磁控濺射鍍膜機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實(shí)用新型屬于靶材制造領(lǐng)域，具體涉及磁控濺射鍍膜機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]鍍膜靶材是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類(lèi)型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。其中基板經(jīng)過(guò)制粉、煅燒、燒結(jié)之后，制成基板毛料，基板毛料經(jīng)過(guò)平面磨床拋光打磨之后進(jìn)行濺射鍍膜，目前所采用的基板鍍膜機(jī)，多數(shù)采用濺射器移動(dòng)而基板固定的方式進(jìn)行生產(chǎn)，此種方式比較節(jié)能，并且設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，便于操作，但是由于濺射器所涉及設(shè)備體量較大，移動(dòng)不便，容易造成鍍膜厚度不均勻。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了磁控濺射鍍膜機(jī)，能夠避免鍍膜不均勻的問(wèn)題，提高基板生產(chǎn)合格率。
[0004]本實(shí)用新型采用的具體技術(shù)方案是:
[0005]磁控濺射鍍膜機(jī)，包括呈密封結(jié)構(gòu)的殼體，殼體內(nèi)安裝有濺射器，所述殼體內(nèi)設(shè)置有基板安裝架，所述的基板安裝架為圓筒形結(jié)構(gòu)，基板安裝架外側(cè)壁上設(shè)置有基板安裝位，基板安裝架動(dòng)力連接有電動(dòng)機(jī)，電動(dòng)機(jī)的軸線(xiàn)與基板安裝架軸線(xiàn)重合設(shè)置，電動(dòng)機(jī)固定設(shè)置在殼體底面，基板安裝架還連接有負(fù)極連接線(xiàn)。
[0006]所述的基板安裝位包括設(shè)置在基板安裝架的外側(cè)壁并且上、下相對(duì)的上固定槽及下固定槽，上固定槽及下固定槽都為U型槽體結(jié)構(gòu)，上固定槽及下固定槽環(huán)繞基板安裝架設(shè)置有多組。
[0007]所述的上固定槽與基板安裝架固定連接，下固定槽借助基板安裝架上設(shè)置的安裝槽形成活動(dòng)連接，安裝槽內(nèi)設(shè)置有彈簧，彈簧設(shè)置在下固定槽底面與安裝槽底面之間，所述的下固定槽側(cè)壁還設(shè)置有限位臺(tái)，限位臺(tái)與安裝槽內(nèi)設(shè)置的限位槽形成限位配合。
[0008]所述的負(fù)極連接線(xiàn)與電動(dòng)機(jī)之間借助石墨套環(huán)連接，石墨套環(huán)套裝在電動(dòng)機(jī)輸出軸上。
[0009]本實(shí)用新型的有益效果是:
[0010]本實(shí)用新型，采用旋轉(zhuǎn)的基板安裝架將基板裝設(shè)在殼體內(nèi)進(jìn)行濺射鍍膜，與現(xiàn)有的濺射器移動(dòng)、基板固定的方式相比，基板移動(dòng)更加靈活、速度容易保證，鍍膜更加穩(wěn)定，能夠有效避免發(fā)生鍍膜不均勻的問(wèn)題，生產(chǎn)效率更高。
【附圖說(shuō)明】
[0011]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖2為下固定槽的結(jié)構(gòu)不意圖；
[0013]附圖中，1、殼體，2、濺射器，3、基板安裝架，4、電動(dòng)機(jī)，5、負(fù)極連接線(xiàn)，6、上固定槽，
7、下固定槽，8、安裝槽，9、彈簧，10、限位臺(tái)，11、限位槽，12、石墨套環(huán)。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明:
[0015]具體實(shí)施例如圖1及圖2所示，本實(shí)用新型為磁控濺射鍍膜機(jī)，包括呈密封結(jié)構(gòu)的殼體I，殼體I內(nèi)安裝有濺射器2，所述殼體I內(nèi)設(shè)置有基板安裝架3，所述的基板安裝架3為圓筒形結(jié)構(gòu)，基板安裝架3外側(cè)壁上設(shè)置有基板安裝位，基板安裝架3動(dòng)力連接有電動(dòng)機(jī)4，電動(dòng)機(jī)4的軸線(xiàn)與基板安裝架3軸線(xiàn)重合設(shè)置，電動(dòng)機(jī)4固定設(shè)置在殼體I底面，基板安裝架還連接有負(fù)極連接線(xiàn)5。本實(shí)用新型在使用時(shí)，濺射器I帶正電，基板安裝架帶負(fù)電，殼體I內(nèi)為真空環(huán)境，并灌入帶電的鍍膜離子，在濺射器I及基板安裝架之間的電場(chǎng)中，帶電的鍍膜用離子加速撞擊基板形成鍍層。
[0016]為了方便將基板安裝到安裝位中，所述的基板安裝位包括設(shè)置在基板安裝架3的外側(cè)壁并且上、下相對(duì)的上固定槽6及下固定槽7，上固定槽6及下固定槽7都為U型槽體結(jié)構(gòu)，上固定槽6及下固定槽7環(huán)繞基板安裝架3設(shè)置有多組。
