專利名稱：氧化物成型體及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及氧化物成型體及其制造方法。
背景技術(shù)：
—般而言,在以稱之為丙烯酸樹(shù)脂的甲基丙烯酸樹(shù)脂(Polymethylmethacrylate,PMMA)為代表的有機(jī)高分子系材料中，通過(guò)控制分子量、交聯(lián)密度等，謀求改善根據(jù)用途要求的各種特性，例如耐擦傷性、耐磨耗性、紫外光耐久性、耐候性、玻璃透過(guò)性和介電特性等。由于有機(jī)高分子系的材料可以在較低溫度下熱固化、光固化，因此，如專利文獻(xiàn)I至3 中公開(kāi)的那樣，可以利用鑄模法進(jìn)行立體模塑或使用平版印刷法進(jìn)行微細(xì)結(jié)構(gòu)形成等各種加工。另一方面，玻璃等無(wú)機(jī)材料具有優(yōu)異的耐候性、耐熱性、表面硬度。另外，作為具有比有機(jī)高分子系材料更優(yōu)異的耐光性、與無(wú)機(jī)玻璃相比在更低溫度下軟化的材料，有專利文獻(xiàn)4和5的有機(jī)-無(wú)機(jī)雜化玻璃狀物質(zhì)?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本特開(kāi)2000-194142號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開(kāi)2002-270540號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3 :日本特開(kāi)2004-71934號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)4 :日本特許第4046963號(hào)專利文獻(xiàn)5 :日本特許第3910101號(hào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問(wèn)題然而，不可否認(rèn)的是，有機(jī)高分子系的材料的耐熱性、硬度低于無(wú)機(jī)系的材料。有機(jī)-無(wú)機(jī)雜化玻璃狀物質(zhì)與無(wú)機(jī)系的材料相比有時(shí)硬度不充分。另外，無(wú)機(jī)系的材料的成型加工溫度高于有機(jī)高分子系的材料和有機(jī)-無(wú)機(jī)雜化玻璃狀物質(zhì)，常常難以進(jìn)行微細(xì)加工。因此，尋求開(kāi)發(fā)兼有加工性和實(shí)際應(yīng)用的耐久性的材料。本發(fā)明是考慮上述問(wèn)題而做出的，其課題是提供兼有有機(jī)材料的優(yōu)異加工性和無(wú)機(jī)材料所具有的優(yōu)異耐候性、耐熱性和硬度等有機(jī)-無(wú)機(jī)兩方的優(yōu)點(diǎn)的成型體及其制造方法。用于解決問(wèn)題的方案本發(fā)明人進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，對(duì)含有氧化物部位和有機(jī)交聯(lián)部位的成型體進(jìn)行氧化處理，使成型體的至少表層成為無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)時(shí)，可獲得兼有有機(jī)材料的優(yōu)異加工性和無(wú)機(jī)材料所具有的優(yōu)異耐候性、耐熱性和硬度的成型體，從而完成了本發(fā)明。即，根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式，提供了氧化物成型體，其含有氧化物部位和有機(jī)交聯(lián)部位，至少表層為無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式，提供了氧化物成型體的制造方法，其為含有氧化物部位和有機(jī)交聯(lián)部位、至少表層為無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)的氧化物成型體的制造方法，其包括下述工序(A) 工序(D)的工序工序A :通過(guò)原料R2-M-Y與M’-OH的基元反應(yīng)(elementary reaction),獲得具有包含聚合性官能團(tuán)的有機(jī)基R2與Μ-0-Μ’鍵的前體R2-M-0-M’的工序；其中，R2是包含聚合性官能團(tuán)的有機(jī)基，Y是具有碳原子數(shù)f 20的烴基的烷氧基，或鹵素基團(tuán)，M和M’各自獨(dú)立地是選自鋁、硅、鍺、銦、錫、鉛、磷、硼、鎵、鋰、鈉、鉀、銣、銫、鈹、鎂、 丐、銀、鋇、釹、鐠、鉺、鋪、鈦、錯(cuò)、鉭、鋅、鶴、銀、鉻、猛、鐵、鈷、鎳、銅和鑰所組成的組中的至少一種元素。工序B :涂布包含前體的涂布液的工序；
