專利名稱：氧化銦錫粉末及其分散體的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及表面經改性的氫氧化銦錫(indium tin oxohydrate)的附聚物及其制備方法。本發(fā)明還涉及用于制備表面經改性的氧化銦錫的附聚物的方法，且涉及該氧化 銦錫(ITO)的表面經改性的附聚物本身。本發(fā)明又涉及用于制備表面經改性的氧化銦錫(ITO)的粉末的方法及其分散 體，且涉及粉末和分散體本身。本發(fā)明還涉及使用該表面經改性的氧化銦錫的附聚物或該表面經改性的氧化銦 錫的粉末制造涂布和成形材料的方法。
背景技術：
氧化銦錫層值得注意的是高透明性、高導電性和高IR吸收能力。這種層可例如 經由濺射法或經由施涂呈分散體形態(tài)的氧化銦錫粉末獲得。為了制備氧化銦錫粉末，下列各種方法為已知的(共)沉淀法、水熱法、溶 膠-凝膠法、等離子體法或熱解法。US5818810公開了 ITO粉末，其具有根據在xy色標上0.220至0.295的χ值及 0.235至0.352的y值，且其具有10.110至10.160埃的晶格常數。其可經由在碳酸銨存在 下使含有錫和銦化合物的溶液沉淀，移去且干燥該沉淀物并于450至750°C的溫度在還原 氣氛中煅燒而獲得。DE-A-19650747說明了具有0.05至1 μ m粒徑且小于0.2重量％的鹵素含量的 ITO粉末。其可以用堿將銦和錫鹽溶液的pH調整至4至6的pH值，移去并干燥所形成 的沉淀物，并于600至1200°C的溫度，視需要在還原氣氛中煅燒而獲得。此粉末的缺點 為涂布基材的低透明性。EP-A-921099公開了包含以氨中和含有銦鹽和錫鹽的溶液，移去且干燥沉淀 物，然后煅燒(先在550至700°C的空氣下，接著在350至450°C的還原條件下)的方法。 由此獲得的ITO粉末具有密度不小于6.5g · cm3、壓坯密度不小于3.0g · cm3和20°C 時的Seebeck系數小于30 μ V · cm 3且在加熱至200°C之后小于80 μ V.cm 3的鋼玉晶體結 構。制備此粉末時必要的是將pH維持在6.8至7.5的范圍及在煅燒時維持350至450°C 的溫度。W00014017公開了用于制備基于表面 經改性的ITO的懸浮液和粉末，其中銦和 錫的化合物在表面改性成分存在下共沉淀，從所得的粉末移除溶劑接著煅燒，隨后添加 一或多種表面改性成分和一或多種溶劑，對所得的混合物施以粉碎或分散處理以形成分 散體，并且從該懸浮液移除任何液態(tài)成分以獲得粉末。所用的表面改性成分可為單-或 多羧酸類、二酮類、氨基酸類、聚環(huán)氧乙烷衍生物、胺類或酰胺類，或二或更多種這些 成分的混合物。W02004/000594公開了用于制備ITO粉末的方法，其中將經由提高pH使可溶性銦和錫成分沉淀的共沉淀方法所獲得的產物干燥，經由在300°C于正?？諝夥障绿幚磙D化 為結晶相，接著于300°C在氮氫混合氣體下進行進一步的熱處理。所得的ITO粉末具有 根據xy色標χ值=0.294至0.414和y = 0.332至0.421的y值。 此已知的共沉淀方法導致具有與透明度、導電性和IR吸收能力有關的缺陷的產 物。因此本發(fā)明的目的在于提供導致具有良好性質的ITO粉末的方法。

發(fā)明內容
