專利名稱:碳納米管膜承載結構及其使用方法
技術領域:
本發(fā)明涉及一種碳納米管膜承載結構及其使用方法。
背景技術:
碳納米管是一種由石墨烯片卷成的中空管狀物,其具有優(yōu)異的力學、熱學及電學性質(zhì)。碳納米管應用領域非常廣闊,例如,它可用于制作場效應晶體管、原子力顯微鏡針尖、 場發(fā)射電子槍、納米模板等等。但是,目前基本上都是在微觀尺度下應用碳納米管,操作較困難。所以,將碳納米管組裝成宏觀尺度的結構對于碳納米管的宏觀應用具有重要意義?,F(xiàn)有的碳納米管宏觀結構主要有碳納米管膜,但是,碳納米管膜等碳納米管宏觀結構的比表面積很大,宏觀上表現(xiàn)出很強的粘性,一旦接觸到其他物體便會粘住并且很難分開,所以給保存和轉(zhuǎn)移碳納米管宏觀結構帶來較大的困難,從而大大限制了碳納米管膜等碳納米管結構在宏觀領域的進一步應用。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,確有必要提供一種碳納米管膜承載結構及其使用方法。一種碳納米管膜承載結構,用于承載一碳納米管膜狀結構,且該碳納米管膜狀結構與該碳納米管膜承載結構接觸后可以完整地從該碳納米管膜承載結構脫離,其中,該碳納米管膜承載結構包括一基底以及多個凸起結構,所述基底具有一表面,所述基底的表面具有一碳納米管膜承載區(qū)域,所述多個凸起結構設置在所述基底表面的碳納米管膜承載區(qū)域,從而使得將一碳納米管膜狀結構設置于所述碳納米管膜承載區(qū)域時,所述碳納米管膜狀結構與所述多個凸起結構形成點接觸或線接觸,所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構的有效接觸面積小于等于所述碳納米管膜狀結構本身面積的20%。一種碳納米管膜承載結構的使用方法,其包括提供至少一碳納米管膜承載結構, 所述碳納米管膜承載結構包括一基底及多個凸起結構,所述基底具有一表面,該表面具有一碳納米管膜承載區(qū)域,所述多個凸起結構設置于所述基底表面的碳納米管膜承載區(qū)域; 提供一碳納米管膜狀結構;以及將所述碳納米管膜狀結構直接設置于所述碳納米管膜承載結構的碳納米管膜承載區(qū)域,所述碳納米管膜狀結構與所述多個凸起結構形成點接觸或線接觸,所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構的有效接觸面積小于所述碳納米管膜狀結構本身面積的20%。相較于現(xiàn)有技術,所述的碳納米管膜承載結構具有結構簡單等特點,該碳納米管膜承載結構通過在一基底的表面設置多個凸起結構,使得將一碳納米管膜狀結構設置于所述碳納米管膜承載結構表面時,該碳納米管膜狀結構的大部分結構通過所述凸起結構懸空設置,從而大大地減少了所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構的有效接觸面積,進而降低了所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構之間的范德華力,最后實現(xiàn)碳納米管膜狀結構的保存和轉(zhuǎn)移。所述碳納米管膜承載結構的使用方法,通過將一碳納米管膜直接承載于一碳納米管膜承載結構的碳納米管膜承載區(qū)域,從而實現(xiàn)碳納米管膜狀結構的保存和轉(zhuǎn)移,該方法簡單易行。