工序C :使涂布液光固化和/或熱固化的工序；工序D :通過(guò)對(duì)固化后的固化體的至少表層進(jìn)行氧化處理，使該固化體的至少表層成為無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)的工序。


圖I所示為實(shí)施例I的氧化物成型體的透射率光譜圖。圖2為實(shí)施例2的氧化物成型體的顯微鏡照片。圖3為實(shí)施例3的氧化物成型體的顯微鏡照片。
具體實(shí)施例方式以下詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明。本發(fā)明的范圍不受這些說(shuō)明限制，除了以下的例示以外，在不損害本發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)，可以進(jìn)行適當(dāng)變更來(lái)實(shí)施。本發(fā)明的氧化物成型體特征在于含有氧化物部位和有機(jī)交聯(lián)部位且至少表層為無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)，顯示了優(yōu)異的耐候性、耐擦傷性、耐磨耗性和耐熱性。在本發(fā)明中，“氧化物成型體”是指，由含有氧化物部位和有機(jī)交聯(lián)部位、至少表層為無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)的物質(zhì)構(gòu)成的塊狀、板狀、薄膜狀、纖維狀的物品；或者，含有氧化物部位和有機(jī)交聯(lián)部位、至少表層或全體為無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)的物品；或者，表層為無(wú)機(jī)玻璃狀的物品與基材表面密合的物品。其中，在本說(shuō)明書(shū)中，“氧化物成型體”有時(shí)簡(jiǎn)稱為“成型體”。另夕卜，與基材表面密合的無(wú)機(jī)玻璃狀的物品簡(jiǎn)稱為“覆膜”。作為氧化物部位，可列舉出由元素M和元素M’借助氧原子鍵合而成的Μ-0-Μ’鍵構(gòu)成的部位，上述Μ-0-Μ’鍵中，M和M’各自獨(dú)立地是選自鋁、硅、鍺、銦、錫、鉛、磷、硼、鎵、鋰、鈉、鉀、銣、銫、鈹、鎂、 丐、銀、鋇、釹、鐠、鉺、鋪、鈦、錯(cuò)、鉭、鋅、鶴、銀、鉻、猛、鐵、鈷、鎳、銅和鑰所組成的組中的至少一種元素。從無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)的耐熱性、耐候性的觀點(diǎn)來(lái)看，M和M，特別優(yōu)選是硅、硼、鈦、鋯和鋅。另外，從無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)的物性控制的觀點(diǎn)來(lái)看，作為M和M，，可以進(jìn)一步包括堿金屬、堿土金屬。另外，為了賦予無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)以著色、在特定波長(zhǎng)下的光吸收等功能，作為M和M’，可以進(jìn)一步含有稀土元素、過(guò)渡金屬元素。作為有機(jī)交聯(lián)部位，例如，可列舉出屬于含有下式[I]所示的結(jié)構(gòu)的有機(jī)部位、且該有機(jī)部位的至少2個(gè)末端分別鍵合于上述元素M和M，的部位。
—[CH2-CH]—
ICI ]
