多晶硅定向提純爐的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種多晶硅定向提純爐，屬于多晶硅的提純領(lǐng)域，用以解決多晶硅熔煉過程中的高溫?fù)]發(fā)性雜質(zhì)對(duì)多晶硅定向提純爐、真空泵組造成損害的問題。本實(shí)用新型包括爐體和真空抽氣裝置，所述真空抽氣裝置包括真空管路、安裝在真空管路上的比例閥和滑閥泵，真空管路上設(shè)置換熱器和過濾器，換熱器、過濾器、比例閥和滑閥泵按照爐體內(nèi)氣體排出方向依次設(shè)置。其解決了爐體內(nèi)高溫?fù)]發(fā)性雜質(zhì)高溫、沉積從而對(duì)爐體的造成損害的問題，延長(zhǎng)了整個(gè)設(shè)備的使用壽命。
【專利說明】多晶娃定向提純爐

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及多晶硅的提純領(lǐng)域，具體地說，涉及一種多晶硅定向提純爐。

【背景技術(shù)】
[0002]冶金法多晶硅是采用物理法對(duì)冶金級(jí)的硅進(jìn)行造渣、精煉、酸洗(濕法冶金)、定向凝固等方式，將雜質(zhì)去除后得到的高純多晶硅，是光伏轉(zhuǎn)換的基礎(chǔ)材料，具有廣泛的應(yīng)用前景。冶金法多晶硅的提純工藝多樣，其中使用多晶硅真空熔煉爐定向凝固除雜技術(shù)是多晶硅制備中最常見的、最為有效的方法之一。
[0003]多晶硅真空熔煉爐是一種在真空或氣氛條件下熔融多晶硅，并去除硅內(nèi)揮發(fā)雜質(zhì)的設(shè)備。在工業(yè)硅或造渣后的低硼硅中都有大量揮發(fā)性雜質(zhì)存在，熔煉工業(yè)硅之后，設(shè)備內(nèi)壁上會(huì)附著一層沉積物，難以清理。在已有的多晶硅提純?cè)O(shè)備中，多在真空管路中放置鐵絲網(wǎng)或鋼絲團(tuán)作為粉塵或顆粒沉積的方法，但是該方法不能有效去除揮發(fā)雜質(zhì)，雜質(zhì)沉積在爐壁上或溶解在泵油里面，更加難以清理，甚至造成真空泵機(jī)械部件磨損出現(xiàn)漏油或停機(jī)故障，降低整個(gè)設(shè)備的使用壽命。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]為解決上述問題，本實(shí)用新型提供一種減少清理、延長(zhǎng)維護(hù)周期的多晶硅定向提純爐。
[0005]本實(shí)用新型所述的多晶硅定向提純爐，包括爐體和真空抽氣裝置，所述真空抽氣裝置包括真空管路、安裝在真空管路上的比例閥和滑閥泵，真空管路上設(shè)置換熱器和過濾器，換熱器、過濾器、比例閥和滑閥泵按照爐體內(nèi)氣體排出方向依次設(shè)置。
[0006]從爐體內(nèi)揮發(fā)出的雜質(zhì)類似于高溫?zé)焿m，過濾器能夠?qū)脑撾s質(zhì)過濾掉,進(jìn)而能夠防止該雜質(zhì)沉積在真空抽氣裝置的內(nèi)壁上，防止雜質(zhì)對(duì)真空泵油產(chǎn)生污染，在揮發(fā)出的雜質(zhì)進(jìn)入過濾器之前，經(jīng)過換熱器的冷卻作用，能夠?qū)⒏邷仉s質(zhì)冷卻，防止雜質(zhì)對(duì)過濾器的濾芯產(chǎn)生破壞作用，過濾器內(nèi)部的濾芯可以實(shí)現(xiàn)多次利用，而作為調(diào)節(jié)管路開閉的比例閥，也無需再清理，延長(zhǎng)了整個(gè)設(shè)備的維護(hù)周期。
[0007]進(jìn)一步的，所述爐體與真空抽氣裝置之間設(shè)有排氣裝置，排氣裝置包括排氣管和水冷裝置，排氣管一端與真空管路連接，一端深入爐體內(nèi)部。
[0008]排氣裝置中的排氣管將爐體產(chǎn)生的高溫?zé)煔鈧鬏斀o真空抽氣裝置，相當(dāng)于給高溫?zé)煔庖粋€(gè)緩沖的空間，排氣裝置中的水冷裝置，能夠?qū)呐艢夤芘懦龅臒煔膺M(jìn)行一個(gè)預(yù)先的冷卻作用，能夠降低高溫?zé)煔鈱?duì)真空管路的破壞作用，延長(zhǎng)整個(gè)設(shè)備的使用周期。
[0009]優(yōu)選的，所述爐體內(nèi)設(shè)有石英坩堝，石英坩堝設(shè)置在爐體底部的支撐板上，石英坩堝外部設(shè)有保溫桶，保溫桶置于支撐板上，保溫桶頂部設(shè)有保溫蓋，保溫蓋上設(shè)有排氣管入□。
[0010]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:(I)本實(shí)用新型適用于工業(yè)硅提純和造渣后多晶硅的提純，解決了爐體內(nèi)高溫?fù)]發(fā)性雜質(zhì)高溫、沉積從而對(duì)爐體的造成損害的問題；(2)通過過濾器的過濾作用能夠有效的清潔爐體，防止真空油泵受到污染；(3)真空管路上的比例閥和滑閥泵的使用壽命延長(zhǎng)，在使用過程中，比例閥無需再定期清理；(4)經(jīng)過換熱器和排氣裝置中水冷裝置的冷卻作用，過濾器內(nèi)的濾芯能夠多次使用，使用壽命能夠延長(zhǎng)至一個(gè)月。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]其中，1-爐體；2-保溫蓋；3_石英?甘禍；4-溶體娃料；5-保溫桶；6_支撐板；7-水冷裝置；8_真空管路；9_排氣管；10-換熱器；11-冷卻水；12-過濾器；13_比例閥；14_滑閥泵。

