一種自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】一種自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)，包括有真空室、氧氣供給組件、尾氣排出組件以及控制器，真空室具有氧氣供給安裝口以及尾氣排出安裝口；氧氣供給組件包括有氧氣瓶、氧氣供給通路、電子閥，電子閥設(shè)置于氧氣供給通路上，氧氣供給通路與氧氣供給安裝口以及氧氣瓶連接；尾氣排出組件包括有靜電吸附裝置、尾氣排出通路，尾氣排出通路與尾氣排出安裝口連接，尾氣排出通路的另一端設(shè)置有靜電吸附裝置，靜電吸附裝置設(shè)置于尾氣排出通路尾端的管路內(nèi)部；還包括有加熱器，加熱器設(shè)置于氧氣供給通路上。設(shè)置加熱器，能夠?qū)Τ淙氲秸婵帐覂?nèi)的氧氣進行預(yù)熱，避免低溫氧氣進入真空室造成真空室的溫度驟降，對氧氣預(yù)熱能夠提高透鏡鍍膜的品質(zhì)。
【專利說明】
一種自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及光學(xué)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，特別涉及一種自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，在自聚焦透鏡的生產(chǎn)工藝中，為了提高透鏡的透過率，一般都會對透鏡的端部進行鍍膜處理。傳統(tǒng)的透鏡鍍膜都是在反應(yīng)室內(nèi)進行，由于鍍膜需要在高溫環(huán)境下進行，所以在鍍膜工藝開始前就需要對反應(yīng)室進行升溫，一般在200-250°C之間，當溫度升高后才能夠進行后續(xù)的充氧鍍膜。
[0003]在傳統(tǒng)工藝中，氧氣是需要持續(xù)不斷地充入到反應(yīng)室內(nèi)以保證反應(yīng)室內(nèi)氣壓穩(wěn)定，然而，不斷充入的氧氣氣體溫度較低，直接進入到反應(yīng)室內(nèi)會降低反應(yīng)室內(nèi)的溫度，從而影響鍍膜效果。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]可見，如何在鍍膜過程中，氧氣供給操作不會對反應(yīng)室溫度產(chǎn)生影響，成為了本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問題。
[0005]本實用新型提供了一種自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)，包括有真空室、氧氣供給組件、尾氣排出組件以及控制器，所述真空室具有氧氣供給安裝口以及尾氣排出安裝口；
[0006]所述氧氣供給組件包括有氧氣瓶、氧氣供給通路、電子閥，所述電子閥設(shè)置于所述氧氣供給通路上用于導(dǎo)通或者閉合所述氧氣供給通路，所述氧氣供給通路的一端與所述氧氣供給安裝口連接，所述氧氣供給通路的另一端與所述氧氣瓶連接，所述電子閥與所述控制器信號連接；
[0007]所述尾氣排出組件包括有靜電吸附裝置、尾氣排出通路，所述尾氣排出通路的一端與所述尾氣排出安裝口連接，所述尾氣排出通路的另一端設(shè)置有所述靜電吸附裝置，所述靜電吸附裝置設(shè)置于所述尾氣排出通路尾端的管路內(nèi)部；
[0008]還包括有加熱器以及熱傳感器，所述加熱器以及所述熱傳感器均設(shè)置于所述氧氣供給通路上，所述加熱器以及所述熱傳感器均與所述控制器信號連接。
[0009]優(yōu)選地，所述熱傳感器設(shè)置于所述氧氣供給通路與所述氧氣供給安裝口連接的通路管口上。
[0010]優(yōu)選地，所述氧氣供給通路包括有主管路以及分支管路，所述分支管路包括有多個，全部的所述分支管路與所述主管路連通;所述加熱器設(shè)置于所述主管路內(nèi)，所述熱傳感器設(shè)置于所述分支管路上。
[0011]優(yōu)選地，所述真空室為正方體結(jié)構(gòu)，于所述真空室的各個側(cè)壁上均設(shè)置有一個所述分支管路。
[0012]優(yōu)選地，本實用新型還包括有熱回收裝置，所述熱回收裝置包括有熱回收管、集熱箱體以及循環(huán)栗;所述熱回收管設(shè)置于所述尾氣排出通路內(nèi)，所述熱回收管與所述集熱箱體連接，所述集熱箱體用于裝載導(dǎo)熱介質(zhì)，所述熱回收管用于導(dǎo)熱介質(zhì)的流通，所述循環(huán)栗設(shè)置于所述熱回收管上。