X式[I]中，X是選自氫原子、-OH基、-(C=O)-R1基、-(C=O)-OR1基和苯基所組成的組中的至少一個(gè)基團(tuán)，R1是碳原子數(shù)廣20的烴基，η是I以上的整數(shù)。在使成型體的至少表層成為無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)的處理中，為了能夠用短時(shí)間進(jìn)行該處理，尤其優(yōu)選X是氫原子、-OH基、-(C=O) -R1 基。作為無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)，例如，可列舉出由Μ-0-Μ’ >M-O-M或Μ’ _0_Μ’所示的氧鍵形成的物質(zhì)，上述Μ-0-Μ’、Μ-0-Μ或Μ’ -0-Μ’所示的鍵中，M和Μ’各自獨(dú)立地優(yōu)選是選自鋁、娃、鍺、銦、錫、鉛、磷、硼、鎵、鋰、鈉、鉀、銣、銫、鈹、鎂、1丐、銀、鋇、釹、鐠、鉺、鋪、鈦、 錯(cuò)、鉭、鋅、鎢、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅和鑰所組成的組中的至少一種元素。從無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)的耐熱性、耐候性的觀點(diǎn)考慮，M和Μ’特別優(yōu)選是硅、硼、鈦、鋯和鋅。另外，從無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)的物性控制的觀點(diǎn)考慮，作為M和Μ，，可以進(jìn)一步含有堿金屬、堿土金屬。通過(guò)含有堿金屬、堿土金屬，例如，可以調(diào)整無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)的軟化溫度、玻璃化轉(zhuǎn)變溫度、熱膨脹系數(shù)、化學(xué)耐久性等。另外，為了賦予無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)以著色、特定波長(zhǎng)下的光吸收等功能，作為M和Μ’，可以進(jìn)一步含有稀土元素、過(guò)渡金屬元素。通過(guò)含有稀土元素或過(guò)渡金屬元素，例如，可以賦予無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)以熒光特性、激光發(fā)信(laseroutgoing)特性、磁性等功能。無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)的層的厚度自氧化物成型體表面起優(yōu)選為50ηηΓ 0 μ m。小于50nm時(shí),往往不能賦予成型體表面以充分的硬度，因此不優(yōu)選。而超過(guò)10 μ m時(shí),無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)層容易產(chǎn)生裂紋，因而不優(yōu)選。無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)層的厚度更優(yōu)選為100ηπΓ5 μ m,進(jìn)一步優(yōu)選為200ηπΓ! μ m。本發(fā)明的氧化物成型體優(yōu)選具有微細(xì)結(jié)構(gòu)。該微細(xì)結(jié)構(gòu)可以在成型體的表面上形成，也可以在成型體的內(nèi)部形成。通過(guò)形成微細(xì)結(jié)構(gòu)，可以賦予氧化物成型體以例如低反射率性、憎水性、憎油性等功能。為了表現(xiàn)上述功能，微細(xì)結(jié)構(gòu)優(yōu)選為IOOnm以上的尺寸，更優(yōu)選為100ηπΓ200μπι的尺寸。另外，微細(xì)結(jié)構(gòu)的面內(nèi)尺寸誤差優(yōu)選為20nm以下。更優(yōu)選，面內(nèi)尺寸誤差為IOnm以下。其中，厚度為10 μ m以下的覆膜時(shí)，覆膜全體可以為無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)。如果是上述厚度，可以不損害通過(guò)微細(xì)加工在覆膜上固定的微細(xì)結(jié)構(gòu)，提高耐久性。對(duì)本發(fā)明的氧化物成型體的形態(tài)沒(méi)有特別限制，作為優(yōu)選的例子，可列舉出氧化物部位為復(fù)合氧化物部位的薄膜狀的氧化物成型體(復(fù)合氧化物系薄膜)。該復(fù)合氧化物系薄膜顯示了特別優(yōu)異的耐候性、耐損傷/磨耗性和透光性。