根據本發(fā)明，附聚物意指通過內聚力結合在一起的初級顆粒。所得的三維結構 可以此形態(tài)進行處理，并且在剪切能量作用下散開而得到相互分離的初級顆粒。此外， 根據本發(fā)明的附聚物也含有小比例，少于8%，一般少于5%的相互牢固結合的初級顆 粒，這也是可能的。牢固結合的初級顆粒的數量一般為2至10個。根據本發(fā)明，該附 聚物可經由噴霧干燥獲得。附聚物通常具有5至50 μ m的平均附聚物直徑。根據本發(fā)明，相互完全或實質上完全分離的初級顆粒意指粉末。若相互牢固結 合的初級顆粒存在的話，則相互牢固結合的初級顆粒的數量一般限制為2至10個。平均 初級顆粒直徑可為2至50nm。根據本發(fā)明，該粉末可由附聚物通過剪切力的作用獲得。氫氧化銦錫基本上理解為是指X-射線-非晶形顆粒。該氫氧化物可含有小比例 的結晶性化合物。本發(fā)明的氫氧化銦錫可經由特定熱處理而轉化為主要或完全由立方形 的氧化銦錫所組成的氧化銦錫。根據本發(fā)明，該氧化銦錫基本為銦和錫的混合氧化物。銦和錫可以一種氧化態(tài) 或不同氧化態(tài)存在其中。例如，存在In (+1)和/或In (+III)和Sn (+II)和/或Sn (+IV)。 Sn優(yōu)選以Sn (+IV)的形態(tài)存在。銦和錫也可視需要部分以In(O)或Sn(O)的形態(tài)存在。該氧化銦錫為摻錫的氧化銦，即氧化錫的比例比氧化銦的比例低。錫的比例基 于銦(以In的形態(tài)計算)和錫(以Sn的形態(tài)計算)的總和為例如2至20重量％。本發(fā) 明的氧化銦錫具有主要或完全的立方形的氧化銦錫作為結晶相。根據本發(fā)明，氫氧化銦錫和氧化銦錫可能含有雜質。可接受的程度取決于最終 用途。通過反應物，可能存在，例如，SO廣、Co、Cu、Fe、Ni、Pb、Zn、K或Na。 通過使用純的反應物，可能帶來低于0.005重量％的SOf、Ca、Co、Cu、Fe、Ni、Pb 和Zn，和低于0.01重量％的Na、K。經由此方法所加入的化合物例如NH4+*Cl_必要的 話可幾乎完全被除去。一般，以該表面經改性的氫氧化銦錫和氧化銦錫為基準，存在少于1重量％的 雜質。表面改性應理解為意指有機分子和/或這種分子的片段，其一般不多于總共24 個，尤其是不多于總共18個且更優(yōu)選不多于總共12個碳原子，是經由共價或離子鍵和/ 或極性(偶極_偶極交互作用)或范德華力鍵結合至部分表面。片段可例如通過有機分 子的局部熱劣化引起。在本發(fā)明中，表面改性是通過碳的比例予以表示。本發(fā)明首先提供具有下列比例的表面經改性的氫氧化銦錫的附聚物· 80至98.9重量％，優(yōu)選90至96重量％的銦，以In計算，· 2至20重量％，優(yōu)選4至10重量％的錫，以Sn計算，·0.01至1重量％，優(yōu)選0.01至0.1重量％的碳，
·其中這些比例的總和以銦、錫和碳的總和為基準至少為99重量％。該附聚物具有5至50 μ m，優(yōu)選10至20 μ m的平均聚集體直徑，且可經由簡單 的分散主要或完全地分成初級顆粒。該氫氧化銦錫的附聚物的BET表面積優(yōu)選為50至200m2/g，且更優(yōu)選為80至 140m2/go本發(fā)明另外提供用于制備該表面經改性的附聚物的方法，其中a)從溶解的反應產物和反應混合物的未轉化原料中移去調整至pH為3.5至4.5的 含有銦和錫的化合物和一或多種表面改性成分的水溶液，和b)對所得的分散體施以噴霧干燥。適合的銦化合物為氯化銦、碘化銦、硝酸銦、醋酸銦、硫酸銦、烷氧基銦如甲 氧基銦、乙氧基銦或它們的混合物，其中銦在氯化物和碘化物中以+3氧化態(tài)或以+1的氧 化態(tài)存在。