圖1為本發(fā)明第一實施例所提供的碳納米管膜承載結構的示意圖。圖2為本發(fā)明第二實施例所提供的碳納米管膜承載結構的示意圖。圖3為應用本發(fā)明實施例提供的碳納米管膜承載結構承載碳納米管膜狀結構的流程圖。圖4為應用本發(fā)明實施例提供的碳納米管膜承載結構承載的碳納米管拉膜的SEM 照片。圖5為應用本發(fā)明實施例提供的碳納米管膜承載結構承載的碳納米管碾壓膜的 SEM照片。圖6為應用本發(fā)明實施提供的碳納米管膜承載結構承載的碳納米管絮化膜的SEM 照片。圖7為應用本發(fā)明實施例提供的碳納米管膜承載結構承載一碳納米管膜狀結構的示意圖。圖8為應用本發(fā)明實施例提供的碳納米管膜承載結構承載一碳納米管膜狀結構的側視圖。主要元件符號說明碳納米管膜承載結構 100,200基底110,210表面112,212碳納米管膜承載區(qū)域114,214凸起結構116,216碳納米管膜狀結構 120
具體實施例方式下面將結合附圖及具體實施例對本發(fā)明作進一步的詳細說明。請參閱圖1,本發(fā)明第一實施例提供一種碳納米管膜承載結構100,該碳納米管膜承載結構100用于承載或保護一碳納米管膜狀結構,且該碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構100接觸后可完整地從所述碳納米管膜承載結構100剝離。該碳納米管膜承載結構100包括一基底110以及多個凸起結構116,其中,所述基底110具有一表面112, 該表面112上設置有一碳納米管膜承載區(qū)域114。所述多個凸起結構116設置于所述碳納米管膜承載區(qū)域114。所述多個凸起結構116用于承載一碳納米管膜狀結構??梢岳斫?,將一碳納米管膜狀結構設置于所述碳納米管膜承載區(qū)域114時,該碳納米管膜狀結構與所述多個凸起結構116形成點接觸或線接觸,從而使所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構100的有效接觸面積小于所述碳納米管膜狀結構本身面積的20%,該碳納米管膜狀結構可以完整地從該碳納米管膜承載結構100的表面112剝離。所述基底110為具有一定強度的薄片狀結構,其形狀、尺寸可依據(jù)實際需求設計。該基底110的材料可選自硬性或具有一定強度的柔性材料。具體地,該基底110的材料選自金屬、金屬氧化物、陶瓷、樹脂等材料。該基底110具有一表面112。所述表面112可以為平面、曲面或其他不規(guī)則面。所述碳納米管膜承載區(qū)域114可以設置在所述基底110的整個表面112或者部分表面112。所述多個凸起結構116相互間隔地設置于所述碳納米管膜承載區(qū)域114。該多個凸起結構116的材料選自金屬氧化物、金屬及無機鹽等材料。該多個凸起結構116可以通過化學方法或物理方法形成于所述基底110的表面112。所述多個凸起結構116可以為點狀凸起結構、線狀凸起結構或點狀凸起結構與線狀凸起結構的組合等結構。所述點狀凸起結構的形狀為球形、橢球形或其他不規(guī)則形狀,由于該點狀凸起結構的體積較小,可以近似的看作為球形。所述線狀凸起結構的橫截面可以是三角形、方形、矩形、梯形或其他形狀。 優(yōu)選地,所述基底110的表面112形成有多個均勻分布且間隔設置的點狀凸起結構,該點狀凸起結構的形狀為球形,其直徑可以為1微米 1毫米,相鄰的點狀凸起結構之間的間距為 10微米 10毫米。此外,所述多個凸起結構116也可以采用其他不同結構的組合??梢岳斫猓瑢⒁惶技{米管膜狀結構設置于所述碳納米管膜承載區(qū)域114時,該碳納米管膜狀結構與所述多個凸起結構116形成點接觸或線接觸,從而使所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構100的有效接觸面積小于所述碳納米管膜狀結構本身面積的20%。優(yōu)選地,所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構100的有效接觸面積小于等于所述碳納米管膜狀結構本身面積的10%??