作為復(fù)合氧化物系薄膜的復(fù)合氧化物部位，在由元素M和元素M’借助氧原子鍵合而成的Μ-0-Μ’鍵構(gòu)成的部位中，元素M是選自鈦、鋯、鋁、硅、鍺、銦、錫、鉭、鋅、鎢和鉛所組成的組中的至少一種，元素M’是選自硼、鋁、鎵和銦所組成的組中的至少一種以上的13族元素。從所得薄膜的透明性的觀點(diǎn)考慮，特別優(yōu)選由使用硅作為元素M、使用硼作為元素M’的Si-O-B鍵構(gòu)成。另外，復(fù)合氧化物系薄膜的無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)由Μ-0-Μ’鍵、M-O-M鍵或Μ’ _0_M’鍵中的至少一個(gè)鍵構(gòu)成，元素M是選自鈦、鋯、鋁、硅、鍺、銦、錫、鉭、鋅、鎢和鉛所組成的組中的至少一種，元素M’是選自硼、鋁、鎵和銦所組成的組中的至少一種以上的13族元素。從所得薄膜的透明性的觀點(diǎn)出發(fā)，特別優(yōu)選由Si-O-B鍵、Si-O-Si鍵、B-O-B鍵中的至少一種鍵構(gòu)成。上述本發(fā)明的氧化物成型體的制造方法特征在于包括下述工序A 工序D的工序。工序A :通過(guò)下式[2]的基元反應(yīng)，獲得具有包含聚合性官能團(tuán)的有機(jī)基R2與M-O-M’鍵的前體R2-M-OHT的工序；R2-M-Y+M’ -OH — R2-M-O-M, +Y-H 丨 [2]式[2]中，R2是包含聚合性官能團(tuán)的有機(jī)基，Y是具有碳原子數(shù)f 20的烴基的烷氧基，或齒素基團(tuán)，M和M’各自獨(dú)立地是選自招、娃、錯(cuò)、鋼、錫、鉛、憐、砸、嫁、裡、納、鐘、伽、 銫、鈹、鎂、 丐、銀、鋇、釹、鐠、鉺、鋪、鈦、錯(cuò)、鉭、鋅、鶴、銀、鉻、猛、鐵、鈷、鎳、銅和鑰所組成的組中的至少一種元素；工序B :涂布包含前體的涂布液的工序；工序C :使涂布液光固化和/或熱固化的工序；工序D :通過(guò)將固化后的固化體的至少表層進(jìn)行氧化處理，使該固化體的至少表層成為無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)的工序。在工序A的反應(yīng)式[2]的基元反應(yīng)中，作為用作R2-M-Y的物質(zhì)，可列舉出下式[3]所示的元素M的醇鹽或鹵化物。[3]式[3]中，R2是包含聚合性官能團(tuán)的有機(jī)基，Y是具有碳原子數(shù)f 20的烴基的烷氧基，或齒素基團(tuán)，M是選自招、娃、鍺、銦、錫、鉛、磷、硼、鎵、鋰、鈉、鉀、銣、銫、鈹、鎂、 丐、銀、鋇、釹、鐠、鉺、鈰、鈦、鋯、鉭、鋅、鎢、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅和鑰所組成的組中的至少一種元素，s是元素M的化合價(jià),m是O到(s-Ι)表示的正整數(shù)。形成上述復(fù)合氧化物系薄膜時(shí)，通式[3]的Y是烷氧基，M是選自鈦、鋯、鋁、硅、鍺、銦、錫、鉭、鋅、鎢和鉛所組成的組中的至少一種。通式[3]為醇鹽時(shí)，Y是烷氧基，該烷氧基的烴基為碳原子數(shù)20以下時(shí)，在反應(yīng)式中，Y-H所示的副產(chǎn)醇化合物容易揮發(fā)，容易去除到系統(tǒng)外，因此是優(yōu)選的。該碳原子數(shù)更優(yōu)選為10以下，進(jìn)一步優(yōu)選為4以下。烴基除了碳原子和氫原子以外可以含有鹵素原子，另外，可以含有不飽和烴基。另外,通式[3]為鹵化物時(shí)，Y是鹵素基團(tuán)，作為該鹵素基團(tuán),可列舉出氟、氯、溴、碘，從安全性和反應(yīng)控制的容易性的觀點(diǎn)出發(fā)，特別優(yōu)選鈦、鋯、鋁、硅、鍺、銦、錫、鉭、鋅、鎢、鉛的氯化物。在工序A的反應(yīng)式[2]的基元反應(yīng)中，作為用作M’-OH的物質(zhì)，可列舉出下式[4]所示的元素M’的氫氧化物M’(OH) t_u [4]式[4]中，M，是選自招、娃、鍺、銦、錫、鉛、磷、硼、鎵、鋰、鈉、鉀、銣、銫、鈹、鎂、隹丐、鍶、鋇、釹、鐠、鉺、鈰、鈦、鋯、鉭、鋅、鎢、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅和鑰所組成的組中的至少一種元素，t是元素M’的化合價(jià)，u是O到(t-Ι)所表示的正整數(shù)。元素M’為磷時(shí)，可以是磷酸，也可以是亞磷酸。