適合的錫化合物為氯化錫、硫酸錫、烷氧基錫如甲氧基錫、乙氧基錫或它們的 混合物，其中錫以+2或+4的氧化態(tài)存在。優(yōu)選可使用三氯化銦(InCl3)和氯化錫(SnCl2)的混合物。合適的表面改性成分為 具有1至24個碳原子的飽和或不飽和的單_和多羧酸類(優(yōu)選單羧酸類)，例 如甲酸、醋酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸、丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、檸檬酸、己 二酸、丁二酸、戊二酸、草酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、衣康酸、硬脂酸和尤其是3， 6，9-三氧雜癸酸，及對應的酸酐；·單-和多胺類，尤其是通式為R3_nNHn&，其中n = 0、1或2且R基團各自 獨立地為具有1至12個，尤其是1至6個且更優(yōu)選1至4個碳原子的烷基，例如甲基、 乙基、正-和異-丙基和丁基；聚乙烯胺類；·酰胺類，尤其是己內酰胺；·氨基酸類，尤其是β-氨基丙酸、甘氨酸、纈氨酸、氨基己酸、亮氨酸和異 亮氨酸；·具有4至12，尤其是5至8個碳原子的二羰基化合物，例如乙酰丙酮、2， 4-己二酮、3，5-庚二酮、乙酰乙酸、C1-C4-乙酰乙酸烷酯類，如乙酰乙酸乙酯、二乙
?；捅弧け砻婊钚詣?，例如陽離子、陰離子、非離子和兩性表面活性劑。優(yōu)選為非離 子表面活性劑，特別優(yōu)選為聚環(huán)氧乙烷衍生物。這些可為含有飽和或不飽和(單)羧酸 類，尤其是含有具有大于7個，優(yōu)選大于11個碳原子的羧酸類的衍生物，例如含有硬脂 酸、棕櫚酸或油酸的聚環(huán)氧乙烷衍生物。它們也可為含有脫水山梨醇酯類的衍生物，在 該情況中有用的羧酸類包括，例如，上述羧酸。此外，可使用聚環(huán)氧乙烷(單)烷基醚 類，例如，含有具有大于7個，優(yōu)選大于11個碳原子的醇類。所述表面改性成分可單個或以混合物的形態(tài)使用。特別優(yōu)選的化合物為3，6， 9_三氧雜癸酸、β-氨基丙酸和己內酰胺。以所用的銦和錫的化合物的總和為基準，所用的表面改性成分的比例優(yōu)選為2
至30重量％，更優(yōu)選為2至6重量％。
在3.5至4.5的范圍的pH可例如通過一級、二級、三級、脂肪族或芳族胺類、 四甲基氫氧化銨、NaOH、K0H、氨、氫氧化銨或它們的混合物予以確立。特別優(yōu)選為 使用氫氧化銨。已發(fā)現使反應混合物在此pH范圍內1至24小時是有利的。其后，有利 的是使pH為9至9.5。這可通過同樣已用于調整至pH范圍為3.5至4.5的相同化合物完 成。有利地，從反應混合物中移去此反應所獲得的鹽類。為達到此目的，尤其是為 了移去銨鹽類，已發(fā)現交叉流過濾(crossflow filtration)是有用的，其可以使該分散體的導 電率優(yōu)選小于5000 μ S/cm，更優(yōu)選小于2000 μ S/cm的方式進行。其后，反應混合物可被濃縮，例如，通過蒸發(fā)。以分散體為基準，供應至該噴霧干燥步驟的分散體的固含量優(yōu)選為10至50重量％。該噴霧干燥優(yōu)選在100至150°C的溫度下進行。本發(fā)明還提供一種用于制備表面經改性的氧化銦錫的附聚物的方法，其中本發(fā) 明的表面 經改性的氫氧化銦錫的附聚物在高于150°C且低于310°C的溫度在空氣下干燥， 且接著于還原條件下煅燒。最好的結果是在進行兩階段煅燒時獲得的，其中第二煅燒步驟是在比第一步驟 高的溫度下進行。該兩階段煅燒包含下列步驟·在240°C至260°C的溫度在還原條件下處理，·將該附聚物冷卻至室溫并且在空氣下儲存，接著·在270°C至310°C的溫度在還原條件下處理。單個處理步驟在各個情況中可進行0.5至8小時。本發(fā)明還提供可通過根據本發(fā)明的方法所獲得的表面經改性的氧化銦錫的附聚 物。該附聚物具有5至50 μ m，優(yōu)選10至25 μ m的平均聚集物直徑，且可經由簡單 的分散而主要或完全地分成初級顆粒。