[0013]優(yōu)選地，于所述集熱箱體上還設(shè)置有熱能輸出管;所述熱能輸出管上設(shè)置有循環(huán)栗，所述熱能輸出管設(shè)置于所述氧氣供給通路內(nèi)。
[0014]優(yōu)選地，所述熱回收管為金屬管;所述熱能輸出管為金屬管。
[0015]通過上述結(jié)構(gòu)設(shè)計，本實用新型提供的自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)基于現(xiàn)有基礎(chǔ)，特別提供了控制器、加熱器以及靜電吸附裝置，其中，控制器能夠?qū)崿F(xiàn)本實用新型的自動控制，從而減少人為干預(yù)，降低出錯率。設(shè)置加熱器，能夠?qū)Τ淙氲秸婵帐覂?nèi)的氧氣進行預(yù)熱，避免低溫氧氣進入真空室造成真空室的溫度驟降，對氧氣預(yù)熱能夠提高透鏡鍍膜的品質(zhì)。靜電吸附裝置能夠?qū)﹀兡の矚膺M行處理，避免尾氣中的離子雜質(zhì)散播到空氣中，避免出現(xiàn)空氣污染的情況出現(xiàn)。
【附圖說明】
[0016]圖1為本實用新型實施例中自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]在圖1中，圖中標記如下所示:
[0018]真空室1、控制器2、氧氣瓶3、靜電吸附裝置4、加熱器5。
【具體實施方式】
[0019]下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型的實施方式作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本實用新型，但不能用來限制本實用新型的范圍。
[0020]在本實用新型的描述中，除非另有說明，“多個”的含義是兩個或兩個以上；術(shù)語“上”、“下”、“左”、“右”、“內(nèi)”、“外”、“前端”、“后端”、“頭部”、“尾部”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本實用新型的限制。
[0021]在本實用新型的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接;可以是機械連接，也可以是電連接;可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語在本實用新型中的具體含義。
[0022]請參考圖1，圖1為本實用新型實施例中自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]本實用新型提供了一種自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)，包括有真空室1、氧氣供給組件、尾氣排出組件以及控制器2。
[0024]在上述結(jié)構(gòu)設(shè)計中:
[0025]真空室I，真空室I采用高強度鋼板制成，在真空室I內(nèi)壁設(shè)置一層耐高溫板材，例如陶瓷或者耐熱磚，采用鋼板制成真空室I的外層框架，能夠提高真空室I的結(jié)構(gòu)強度，從而保證真空室I能夠承受非常高的真空度，在真空室I內(nèi)設(shè)置耐高溫板材，能夠避免在真空室I室內(nèi)加熱時鋼板變形的情況出現(xiàn)。在本實用新型中，真空室I具有氧氣供給安裝口以及尾氣排出安裝口，安裝到上述兩個安裝口上的管路采用法蘭連接，如此可以保證管路連接的可靠性以及保證連接部位保持較高的氣密性。
[0026]控制器2為工控單片機，其具有邏輯、控制功能，控制器2與顯示器以及輸入設(shè)備連接，顯示器能夠?qū)刂菩畔⒌冗M行顯示，輸入設(shè)備則能夠?qū)刂破?的控制參數(shù)進行更改?？刂破?與本實用新型中涉及到的電子設(shè)備連接，控制器2能夠以時間為參數(shù)也可以以傳感器的監(jiān)測信號為參數(shù)對這些電子設(shè)備進行智能控制。
[0027]氧氣供給組件，氧氣供給組件包括有氧氣瓶3、氧氣供給通路、電子閥，電子閥設(shè)置于氧氣供給通路上用于導(dǎo)通或者閉合氧氣供給通路，氧氣供給通路的一端與氧氣供給安裝口連接，氧氣供給通路的另一端與氧氣瓶3連接，電子閥與控制器2信號連接。氧氣供給通路可以采用PE管或者鋼管，氧氣供給通路與氧氣瓶3之間通過螺紋接口方式連接，這樣不僅便于氧氣瓶3的更換，還能夠保證連接的可靠性以及提高連接的氣密性。電子閥采用現(xiàn)有技術(shù)中常用的電子閥，電子閥安裝到氧氣供給通路上，通過控制器2對電子閥的控制，能夠?qū)崿F(xiàn)氧氣供給通路的開、閉。氧氣供給通路與氧氣供給安裝口連接，能夠向真空室I供給氧氣，以便于鍍膜工藝的進行。