形成上述復(fù)合氧化物系薄膜時(shí)，通式[4]的M’是選自硼、鋁、鎵和銦所組成的組中的至少一種以上的13族元素。另外，在工序A的反應(yīng)式[2]的基元反應(yīng)中，用作R2-M-Y的物質(zhì)的Y基的數(shù)目與用作M’ -OH的物質(zhì)的OH基的數(shù)目?jī)?yōu)選是Y:OH=O. 05:0. 95 O. 95:0. 05。偏離上述范圍時(shí)，由于收率降低、未反應(yīng)成分的殘留，所得成型體的耐候性、厚度往往變得不充分。更優(yōu)選地，Y:OH=O. 1:0. 9^0. 9:0. I，進(jìn)一步優(yōu)選，Y:OH=O. 2:0. 8^0. 8:0. 2。在工序A中，反應(yīng)式[2]的基元反應(yīng)優(yōu)選在無(wú)水且無(wú)溶劑環(huán)境下進(jìn)行。在該條件下，通過(guò)使基元反應(yīng)中副產(chǎn)的醇化合物、鹵化氫化合物揮發(fā)，去除到系統(tǒng)外，從而容易地使該基元反應(yīng)向右邊進(jìn)行，因此是優(yōu)選的。此外，在該條件下，基元反應(yīng)中獲得的物質(zhì)為M和M，借助氧原子交替鍵合而成的交替共聚物，容易控制分子結(jié)構(gòu)，因而是優(yōu)選的。因此，M的醇鹽或齒化物以及M’的氫氧化物優(yōu)選是無(wú)水物。為了促進(jìn)反應(yīng)以及去除副產(chǎn)物醇化合物、鹵化氫化合物，工序A優(yōu)選在1(T30(TC、邊流過(guò)非活性氣體邊進(jìn)行。 為了從工序A中獲得的前體中去除未反應(yīng)的M的醇鹽、鹵化物、M’的氫氧化物、副產(chǎn)物醇化合物、齒化氫化合物，可以將該前體減壓干燥。另外，通過(guò)邊加熱邊減壓干燥，可以促進(jìn)上述去除。在工序A中獲得的前體中，反應(yīng)收率優(yōu)選為1(Γ90%。該反應(yīng)收率如下式所示,是反應(yīng)式[2]的基元反應(yīng)中消耗的Y基數(shù)和OH基數(shù)的總數(shù)相對(duì)于反應(yīng)前的Y基數(shù)和OH基數(shù)的總數(shù)的比例。[數(shù)學(xué)式I]
權(quán)利要求
1.一種氧化物成型體，其含有氧化物部位和有機(jī)交聯(lián)部位，至少表層為無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的氧化物成型體，其特征在于，所述氧化物部位由元素M和M’借助氧原子鍵合而成的Μ-0-Μ’鍵構(gòu)成，M和M’各自獨(dú)立地是選自鋁、硅、鍺、銦、錫、鉛、磷、硼、鎵、鋰、鈉、鉀、銣、銫、鈹、鎂、鈣、鍶、鋇、釹、鐠、鉺、鈰、鈦、鋯、鉭、鋅、鎢、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅和鑰所組成的組中的至少一種元素。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氧化物成型體，其特征在于，所述氧化物部位是由元素M和元素M’借助氧原子鍵合而成的Μ-0-Μ’鍵構(gòu)成的復(fù)合氧化物部位，所述元素M是選自鈦、鋯、鋁、硅、鍺、銦、錫、鉭、鋅、鎢和鉛所組成的組中的至少一種，元素M’是選自硼、鋁、鎵、銦所組成的組中的至少一種13族元素。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的氧化物成型體，其特征在于，所述有機(jī)交聯(lián)部位是包含下式[I]所示的結(jié)構(gòu)的有機(jī)部位，該有機(jī)部位的至少2個(gè)末端分別鍵合于所述元素M和M’
5.根據(jù)權(quán)利要求Γ4的任一項(xiàng)所述的氧化物成型體，其特征在于，所述有機(jī)交聯(lián)部位是使包含聚合性官能團(tuán)的有機(jī)基進(jìn)行光聚合反應(yīng)和/或熱聚合反應(yīng)而獲得的部位。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氧化物成型體，其特征在于，所述聚合性官能團(tuán)是選自乙烯基、烯丙基、苯乙烯基、丙烯基、甲基丙烯基、丙烯?；?、甲基丙烯?；?、環(huán)氧基、縮水甘油基、環(huán)氧丙氧基、氨基乙酰氧基和氧雜環(huán)丁基中的至少一個(gè)基團(tuán)。