梢岳斫?,所述多個凸起結構116可以與所述基底 110 —體成型設置。本實施例中,所述碳納米管膜承載結構100為一邊長為IOcm的方形100#砂紙。該 100#砂紙表面形成有多個均勻分布且間隔設置的點狀凸起結構,相鄰的點狀凸起結構的距離約為200微米。所述點狀凸起結構的直徑約為150微米。可以理解,所述碳納米管膜承載結構100也可以是其他型號的砂紙,如50# 2000#的砂紙。請參閱圖2,本發(fā)明第二實施例提供一種碳納米管膜承載結構200,該碳納米管膜承載結構200用于承載或保護一碳納米管膜狀結構,且該碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構200接觸后可完整地從該碳納米管膜承載結構200剝離。所述碳納米管膜承載結構200包括一基底210以及多個凸起結構216,其中,所述基底210具有一表面212, 該表面212上設置有一碳納米管膜承載區(qū)域214。所述多個凸起結構216設置于所述碳納米管膜承載區(qū)域214。所述多個凸起結構216用于承載一碳納米管膜狀結構??梢岳斫?,將一碳納米管膜狀結構設置于所述碳納米管膜承載區(qū)域214時,該碳納米管膜狀結構與所述多個凸起結構216形成點接觸或線接觸,從而使所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構200的有效接觸面積小于所述碳納米管膜狀結構本身面積的20%,該碳納米管膜狀結構可以完整地從該碳納米管膜承載結構200的表面212剝離。本實施例中,所述基底210為具有一定強度的金屬薄片。所述碳納米管膜承載區(qū)域214設置在所述金屬薄片的部分表面。所述碳納米管膜承載區(qū)域214包括多個線狀凸起結構216。該多個線狀凸起結構216均勻分布且相互平行間隔設置。該多個線狀凸起結構 216可以通過化學方法或物理方法形成于所述基底210的表面212。該多個線狀凸起結構 216的橫截面為三角形。該多個線狀凸起結構216橫截面的寬度可以為1微米 100微米, 相鄰的多個線狀凸起結構216之間的距離為10微米 1毫米。所述多個線狀凸起結構216的高度可以為1微米 1毫米。此外,形成在所述基底210的表面212的多個線狀凸起結構216可以相互交叉設置或采用其他不同結構的組合??梢岳斫?,將一碳納米管膜狀結構設置于所述碳納米管膜承載區(qū)域214時,該碳納米管膜狀結構與所述多個凸起結構216形成線接觸,從而使所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構200的有效接觸面積小于所述碳納米管膜狀結構本身面積的20%。優(yōu)選地,所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構200的有效接觸面積小于等于所述碳納米管膜狀結構本身面積的10%。請參閱圖3,本發(fā)明還進一步提供一種使用所述碳納米管膜承載結構100承載和保存碳納米管膜狀結構的方法,該方法主要包括以下步驟=(SlOl)提供至少一碳納米管膜承載結構,所述碳納米管膜承載結構包括一基底及多個凸起結構,所述基底具有一表面,該表面具有一碳納米管膜承載區(qū)域,所述多個凸起結構設置于所述基底表面的碳納米管膜承載區(qū)域;(S102)提供一碳納米管膜狀結構;以及(S103)將所述碳納米管膜狀結構直接設置于所述碳納米管膜承載結構的碳納米管膜承載區(qū)域,所述碳納米管膜狀結構與所述多個凸起結構形成點接觸或線接觸,所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構的有效接觸面積小于所述碳納米管膜狀結構本身面積的20%。