該氧化銦錫的附聚物的BET表面積小于由該氧化銦錫所獲得的氫氧化銦錫的附 聚物的BET表面積。該BET表面積優(yōu)選為30至100m2/g且更優(yōu)選40至80m2/g。該結晶性成分主要或完全地由立方形氧化銦錫組成。此外，本發(fā)明的附聚物具 有0.01至< 1重量％，優(yōu)選0.01至< 0.1重量％且更優(yōu)選0.02至0.08重量％的碳含量。 煅燒之后所獲得的附聚物的碳含量比噴霧干燥之后所獲得的附聚物的碳含量低。此外認 為表面改性的化學組成與煅燒和噴霧干燥之后的不同。本發(fā)明還提供用于制備表面經改性的氧化銦錫的粉末及其分散體的方法，其中 本發(fā)明的表面經改性的氧化銦錫的附聚物和一或多種溶劑組合而得到混合物，該混合物 通過分散單元轉化為分散體，且將液態(tài)成分任選從該分散體中除去以獲得粉末。適合的分散單元可為磨機、捏合機、輥磨機、二個或更多個預分散流在1000至 4000巴的壓力下相互碰撞的高能磨機。特別是，可使用行星式球磨機、攪拌球磨機、灰 漿磨機(mortarmill)及三輥式磨機。通過超音波分散也同樣適合。分散配合添加一或多種溶劑進行。適合的溶劑可為·水；
·醇類，例如甲醇、乙醇、正-和異-丙醇和丁醇；· 二醇類和二醇醚類，例如乙二醇、丙二醇或丁二醇，對應的二 _、三_、 四_、五-或六聚物，及對應的單-或二醚類，其中一或兩個羥基通過，例如，甲氧基、 乙氧基、丙氧基或丁氧基被取代；·酮類，例如丙酮和丁酮；·酯類，例如醋酸乙酯；·醚類，例如二乙醚、四氫呋喃和四氫吡喃；·酰胺類，例如二甲基乙酰胺和二甲基甲酰胺；·亞砜類和砜類，例如環(huán)丁砜和二甲基亞砜；·脂肪族(視需要經鹵化的)烴類，例如戊烷、己烷和環(huán)己烷；·多元醇類，例如2-甲基-2，4-戊二醇；·聚乙二醇類及其醚類，如二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、二乙二醇二乙 醚、四乙二醇二甲醚或二乙二醇單丁醚；·優(yōu)選使用乙二醇、二乙二醇和二乙二醇單丁醚。也可使用這種溶劑的混合物。為了分散，優(yōu)選可使用汽化值優(yōu)選為100或更高，更優(yōu)選100至200的溶劑。這 使得分散步驟期間的溶劑損失得以避免。在此分散步驟之后，接著可以其它汽化值低于 100，優(yōu)選10至50的溶劑稀釋。該汽化值以二乙醚為基準，其汽化值為1。以氧化銦錫和具有汽化值為100或更高的溶劑的重量比例的總和為基準，具有 汽化值為100或更高的溶劑的比例優(yōu)選為10至80重量％，更優(yōu)選15至60重量％。所用的表面經改性的氧化銦錫的附聚物的比例優(yōu)選為20至50重量％。已發(fā)現 尤其是可使用已經在己內酰胺存在下沉淀的表面經改性的氧化銦錫的附聚物。這些附聚 物的應用導致氧化銦錫粉末或其具有特別高導電性的分散體。分散也可在一或多種表面改性化合物存在下引起。這些表面改性化合物可與已 經用于沉淀作用的相同。優(yōu)選使用有機羧酸類、酸酐類或酰胺類。特別優(yōu)選可使用3， 6，9-三氧雜癸酸。本發(fā)明另外提供包含表面經改性的氧化銦錫粉末的分散體和該表面經改性的氧 化銦錫粉末本身，二者均可經由根據本發(fā)明的方法獲得。該氧化銦錫粉末的BET表面積基本上與氧化銦錫的附聚物相同。據觀察分散處 理并沒有降低BET表面積。本發(fā)明另外提供用于制造涂布材料或成形材料的方法，其中使用本發(fā)明的氧化 銦錫的附聚物和/或本發(fā)明的氧化銦錫粉末的分散體和在各個情況中的一或多種粘合 劑。粘合劑的比例，以干燥的涂布材料或成形材料為基準，優(yōu)選為10至91重量％，