[0017]所述的上固定槽6與基板安裝架3固定連接，下固定槽7借助基板安裝架3上設(shè)置的安裝槽8形成活動(dòng)連接，安裝槽8內(nèi)設(shè)置有彈簧9，彈簧9設(shè)置在下固定槽7底面與安裝槽8底面之間，所述的下固定槽7側(cè)壁還設(shè)置有限位臺(tái)10，限位臺(tái)10與安裝槽8內(nèi)設(shè)置的限位槽11形成限位配合。
[0018]為了降低負(fù)極連接線(xiàn)的斷路風(fēng)險(xiǎn)，所述的負(fù)極連接線(xiàn)5與電動(dòng)機(jī)4之間借助石墨套環(huán)12連接，石墨套環(huán)12套裝在電動(dòng)機(jī)4輸出軸上。
[0019]本實(shí)用新型，在使用時(shí)將基板安裝到設(shè)備中，借助于下固定槽將基板卡接在機(jī)板安裝架上，采用旋轉(zhuǎn)的基板安裝架將基板裝設(shè)在殼體內(nèi)進(jìn)行濺射鍍膜，與現(xiàn)有的濺射器移動(dòng)、基板固定的方式相比，基板移動(dòng)更加靈活、速度容易保證，鍍膜更加穩(wěn)定，能夠有效避免發(fā)生鍍膜不均勻的問(wèn)題，生產(chǎn)效率更高。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.磁控濺射鍍膜機(jī)，包括呈密封結(jié)構(gòu)的殼體(I)，殼體(I)內(nèi)安裝有濺射器(2)，所述殼體(I)內(nèi)設(shè)置有基板安裝架(3)，其特征在于:所述的基板安裝架(3)為圓筒形結(jié)構(gòu)，基板安裝架(3)外側(cè)壁上設(shè)置有基板安裝位，基板安裝架(3)動(dòng)力連接有電動(dòng)機(jī)(4)，電動(dòng)機(jī)(4)的軸線(xiàn)與基板安裝架(3)軸線(xiàn)重合設(shè)置，電動(dòng)機(jī)(4)固定設(shè)置在殼體(I)底面，基板安裝架還連接有負(fù)極連接線(xiàn)(5)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述磁控濺射鍍膜機(jī)，其特征在于:所述的基板安裝位包括設(shè)置在基板安裝架(3)的外側(cè)壁并且上、下相對(duì)的上固定槽(6)及下固定槽(7)，上固定槽(6)及下固定槽(7)都為U型槽體結(jié)構(gòu)，上固定槽(6)及下固定槽(7)環(huán)繞基板安裝架(3)設(shè)置有多組。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述磁控濺射鍍膜機(jī)，其特征在于:所述的上固定槽(6)與基板安裝架(3)固定連接，下固定槽(7)借助基板安裝架(3)上設(shè)置的安裝槽(8)形成活動(dòng)連接，安裝槽(8)內(nèi)設(shè)置有彈簧(9)，彈簧(9)設(shè)置在下固定槽(7)底面與安裝槽(8)底面之間，所述的下固定槽(7)側(cè)壁還設(shè)置有限位臺(tái)(10)，限位臺(tái)(10)與安裝槽(8)內(nèi)設(shè)置的限位槽(11)形成限位配合。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述磁控濺射鍍膜機(jī)，其特征在于:所述的負(fù)極連接線(xiàn)(5)與電動(dòng)機(jī)(4)之間借助石墨套環(huán)(12)連接，石墨套環(huán)(12)套裝在電動(dòng)機(jī)(4)輸出軸上。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型屬于靶材制造領(lǐng)域，具體涉及磁控濺射鍍膜機(jī)，包括呈密封結(jié)構(gòu)的殼體，殼體內(nèi)安裝有濺射器，所述殼體內(nèi)設(shè)置有基板安裝架，所述的基板安裝架為圓筒形結(jié)構(gòu)，基板安裝架外側(cè)壁上設(shè)置有基板安裝位，基板安裝架動(dòng)力連接有電動(dòng)機(jī)，電動(dòng)機(jī)的軸線(xiàn)與基板安裝架軸線(xiàn)重合設(shè)置，電動(dòng)機(jī)固定設(shè)置在殼體底面，基板安裝架還連接有負(fù)極連接線(xiàn)。本實(shí)用新型，采用旋轉(zhuǎn)的基板安裝架將基板裝設(shè)在殼體內(nèi)進(jìn)行濺射鍍膜，與現(xiàn)有的濺射器移動(dòng)、基板固定的方式相比，基板移動(dòng)更加靈活、速度容易保證，鍍膜更加穩(wěn)定，能夠有效避免發(fā)生鍍膜不均勻的問(wèn)題，生產(chǎn)效率更高。
【IPC分類(lèi)】C23C14/35
【公開(kāi)號(hào)】CN205258594
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201521061849
【發(fā)明人】崔娜, 朱輝, 閆麗娜, 張衛(wèi), 康林杰, 郄奕
【申請(qǐng)人】河北東同光電科技有限公司
【公開(kāi)日】2016年5月25日
【申請(qǐng)日】2015年12月18日