步驟S101,提供至少一碳納米管膜承載結構,所述碳納米管膜承載結構包括一基底及多個凸起結構,所述基底具有一表面,該表面具有一碳納米管膜承載區(qū)域,所述多個凸起結構設置于所述基底表面的碳納米管膜承載區(qū)域。所述碳納米管膜承載結構為本發(fā)明第一實施例所提供的碳納米管膜承載結構 100??梢岳斫?,所述碳納米管膜承載結構也可以為本發(fā)明第二實施例所提供的碳納米管膜承載結構200或其他結構。步驟S102,提供一碳納米管膜狀結構。提供一碳納米管膜狀結構120,所述碳納米管膜狀結構120包括至少一個碳納米管膜。該碳納米管膜可以是碳納米管拉膜、碳納米管絮化膜或碳納米管碾壓膜等。請參見圖4,所述碳納米管拉膜為從一碳納米管陣列中直接拉取獲得的整體結構。 該碳納米管拉膜是由多個碳納米管組成的自支撐結構。所述自支撐結構是指該碳納米管拉膜可無需基底支撐,自支撐存在。所述多個碳納米管基本沿同一方向擇優(yōu)取向延伸。所述擇優(yōu)取向是指在碳納米管拉膜中大多數(shù)碳納米管的整體延伸方向基本朝同一方向。而且, 所述大多數(shù)碳納米管的整體延伸方向基本平行于所述碳納米管拉膜的表面。進一步地,所述碳納米管拉膜中多數(shù)碳納米管是通過范德華力首尾相連并且基本沿同一方向延伸。所述碳納米管拉膜及其制備方法請參見2007年2月9申請的,2010年5月沈日公告的,公告號為CN101239712B的中國發(fā)明專利申請公開說明書。請參見圖5,所述碳納米管碾壓膜包括均勻分布的碳納米管,該碳納米管無序,沿同一方向或不同方向擇優(yōu)取向排列。優(yōu)選地,所述碳納米管碾壓膜中的碳納米管基本沿同一方向延伸且平行于該碳納米管碾壓膜的表面。所述碳納米管碾壓膜中的碳納米管相互交疊。所述碳納米管碾壓膜中碳納米管之間通過范德華力相互吸引,緊密結合,使得該碳納米管碾壓膜具有很好的柔韌性,可以彎曲折疊成任意形狀而不破裂。所述碳納米管碾壓膜及其制備方法請參見2008年12月3日公開的,公開號為CN101314464A的中國發(fā)明專利申請公開說明書。請參見圖6,所述碳納米管絮化膜包括相互纏繞的碳納米管。該碳納米管之間通過范德華力相互吸引、纏繞,形成網(wǎng)絡狀結構。所述碳納米管絮化膜各向同性。所述碳納米管絮化膜中的碳納米管為均勻分布,無規(guī)則排列。所述碳納米管絮化膜及其制備方法請參見 2008年10月15日公開的,公開號為CN101284662A的中國發(fā)明專利申請公開說明書。本實施例中,所述碳納米管膜狀結構120包為一碳納米管拉膜,該碳納米管拉膜為從一碳納米管陣列中直接拉取獲得,其制備方法具體包括以下步驟首先,提供一形成于一生長基底的碳納米管陣列,該陣列為超順排的碳納米管陣列。所述超順排的碳納米管陣列采用化學氣相沉積法制備,該超順排碳納米管陣列的制備方法可參見2002年9月16日申請的,2008年8月20日公告的,公告號為CN100411979C 的中國發(fā)明專利申請公告說明書。該超順排的碳納米管陣列為多個彼此平行且垂直于生長基底生長的碳納米管形成的純碳納米管陣列。通過控制生長條件,該超順排的碳納米管陣列中基本不含有雜質(zhì),如無定型碳或殘留的催化劑金屬顆粒等,適于從中拉取碳納米管膜。 本發(fā)明實施例提供的碳納米管陣列為多壁碳納米管陣列。所述碳納米管的直徑為0. 5 50 納米,長度為50納米 5毫米。本實施例中,碳納米管的長度優(yōu)選為100微米 900微米。