且更優(yōu)選40至85重量％。干燥的涂布材料或成形材料應理解是指沒有揮發(fā)成分的材料。干燥一般在20至 150°C的溫度進行。所用的粘合劑可為無機或有機粘合劑。適合的粘合劑為，例如，聚乙烯樹脂、聚烯烴類、PVC、聚乙烯醇、聚乙烯酯類、聚苯乙烯、丙烯酸系樹脂、丙烯酸酯類、醇酸樹脂、聚氨酯涂布材料、尿素樹脂、三聚氰胺樹脂、酚樹脂涂布材料。優(yōu)選可使用纖 維素、甲基纖維素、羥丙基纖維素、硝基纖維素和纖維素酯類。該涂布材料或成形材料也可額外包含納米級無機固態(tài)顆粒(納米顆粒)?？捎?的納米顆粒優(yōu)選具有不大于200nm，優(yōu)選不大于IOOnm的平均粒徑。優(yōu)選可使用納米級 金屬氧化物顆粒，例如鋁氧化物、鎘氧化物、鈰氧化物、鐵氧化物、銅氧化物、鉬氧化 物、鈮氧化物、二氧化硅、鉭氧化物、二氧化鈦、釩氧化物、鎢氧化物、鋅氧化物、錫 氧化物、鋯氧化物和上述金屬氧化物的混合氧化物。該納米級顆粒還可以磷酸鹽、硅酸 鹽、鋯酸鹽、鋁酸鹽、錫酸鹽的形態(tài)存在。施涂可例如通過印刷、旋轉/浸漬-涂布、刀涂、浸漬、噴霧(噴墨)進行。本發(fā)明另外提供具有低于IOOOOhm/ □的表面電阻率的涂布材料或成形材料， 其可經由根據本發(fā)明的方法獲得。該涂布材料中的ITO含量優(yōu)選可為60至85重量％。該涂布材料和成形材料可用于光-和微電子裝置，用于光透明性、IR-阻斷或導 電性涂層。此外，其可為絲網印刷糊料、液晶顯示器、電致發(fā)光顯示器、電致變色顯示 器、透明導電層的一部分。


圖1顯示優(yōu)選具體例的示意流程圖，其包含下列處理步驟Al =沉淀A2 =交叉流過濾A3 =噴霧干燥B =干燥和煅燒C =分散體的制備D=移去ITO粉末，和原料和反應產物包含a=氯化銦b =氯化錫C=己內酰胺d =氫氧化銨e=氯化銨f=主要為水g =氮氫混合氣體(forming gas)h =廢氣i =溶劑j = 3, 6，9_三氧雜癸酸(任選的)k=液相。
具體實施例方式實施例A)表面經改性的氫氧化銦錫的附聚物
實施例A-I 將 151.1kg 的氯化銦(III)、12.6kg 的氯化錫(IV) · 5H20 和 6.25kg 的己內酰胺加入460.4kg的水且攪拌。一旦形成澄清溶液，將其加熱至50°C。其后，配合 攪拌逐滴添加122.8kg的氫氧化銨溶液(25%)。懸浮液進一步攪拌24小時。其后，添加 另一份208.52kg的氫氧化銨溶液。經由交叉流過濾移除氯化銨滲透流量為260-300kg/ m2h。該懸浮液的導電率為1018 μ S/cm。其后，通過噴霧干燥移去液相。最后，將移 除氯化銨之后所獲得的具有9.6重量％的固含量的懸浮液以201/h借助Sm3(STP)/h的空 氣噴霧進入干燥器(操作溫度300°C、錐溫度110°C、輸出空氣溫度115°C )。獲得了具 有表1所示的物化參數的氫氧化銦錫的附聚物。 實施例A-2 類似于實施例1，除了使用147.8kg的氯化銦(III)、176.4kg的氯 化錫(IV) · 5H20和6.25kg的己內酰胺以外。實施例A-3 類似于實施例1，除了使用151.1kg的氯化銦(III)、12.6kg的氯化 錫(IV) · 5H20和6.25kg的β -氨基丙酸以外。獲得了具有表1所示的物化參數的氫氧 化銦錫的附聚物。表1 氫氧化銦錫的附聚物
實施例A-I A-2 Α-3
In 含量重量％ 94.96 92.17 94.96
Sn 含量重量％ 99 6^94 98
C 含量重量％ 0.042 0.089 0.056
BET 表面積 ” m2/g 121127U7
填實密度2) gTl684 ^d. ^d.
