(dǎo)致這些摩擦副之間多處于半流體潤滑和邊界潤滑狀態(tài)，在摩擦條件趨向苛刻的過程中，一旦潤滑表面不能形成連續(xù)油膜或油膜破裂時，就造成摩擦表面的直接接觸即干摩擦，零件接觸面間摩擦阻力增大，零件表面層溫度進(jìn)一步升高，嚴(yán)重時零件表層金屬軟化，導(dǎo)致粘著磨損的發(fā)生。因此，單純依賴液體潤滑難以滿足高技術(shù)重型柴油機(jī)運動部件摩擦副的潤滑需要。對于發(fā)動機(jī)來說，迫切需要研究和發(fā)展具有超低摩擦、低磨損、高承載、高可靠性、長壽命、多環(huán)境適應(yīng)性等特性的新一代高性能低摩擦固體潤滑材料。
[0005]作為一類優(yōu)秀的固體潤滑薄膜，類金剛石碳膜在汽車領(lǐng)域得到了越來越廣泛的技術(shù)應(yīng)用，在不能進(jìn)行油潤滑的燃油這種嚴(yán)酷滑動環(huán)境中，為改善耐磨性可采用類金剛石碳膜。
[0006]但是，由于發(fā)動機(jī)運行環(huán)境苛刻，現(xiàn)有的類金剛石碳膜內(nèi)應(yīng)力大、與鋼附著力不好、機(jī)械性能差、在外力作用下容易剝落，不能滿足發(fā)動機(jī)運行環(huán)境的要求。
【實用新型內(nèi)容】
[0007]本實用新型的目的在于提供一種與基底結(jié)合牢固、摩擦系數(shù)低、耐磨性能強(qiáng)的類金剛石薄膜的磁靴增強(qiáng)磁控濺射鍍膜裝置。
[0008]一種類金剛石薄膜的磁靴增強(qiáng)磁控濺射鍍膜裝置，該裝置包括磁控濺射靶，其特征在于所述磁控濺射靶前設(shè)有磁靴，其中磁靴由一對磁場相反的電磁鐵組成，磁靴產(chǎn)生的磁場平行于磁控濺射靶的靶面。
[0009]所述磁靴產(chǎn)生的電磁場由恒流電源供電。
[0010]所述磁控濺射靶為金屬靶。
[0011]所述金屬靶為鈦、鉻、鉬或鈮靶。
[0012]所述磁控濺射靶所用電源為直流、交流、中頻脈沖、直流脈沖、或高功率脈沖電源。
[0013]使用上述裝置制備類金剛石薄膜的方法，其特征在于：將基底、磁靴、磁控濺射靶置于真空腔體中，抽真空開始充氣鍍膜；開啟磁控濺射靶，開啟磁靴，基底在腔內(nèi)做行星公轉(zhuǎn)，首先制備金屬粘結(jié)層；在氮氣和氬氣混合氣氛下，調(diào)節(jié)氣體流量比，制備一層金屬氮化物強(qiáng)化層；通入甲烷或者乙炔氣體，隨著反應(yīng)氣體的增加，依次形成碳氮化金屬層、金屬摻雜的碳氮層及氮摻雜的類金剛石薄膜。
[0014]本實用新型的基本思想是磁靴增強(qiáng)磁控濺射鍍膜裝置，通過調(diào)整磁靴的場強(qiáng)來增強(qiáng)磁控濺射的離化率和離子能量，實現(xiàn)多層復(fù)合類金剛石碳膜與基底結(jié)合牢固、摩擦系數(shù)低、耐磨性能強(qiáng)的方法。
[0015]本實用新型對比現(xiàn)有技術(shù)具有以下創(chuàng)新點：
[0016]1、使用平行于磁控濺射靶的額外磁場增加了等離子體密度和靶材離化率。
[0017]2、具磁靴增強(qiáng)磁控濺射鍍膜裝置可以有效提高類金剛石薄膜的結(jié)合力。
[0018]本實用新型對比現(xiàn)有技術(shù)具有以下顯著優(yōu)點：
[0019]I、磁靴增強(qiáng)磁控濺射鍍膜裝置離化率可以由原來的10%提高到60%。
[0020]2、具磁靴增強(qiáng)磁控濺射鍍膜裝置提高了磁控濺射的鍍膜窗口和工藝的穩(wěn)定性。
【附圖說明】
[0021]圖I為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]圖2為本實用新型制備的薄膜的結(jié)合力測試圖。
[0023]圖中：I-磁控濺射靶2-鍍膜區(qū)域3-磁靴。
【具體實施方式】
[0024]實施例I
[0025]如圖I所示，一種類金剛石薄膜的磁靴增強(qiáng)磁控濺射鍍膜裝置，該裝置包括磁控濺射靶I，磁控濺射靶I前設(shè)有磁靴3，其中磁靴3由一對磁場相反的電磁鐵組成，磁靴3產(chǎn)生的磁場平行于磁控濺射靶I的靶面。