其次,采用一拉伸工具從所述碳納米管陣列中拉取碳納米管獲得一碳納米管膜, 其具體包括以下步驟(a)從所述超順排碳納米管陣列中選定一個或具有一定寬度的多個碳納米管,本實施例優(yōu)選為采用具有一定寬度的膠帶接觸碳納米管陣列以選定一個或具有一定寬度的多個碳納米管;(b)以一定速度拉伸該選定的碳納米管,從而形成首尾相連的多個碳納米管片段,進而形成一連續(xù)的碳納米管拉膜。該拉取方向沿基本垂直于碳納米管陣列的生長方向。在上述拉伸過程中,該多個碳納米管片段在拉力作用下沿拉伸方向逐漸剝離生長基底的同時,由于該多個碳納米管片段之間范德華力的作用,該選定的多個碳納米管片段分別與其他碳納米管片段首尾相連地連續(xù)地被拉出,從而形成一連續(xù)、均勻且具有一定寬度的碳納米管拉膜。所述碳納米管拉膜中的碳納米管包括單壁碳納米管、雙壁碳納米管及多壁碳納米管中的一種或多種。該碳納米管拉膜具有較大的比表面積,故該碳納米管拉膜宏觀上表現(xiàn)出較大的粘性。步驟S 103,將所述碳納米管膜狀結構直接設置于所述碳納米管膜承載結構的碳納米管膜承載區(qū)域,所述碳納米管膜狀結構與所述多個凸起結構形成點接觸或線接觸,所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構的有效接觸面積小于所述碳納米管膜狀結構本身面積的20%。請參照圖7及圖8,將所述碳納米管膜狀結構120設置于所述碳納米管膜承載結構100的碳納米管膜承載區(qū)域114,該碳納米管膜狀結構120通過所述碳納米管膜承載區(qū)域 114中的多個凸起結構116部分懸空設置。可以理解,由于所述基底110表面112具有均勻分布且間隔設置的多個凸起結構 116,因此,將所述碳納米管膜狀結構120設置在所述碳納米管膜承載區(qū)域114時,該碳納米管膜狀結構120與所述多個凸起結構116形成點接觸或線接觸,從而使該碳納米管膜狀結構120與所述碳納米管膜承載結構100的有效接觸面積小于所述碳納米管膜狀結構120本身面積的20%,從而降低該碳納米管膜狀結構120與該碳納米管膜承載結構100之間的范德華力,使該碳納米管膜狀結構120與該碳納米管膜承載結構100之間的范德華力小于所述碳納米管膜狀結構120中多個碳納米管之間范德華力。因此,將所述碳納米管膜狀結構 120設置于所述碳納米管膜承載結構100時,由于所述碳納米管膜狀結構120與所述碳納米管膜承載結構100之間的范德華力小于所述碳納米管膜狀結構120中多個碳納米管之間的范德華力,從而使該碳納米管膜狀結構120可以容易地從所述碳納米管膜承載結構100剝離,而不至于破壞該碳納米管膜狀結構120的形態(tài)和結構,從而實現(xiàn)了該碳納米管膜狀結構120的保存和轉(zhuǎn)移。本實施例中,將一碳納米管拉膜設置于一 100#砂紙的表面時,該碳納米管拉膜的大部分結構通過所述100#砂紙表面的多個凸起結構懸空設置,該碳納米管拉膜與所述 100#砂紙表面的多個凸起結構形成點接觸,從而使所述碳納米管拉膜與所述100#砂紙的有效接觸面積小于所述碳納米管拉膜本身面積的20%,進而降低該碳納米管拉膜與該 100#砂紙的表面之間的范德華力,使該碳納米管拉膜與該100#砂紙的表面之間的范德華力小于所述碳納米管拉膜中多個碳納米管之間范德華力。因此,將所述碳納米管拉膜設置于所述100#砂紙的表面時,由于所述碳納米管拉膜與所述100#砂紙的表面之間的范德華力小于所述碳納米管拉膜中多個碳納米管之間的范德華力,從而使該碳納米管拉膜可以容易地從所述100#砂紙的表面剝離,而不至于破壞該碳納米管拉膜的形態(tài)和結構,從而實現(xiàn)了該碳納米管拉膜的保存和轉(zhuǎn)移。可以理解,當所述碳納米管膜狀結構包括多個碳納米管膜時,該多個碳納米管膜可以層疊設置或并排設置于所述碳納米管膜承載區(qū)域。