干燥損失 3) Sfi %~~4A ^A. ^d. 燒失量4) Mfi %~~18^0 ^d. ^d d505)um 12^8 VL9 Λ5
ρΗ6)δΖ1)根據DIN 66131 ; 2)以 1983 年8 月的 DIN EN ISO 787/11 為基準;3)于 105°C 下2小時；4)于1000°C下2小時；5) Cilas d50數值；6)在水中4%分散體B)表面經改性的氧化銦錫的附聚物實施例B-Ia 將來自實施例Al的附聚物先在300°C在空氣下干燥1小時，接著 在溫度為300°C的烘箱中的氮氫混合氣體氣氛(forming gas)中保持1小時。實施例B-Ib 來自實施例Al的附聚物先在300°C在空氣下干燥1小時，接著在溫度為250°C的烘箱中的氮氫混合氣體氣氛中保持1小時。溫度冷卻至室溫之后，將此固 體儲存在室溫、空氣下8小時，接著在溫度為275°C的氮氫混合氣體氣氛中保持1小時。實施例B2 程序類似于實施例B-lb，除了使用來自實施例A2的附聚物以外。表2中顯示了由實施例B-la、B-Ib和B-2所獲得的氧化銦錫的附聚物的物化參數。表2:氧化銦錫的附聚物
權利要求
1.一種表面經改性的氫氧化銦錫的附聚物，其具有下列比例 以In計算為80-98.9重量％的銦， 以Sn計算為2-20重量％的錫， 0.01-1重量％的碳， 其中這些比例的總和為以銦、錫和碳的總和為基準至少為99重量％。
2.一種用于制備權利要求1所述的表面經改性的附聚物的方法，其特征在于a)從溶解的反應產物和反應混合物的未轉化原料中移去調整至pH為3.5至4.5的含 有銦和錫的化合物和一或多種表面改性成分的水溶液，b)對所得的分散體施以噴霧干燥。
3.—種用于制備表面經改性的氧化銦錫的附聚物的方法，其中將權利要求1所述的表 面經改性的氫氧化銦錫的附聚物在高于150°C且低于310°C的溫度在空氣下干燥，然后在 還原條件下煅燒。
4.如權利要求3所述的方法，其中所述煅燒 是先在240°C至260°C的溫度在還原條件下進行， 將所述附聚物冷卻至室溫，并在空氣下儲存，然后 在270°C至310°C的溫度在還原條件下處理。
5.一種表面經改性的氧化銦錫的附聚物，其可通過權利要求3或4所述的方法獲得。
6.一種用于制備表面經改性的氧化銦錫的粉末及其分散體的方法，其中將權利要求 5所述的表面經改性的附聚物和一或多種溶劑組合以得到混合物，所述混合物通過分散單 元轉化為分散體，并且將液態(tài)成分任選地從所述分散體中除去以獲得粉末。
7.如權利要求6所述的方法，其中使用一或多種表面改性成分。
8.一種分散體，其包含可通過權利要求6或7所述的方法獲得的表面經改性的氧化銦 錫粉末。
9.一種表面經改性的氧化銦錫粉末，其可通過權利要求6或7所述的方法獲得。
10.一種用于制造涂布材料或成形材料的方法，其中使用權利要求5所述的氧化銦錫 的附聚物或權利要求8所述的氧化銦錫粉末的分散體以及在各個情況中的一或多種粘合 劑。
11.一種涂布材料或成形材料，其具有低于IOOOOhm/□的表面電阻率，所述材料可 通過權利要求10所述的方法獲得。
全文摘要
本發(fā)明涉及表面經改性的氫氧化銦錫的附聚物，其具有80至98.9重量％的銦、2至20重量％的錫和0.01至1重量％的碳。本發(fā)明還涉及用于制備表面經改性的氧化銦錫的附聚物的方法，其中該表面經改性的氫氧化銦錫的附聚物是在高于150℃且低于310℃的溫度在空氣下干燥，且接著在還原條件下煅燒。表面經改性的氧化銦錫的附聚物可經由此方法獲得。本發(fā)明還涉及用于制備表面經改性的氧化銦錫粉末及其分散體的方法，其中該表面經改性的附聚物和一或多種溶劑組合而得到混合物，該混合物通過分散單元轉化為分散體，且液態(tài)成分任選地從該分散體中除去以獲得粉末。本發(fā)明還涉及用于制造涂布材料或成形材料的方法，其中使用氧化銦錫的附聚物或氧化銦錫粉末的分散體和在各個情況中的一或多種粘合劑。
文檔編號C01G19/00GK102015538SQ200980116258
公開日2011年4月13日 申請日期2009年4月16日 優(yōu)先權日2008年5月6日
發(fā)明者K·道特, S·希爾, W·沃姆巴赫爾 申請人:贏創(chuàng)德固賽有限公司