【具體實(shí)施方式】
[0013]下面結(jié)合實(shí)施例和附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步解釋。
[0014]一種多晶硅定向提純爐，包括爐體I和真空抽氣裝置，所述真空抽氣裝置包括真空管路8、安裝在真空管路8上的比例閥13和滑閥泵14，真空管路8上設(shè)置換熱器10和過濾器12，換熱器10、過濾器12、比例閥13和滑閥泵14按照爐體內(nèi)氣體排出方向依次設(shè)置。
[0015]爐體I內(nèi)部設(shè)有支撐板6，支撐板6位于爐體I的底部，支撐板6上設(shè)置保溫桶5，保溫桶5頂部設(shè)有保溫蓋2，石英坩堝3置于保溫桶5內(nèi)，保溫蓋2上設(shè)有小孔。
[0016]爐體I與真空抽氣裝置之間設(shè)有排氣裝置，排氣裝置包括排氣管9和水冷裝置7，排氣管9 一端與真空管路8連接，一端通過保溫蓋2上的小孔深入保溫桶5內(nèi)部。
[0017]多晶硅定向爐內(nèi)熔煉工業(yè)硅時(shí)，會(huì)產(chǎn)生高溫?zé)煔怆s質(zhì)，該雜質(zhì)通過排氣管9進(jìn)入到真空抽氣裝置中去，然后依次通過真空管路8上的換熱器10進(jìn)行冷卻、經(jīng)過過濾器12過濾高溫?zé)煔怆s質(zhì)過濾掉，進(jìn)而能夠防止雜質(zhì)進(jìn)入比例閥13和滑閥泵14中，防止對(duì)比例閥13和滑閥泵14造成損壞、對(duì)泵油造成污染。在不使用本實(shí)用新型時(shí)，真空管路8上的比例閥13，每個(gè)生產(chǎn)周期都需要清理一次，在使用后，比例閥13不需要清理，同時(shí)過濾器內(nèi)的濾芯能夠?qū)崿F(xiàn)多次使用，使用壽命能夠延長(zhǎng)至一個(gè)月。
【權(quán)利要求】
1.一種多晶硅定向提純爐，包括爐體(I)和真空抽氣裝置，所述真空抽氣裝置包括真空管路(8)、安裝在真空管路(8)上的比例閥(13)和滑閥泵(14)，其特征在于，真空管路(8)上設(shè)置換熱器(10)和過濾器(12)，換熱器(10)、過濾器(12)、比例閥(13)和滑閥泵(14)按照爐體內(nèi)氣體排出方向依次設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶硅定向提純爐，其特征在于，所述爐體(I)與真空抽氣裝置之間設(shè)有排氣裝置，排氣裝置包括排氣管(9)和水冷裝置，排氣管(9) 一端與真空管路(8)連接,一端深入爐體(I)內(nèi)部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的多晶硅定向提純爐，其特征在于，所述爐體(I)內(nèi)設(shè)有石英坩堝⑶。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的多晶硅定向提純爐，其特征在于，所述石英坩堝(3)設(shè)置在爐體⑴底部的支撐板(6)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的多晶硅定向提純爐，其特征在于，所述石英坩堝(3)外部設(shè)有保溫桶(5)，保溫桶(5)置于支撐板(6)上，保溫桶(5)頂部設(shè)有保溫蓋(2)，保溫蓋(2)上設(shè)有排氣管入口。
【文檔編號(hào)】C01B33/037GK204173921SQ201420600484
【公開日】2015年2月25日 申請(qǐng)日期:2014年10月17日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月17日
【發(fā)明者】譚毅, 姜大川, 顧正, 張曉峰, 劉善亮 申請(qǐng)人:青島隆盛晶硅科技有限公司