具體地,將所述碳納米管膜設置于所述碳納米管膜承載區(qū)域后,可以進一步將另一碳納米管膜覆蓋至先前的碳納米管膜表面,如此反復多次,在該碳納米管膜承載區(qū)域上鋪設多個碳納米管膜。此外,當所述碳納米管膜承載區(qū)域具有較大的面積時,將所述碳納米管膜沿一個方向設置于所述碳納米管膜承載區(qū)域后,還可以將另一碳納米管膜并排設置于所述碳納米管膜承載區(qū)域沒有鋪設碳納米管膜的區(qū)域。可以理解,該步驟為可選步驟。此外,將所述碳納米管膜狀結構直接設置于所述碳納米管膜承載結構的碳納米管膜承載區(qū)域后,可以進一步將另一碳納米管膜承載結構覆蓋在所述碳納米管膜狀結構的表面,并使所述另一碳納米管膜承載結構中的碳納米管膜承載區(qū)域與所述碳納米管膜狀結構相接觸,形成一兩邊為碳納米管膜承載結構,中間為碳納米管膜的夾心結構。在所述夾心結構中,所述碳納米管膜狀結構夾持于兩個碳納米管膜承載結構的中間,使碳納米管膜狀結構位于兩個碳納米管膜承載結構具有凸起結構的表面之間,并分別與兩個碳納米管膜承載結構具有凸起結構的表面接觸,使所述碳納米管膜狀結構可以更牢固地被固定,從而使該碳納米管膜狀結構可以更為容易的保存和轉(zhuǎn)移。此外,該夾心結構還可以使所述碳納米管膜狀結構不受到破壞,以及具有防塵等作用。本發(fā)明實施例提供的碳納米管膜承載結構具有結構簡單、成本較低等特點。該碳納米管膜承載結構通過在一基底的表面設置多個凸起結構,使得將一碳納米管膜狀結構設置于所述碳納米管膜承載結構表面時,該碳納米管膜狀結構與所述凸起結構形成點接觸或線接觸,從而大大地減少了所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構的有效接觸面積,進而降低了所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構之間的范德華力,最后實現(xiàn)碳納米管膜狀結構的保存和轉(zhuǎn)移。本發(fā)明所述碳納米管膜承載結構的使用方法,通過將一碳納米管膜直接承載于一碳納米管膜承載結構的碳納米管膜承載區(qū)域,從而實現(xiàn)碳納米管膜狀結構的保存和轉(zhuǎn)移, 該方法簡單易行。此外,將另一碳納米管膜承載結構覆蓋在所述承載于一碳納米管膜承載結構中的碳納米管膜狀結構的表面,形成一兩側為碳納米管膜承載結構中間為碳納米管膜狀結構的夾心結構。所述碳納米管膜狀結構夾持于兩個碳納米管膜承載結構的中間,使該碳納米管膜狀結構更牢固地被固定。此外,該夾心結構還可以使所述碳納米管膜狀結構不受到外界作用力的破壞,還具有防塵等作用。 另外,本領域技術人員還可以在本發(fā)明精神內(nèi)做其他變化,這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化,都應包含在本發(fā)明所要求保護的范圍內(nèi)。
權利要求
1.一種碳納米管膜承載結構,用于承載一碳納米管膜狀結構,且該碳納米管膜狀結構與該碳納米管膜承載結構接觸后可以完整地從該碳納米管膜承載結構脫離,其特征在于, 該碳納米管膜承載結構包括一基底以及多個凸起結構,其中,所述基底具有一表面,所述基底的表面具有一碳納米管膜承載區(qū)域,所述多個凸起結構設置在所述基底表面的碳納米管膜承載區(qū)域,從而使得將一碳納米管膜狀結構設置于所述碳納米管膜承載區(qū)域時,所述碳納米管膜狀結構與所述多個凸起結構形成點接觸或線接觸,所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構的有效接觸面積小于等于所述碳納米管膜狀結構本身面積的20%。
2.如權利要求1所述碳納米管膜承載結構,其特征在于,所述基底的表面為平面或曲面。