[0028]尾氣排出組件，尾氣排出組件包括有靜電吸附裝置4、尾氣排出通路，尾氣排出通路的一端與尾氣排出安裝口連接，尾氣排出通路的另一端設(shè)置有靜電吸附裝置4，靜電吸附裝置4設(shè)置于尾氣排出通路尾端的管路內(nèi)部。對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，在對透鏡進行鍍膜時，真空室I排出的尾氣會包含有較多的離子雜質(zhì)，為了對尾氣進行凈化，本實用新型特別設(shè)置了靜電吸附裝置4，靜電吸附裝置4安裝在尾氣排出通路上利用靜電的吸附作用能夠?qū)⑽矚庵械碾x子雜質(zhì)進行靜電吸附，從而避免尾氣污染的情況出現(xiàn)。
[0029]熱傳感器，熱傳感器采用現(xiàn)有技術(shù)中常用的熱傳感器，熱傳感器的溫度檢測范圍為30 °C_350°C。熱傳感器與控制器2連接，能夠?qū)⑵錂z測到的溫度檢測信號發(fā)送給控制器2，控制器2能夠以該溫度檢測信號作為控制參數(shù)對加熱器5進行控制。
[0030]熱加熱，加熱器5為電熱管加熱器5，加熱器5設(shè)置在氧氣供給通路上(可以設(shè)置在氧氣供給通路內(nèi)，也可以設(shè)置在氧氣供給通路外側(cè))，通過熱傳感作用對經(jīng)過氧氣供給通路的氧氣進行加熱。
[0031]通過上述結(jié)構(gòu)設(shè)計，本實用新型提供的自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)基于現(xiàn)有基礎(chǔ)，特別提供了控制器2、加熱器5以及靜電吸附裝置4，其中，控制器2能夠?qū)崿F(xiàn)本實用新型的自動控制，從而減少人為干預(yù)，降低出錯率。設(shè)置加熱器5，能夠?qū)Τ淙氲秸婵帐襂內(nèi)的氧氣進行預(yù)熱，避免低溫氧氣進入真空室I造成真空室I的溫度驟降，對氧氣預(yù)熱能夠提高透鏡鍍膜的品質(zhì)。靜電吸附裝置4能夠?qū)﹀兡の矚膺M行處理，避免尾氣中的離子雜質(zhì)散播到空氣中，避免出現(xiàn)空氣污染的情況出現(xiàn)。
[0032]具體地，熱傳感器設(shè)置于氧氣供給通路與氧氣供給安裝口連接的通路管口上。將熱傳感器設(shè)置在接近真空室I的氧氣供給安裝口上，能夠最大程度地保證氧氣在進入到真空室I時與真空室I內(nèi)的溫度最為接近。
[0033]氧氣是氣相鍍膜中必不可少的“參與者”，為了提高鍍膜品質(zhì)，氧氣需要完全包裹住透鏡。為了達到上述目的，本實用新型對氧氣供給通路進行了結(jié)構(gòu)優(yōu)化:氧氣供給通路包括有主管路以及分支管路，分支管路包括有多個，全部的分支管路與主管路連通;加熱器5設(shè)置于主管路內(nèi)，熱傳感器設(shè)置于分支管路上。設(shè)置有多個分支管路，并將分支管路分別設(shè)置到真空室I不同的側(cè)壁上，這樣能夠使得氧氣呈360°充入到真空室I內(nèi)。
[0034]具體地，真空室I為正方體結(jié)構(gòu)，于真空室I的各個側(cè)壁上均設(shè)置有一個分支管路。
[0035]當然，在本實用新型的其他實施方式中，真空室I還可以采用球形結(jié)構(gòu)。
[0036]在對透鏡進行鍍膜時，真空室I內(nèi)的溫度一般會維持在200_250°C之間，鍍膜產(chǎn)生的尾氣從真空室I內(nèi)直接排出，尾氣溫度較高，蘊含的熱能加多，如果將尾氣直接排放，其會造成熱能的損失。為了能夠?qū)ξ矚庵械臒崮苓M行回收利用，本實用新型還提供了熱回收裝置，熱回收裝置包括有熱回收管、集熱箱體以及循環(huán)栗;熱回收管設(shè)置于尾氣排出通路內(nèi)，熱回收管與集熱箱體，集熱箱體用于裝載導(dǎo)熱介質(zhì)，熱回收管用于導(dǎo)熱介質(zhì)的流通，循環(huán)栗設(shè)置于熱回收管上。熱回收裝置以純凈水作為介質(zhì)在熱回收管以及集熱箱體內(nèi)流通。熱回收管設(shè)置在尾氣排出通路內(nèi)，通過熱交換作用吸收尾氣中的熱能，熱回收管內(nèi)的介質(zhì)溫度升高，然后在循環(huán)栗的作用下回流至集熱箱體中，集熱箱體內(nèi)盛裝的熱水能夠作為其他用途使用。
[0037]由上述結(jié)構(gòu)可知:集熱箱體內(nèi)的介質(zhì)為純凈的熱水，熱水包含有大量的熱能。而在本實用新型中又需要對氧氣進行加熱，為了能夠?qū)崿F(xiàn)熱能的利用，本實用新型于集熱箱體上還設(shè)置有熱能輸出管;熱能輸出管上設(shè)置有循環(huán)栗，熱能輸出管設(shè)置于氧氣供給通路內(nèi)。