7.根據(jù)權(quán)利要求Γ6的任一項(xiàng)所述的氧化物成型體，其特征在于，所述無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)是由Μ_0_Μ’、M-O-M或Μ’ _0_Μ’所不的鍵形成的物質(zhì)，其中，M和Μ’各自獨(dú)立地是選自招、娃、錯(cuò)、鋼、錫、鉛、憐、砸、嫁、裡、納、鐘、伽、艷、被、續(xù)、韓、銀、鎖、欽、譜、輯、鋪、欽、錯(cuò)、鉭、鋅、鎢、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅和鑰所組成的組中的至少一種元素。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氧化物成型體，其特征在于，所述無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)是由Μ-0-Μ’、M-O-M或M’ -O-W所示的鍵形成的物質(zhì)，其中，所述M是選自鈦、鋯、鋁、硅、鍺、銦、錫、鉭、鋅、鎢和鉛所組成的組中的至少一種元素，Μ’是選自硼、鋁、鎵和銦所組成的組中的至少一種13族元素。
9.根據(jù)權(quán)利要求Γ8的任一項(xiàng)所述的氧化物成型體，其特征在于，所述無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)的層的厚度自所述氧化物成型體的表面起為50ηηΓ 0 μ m。
10.根據(jù)權(quán)利要求廣9的任一項(xiàng)所述的氧化物成型體，其特征在于，其具有IOOnm以上的尺寸的微細(xì)結(jié)構(gòu)。
11.權(quán)利要求f10的任一項(xiàng)所述的氧化物成型體的制造方法，其包括下述工序工序D 工序A :通過(guò)下式[2]的基元反應(yīng)，獲得具有包含聚合性官能團(tuán)的有機(jī)基R2和Μ-0-Μ’鍵的前體R2-M-O-M’的工序； R2-M-Y+M’ -OH — R2-M-OHT +Y-H 丨 [2]式[2]中，R2是包含聚合性官能團(tuán)的有機(jī)基，Y是具有碳原子數(shù)f 20的烴基的烷氧基，或鹵素基團(tuán)，M和M’各自獨(dú)立地是選自鋁、硅、鍺、銦、錫、鉛、磷、硼、鎵、鋰、鈉、鉀、銣、銫、鈹、鎂、 丐、銀、鋇、釹、鐠、鉺、鋪、鈦、錯(cuò)、鉭、鋅、鶴、銀、鉻、猛、鐵、鈷、鎳、銅和鑰所組成的組中的至少一種元素； 工序B :涂布包含前體的涂布液的工序； 工序C :使涂布液光固化和/或熱固化的工序； 工序D :通過(guò)對(duì)固化后的固化體的至少表層進(jìn)行氧化處理，使該固化體的至少表層成為無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)的工序。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的氧化物成型體的制造方法，其特征在于，在所述工序C之前，或在工序C的途中，實(shí)施IOOnm以上的尺寸的微細(xì)加工。
全文摘要
本發(fā)明的氧化物成型體特征在于含有氧化物部位和有機(jī)交聯(lián)部位，且至少表層是無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)，兼有有機(jī)材料的優(yōu)異加工性和無(wú)機(jī)材料所具有的高耐候性、耐熱性和硬度等有機(jī)-無(wú)機(jī)兩方的優(yōu)點(diǎn)。該氧化物成型體可通過(guò)以下工序來(lái)制造獲得具有包含聚合性官能團(tuán)的有機(jī)基R2與M-O-M’鍵的前體R2-M-O-M’的工序A，涂布含有前體的涂布液的工序B，使涂布液光固化和/或熱固化的工序C，以及通過(guò)對(duì)所得固化體的至少表層進(jìn)行氧化處理，成為無(wú)機(jī)玻璃狀物質(zhì)的工序D。
文檔編號(hào)C01B13/32GK102834351SQ201180017619
公開(kāi)日2012年12月19日 申請(qǐng)日期2011年3月25日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月31日
發(fā)明者高橋雅英, 井原梨惠 申請(qǐng)人:中央硝子株式會(huì)社