[0026]磁靴3產(chǎn)生的電磁場由恒流電源供電。
[0027]磁控濺射靶I為金屬靶。
[0028]金屬靶為鈦、鉻、鉬或鈮靶。
[0029]磁控濺射靶I所用電源為直流、交流、中頻脈沖、直流脈沖、或高功率脈沖電源。
[0030]使用上述裝置制備類金剛石薄膜的方法，將基底、磁靴3、磁控濺射靶I置于真空腔體中，抽真空開始充氣鍍膜；開啟磁控濺射靶1，開啟磁靴3，基底在腔內(nèi)做行星公轉(zhuǎn)，首先制備金屬粘結(jié)層；在氮氣和氬氣混合氣氛下，調(diào)節(jié)氣體流量比，制備一層金屬氮化物強(qiáng)化層；通入甲烷或者乙炔氣體，隨著反應(yīng)氣體的增加，依次形成碳氮化金屬層、金屬摻雜的碳氮層及氮摻雜的類金剛石薄膜。
[0031]實施例2
[0032]采用圖I所示裝置實現(xiàn)結(jié)合牢固、摩擦系數(shù)低、耐磨性能強(qiáng)的多層復(fù)合類金剛石碳膜的制備；
[0033]1、常規(guī)的清洗：除油、除銹、烘干放進(jìn)真空室；
[0034]2、當(dāng)背底真空達(dá)到I X 10 4時開始鍍膜，用氬離子轟擊清洗，氬氣控制在O. 6-5Pa，偏壓800-1000V，導(dǎo)通比O. 2-0. 8，頻率10_50KHz，清洗10分鐘；
[0035]3、打開磁控濺射鈦靶，電流9A，占空比O. 6-0. 8，頻率10_20KHz，偏壓設(shè)置為400-600V，導(dǎo)通比O. 4-0. 6，頻率10-5000 Hz，氬氣O. 4_2Pa ;沉積10-20分鐘;電磁線圈電流IOA ;沉積金屬100-200納米；
[0036]4、沉積氮化物層，磁控電流9A，氮氣和氬氣比例I :2，偏壓150V，導(dǎo)通比O. 6，頻率5000 Hz ;電磁線圈電流IOA ;沉積氮化金屬300納米；
[0037]5、沉積碳氮化金屬/金屬摻雜碳氮層，磁控電流9A，氮氣和氬氣比例I :2，偏壓150V,導(dǎo)通比O. 6，頻率5000 Hz ；電磁線圈電流IOA ;甲烷氣體40分鐘從IOsccm調(diào)整到250sccm,沉積厚度500納米；
[0038]6、關(guān)機(jī)冷卻后得到多層復(fù)合類金剛石碳膜，呈黑色，結(jié)合力測試50N，滿足工業(yè)需求，所述方法制備的涂層具有高結(jié)合力、超韌的特性。
【主權(quán)項】
1.一種類金剛石薄膜的磁靴增強(qiáng)磁控濺射鍍膜裝置，該裝置包括磁控濺射靶（I )，其特征在于所述磁控濺射靶（I)前設(shè)有磁靴（3)，其中磁靴（3)由一對磁場相反的電磁鐵組成，磁靴（3)產(chǎn)生的磁場平行于磁控濺射靶（I)的靶面。2.如權(quán)利要求I所述的裝置，其特征在于所述磁靴（3)產(chǎn)生的電磁場由恒流電源供電。3.如權(quán)利要求I所述的裝置，其特征在于所述磁控濺射靶（I)為金屬靶。4.如權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于所述金屬靶為鈦、鉻、鉬或鈮靶。5.如權(quán)利要求I所述的裝置，其特征在于所述磁控濺射靶（I)所用電源為直流、交流、中頻脈沖、直流脈沖、或高功率脈沖電源。
【專利摘要】本實用新型屬于物理氣相沉積領(lǐng)域,公開了一種類金剛石薄膜的磁靴增強(qiáng)磁控濺射鍍膜裝置，該裝置包括磁控濺射靶，磁控濺射靶前設(shè)有磁靴，其中磁靴由一對磁場相反的電磁鐵組成，磁靴產(chǎn)生的磁場平行于磁控濺射靶的靶面。本實用新型磁靴增強(qiáng)磁控濺射鍍膜裝置離化率可以由原來的10%提高到60%。
【IPC分類】C23C14/06, C23C14/35
【公開號】CN205152321
【申請?zhí)枴緾N201520837488
【發(fā)明人】張斌, 張俊彥, 高凱雄, 強(qiáng)力
【申請人】中國科學(xué)院蘭州化學(xué)物理研究所
【公開日】2016年4月13日
【申請日】2015年10月27日