[0038]具體地，熱回收管為金屬管;熱能輸出管為金屬管。
[0039]本實用新型的具體鍍膜工藝流程為:在真空室I內(nèi)升溫，對透鏡進行烘烤，烘烤溫度為255°C ;對真空室I抽真空，當真空度達到0.002Pa時，充入氧氣，使真空室I的壓強保持在0.02Pa左右;打開離子源轟擊透鏡基底5min后，打開電子槍進行蒸鍍，其中，二氧化硅的蒸發(fā)速率為0.lnm/s，五氧化二鉭的蒸發(fā)速率為0.2nm/s。
[0040]以上對本實用新型所提供的一種自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)進行了詳細介紹，對于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本實用新型實施例的思想，在【具體實施方式】及應(yīng)用范圍上均會有改變之處，綜上所述，本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對本實用新型的限制。
【主權(quán)項】
1.一種自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)，包括有真空室(I)、氧氣供給組件、尾氣排出組件以及控制器(2)，其特征在于， 所述真空室具有氧氣供給安裝口以及尾氣排出安裝口； 所述氧氣供給組件包括有氧氣瓶(3)、氧氣供給通路、電子閥，所述電子閥設(shè)置于所述氧氣供給通路上用于導(dǎo)通或者閉合所述氧氣供給通路，所述氧氣供給通路的一端與所述氧氣供給安裝口連接，所述氧氣供給通路的另一端與所述氧氣瓶連接，所述電子閥與所述控制器信號連接； 所述尾氣排出組件包括有靜電吸附裝置(4)、尾氣排出通路，所述尾氣排出通路的一端與所述尾氣排出安裝口連接，所述尾氣排出通路的另一端設(shè)置有所述靜電吸附裝置，所述靜電吸附裝置設(shè)置于所述尾氣排出通路尾端的管路內(nèi)部； 還包括有加熱器(5)以及熱傳感器，所述加熱器以及所述熱傳感器均設(shè)置于所述氧氣供給通路上，所述加熱器以及所述熱傳感器均與所述控制器信號連接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)，其特征在于， 所述熱傳感器設(shè)置于所述氧氣供給通路與所述氧氣供給安裝口連接的通路管口上。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)，其特征在于， 所述氧氣供給通路包括有主管路以及分支管路，所述分支管路包括有多個，全部的所述分支管路與所述主管路連通； 所述加熱器設(shè)置于所述主管路內(nèi)，所述熱傳感器設(shè)置于所述分支管路上。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)，其特征在于， 所述真空室為正方體結(jié)構(gòu)，于所述真空室的各個側(cè)壁上均設(shè)置有一個所述分支管路。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)，其特征在于， 還包括有熱回收裝置，所述熱回收裝置包括有熱回收管、集熱箱體以及循環(huán)栗； 所述熱回收管設(shè)置于所述尾氣排出通路內(nèi)，所述熱回收管與所述集熱箱體連接，所述集熱箱體用于裝載導(dǎo)熱介質(zhì)，所述熱回收管用于導(dǎo)熱介質(zhì)的流通，所述循環(huán)栗設(shè)置于所述熱回收管上。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)，其特征在于， 于所述集熱箱體上還設(shè)置有熱能輸出管； 所述熱能輸出管上設(shè)置有循環(huán)栗，所述熱能輸出管設(shè)置于所述氧氣供給通路內(nèi)。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的自聚焦透鏡用鍍膜系統(tǒng)，其特征在于， 所述熱回收管為金屬管； 所述熱能輸出管為金屬管。
【文檔編號】C23C16/455GK205603670SQ201620212297
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年3月20日
【發(fā)明人】宋海峰
【申請人】杰訊光電(福建)有限公司