3.如權利要求1所述碳納米管膜承載結構,其特征在于,所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構的有效接觸面積小于等于所述碳納米管膜狀結構本身面積的10%。
4.如權利要求1所述碳納米管膜承載結構,其特征在于,所述凸起結構為多個均勻分布且間隔設置的點狀凸起結構,該點狀凸起結構的直徑為1微米至1毫米,相鄰的凸起結構的間距為10微米至10毫米。
5.如權利要求1所述碳納米管膜承載結構,其特征在于,所述凸起結構為多個相互平行且間隔設置的線狀凸起結構,該線狀凸起結構的寬度為1微米至100微米,相鄰的線狀凸起結構的間距為10微米至1毫米。
6.如權利要求1所述碳納米管膜承載結構,其特征在于,所述凸起結構與所述基底一體成型。
7.如權利要求1所述碳納米管膜承載結構,其特征在于,所述凸起結構的材料選自金屬、金屬氧化物及無機鹽類。
8.如權利要求1所述碳納米管膜承載結構,其特征在于,所述碳納米管膜承載結構選自50#至2000#的砂紙。
9.一種碳納米管膜承載結構的使用方法,其包括以下步驟提供至少一碳納米管膜承載結構,所述碳納米管膜承載結構包括一基底及多個凸起結構,所述基底具有一表面,該表面具有一碳納米管膜承載區(qū)域,所述多個凸起結構設置于所述基底表面的碳納米管膜承載區(qū)域;提供一碳納米管膜狀結構;以及,將所述碳納米管膜狀結構直接設置于所述碳納米管膜承載結構的碳納米管膜承載區(qū)域,所述碳納米管膜狀結構與所述多個凸起結構形成點接觸或線接觸,所述碳納米管膜狀結構與所述碳納米管膜承載結構的有效接觸面積小于所述碳納米管膜狀結構本身面積的20%。
10.如權利要求9所述碳納米管膜承載結構的使用方法,其特征在于,所述碳納米管膜狀結構通過所述多個凸起結構部分懸空設置。
11.如權利要求9所述碳納米管膜承載結構的使用方法,其特征在于,所述碳納米管膜狀結構包括至少一碳納米管膜,該碳納米管膜包括多個碳納米管,所述多個碳納米管通過范德華力首尾相連并且沿同一方向擇優(yōu)取向延伸。
12.如權利要求11所述碳納米管膜承載結構的使用方法,其特征在于,所述碳納米管膜為由多個碳納米管組成的一自支撐結構。
13.如權利要求11所述碳納米管膜承載結構的使用方法,其特征在于,所述碳納米管膜為從一碳納米管陣列中拉取獲得的一個整體結構。
14.如權利要求9所述碳納米管膜承載結構的使用方法,其特征在于,將所述碳納米管膜狀結構直接設置于所述碳納米管膜承載結構的碳納米管膜承載區(qū)域后,進一步包括將另一碳納米管膜承載結構覆蓋于所述碳納米管膜狀結構表面,使碳納米管膜狀結構位于兩個碳納米管膜承載結構具有凸起結構的表面之間。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種碳納米管膜承載結構,用于承載一碳納米管膜狀結構,且該碳納米管膜狀結構與該承載結構接觸后可以完整地從該承載結構脫離。所述碳納米管膜承載結構包括一基底以及多個凸起結構,其中,所述基底具有一表面,所述基底的表面具有一碳納米管膜承載區(qū)域,所述多個凸起結構設置在所述基底表面的碳納米管膜承載區(qū)域,從而使得將一碳納米管膜狀結構設置于所述碳納米管膜承載區(qū)域時,所述碳納米管膜狀結構與所述多個凸起結構形成點接觸或線接觸。本發(fā)明還涉及一種所述碳納米管膜承載結構的使用方法。
文檔編號C01B31/02GK102452648SQ201010521688
公開日2012年5月16日 申請日期2010年10月27日 優(yōu)先權日2010年10月27日
發(fā)明者馮辰, 劉亮, 潛力, 王昱權 申請人:北京富納特創(chuàng)新科技有限公司