1.一種陶瓷金屬化薄膜，其特征在于，由依次施加在陶瓷基體上的陶瓷金屬復合過渡層、第一金屬薄膜和第二金屬薄膜構(gòu)成，其中，陶瓷金屬復合過渡層由第一金屬和與陶瓷基體相同的成分復合而成；所述陶瓷基體由Al2O3、ZrO2、AlN、BN、SiC、Si3N4中的一種構(gòu)成；所述第一金屬為Nb、Ti、Cr、Zr、V、Ta中的一種；所述第二金屬為Ni、Mo、Au、Cu、Pt、W中的一種或幾種混合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷金屬化薄膜，其特征在于，所述陶瓷金屬復合過渡層的厚度為20-200nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷金屬化薄膜，其特征在于，所述陶瓷金屬復合過渡層中，第一金屬所占比例為20-80at％。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷金屬化薄膜，其特征在于，所述第一金屬薄膜的厚度為20-200nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷金屬化薄膜，其特征在于，所述第二金屬薄膜的厚度為1-10μm。
6.一種權(quán)利要求1-5中任一項所述的陶瓷金屬化薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
(1)在陶瓷基體上以濺射鍍膜法沉積陶瓷金屬復合過渡層；
(2)在陶瓷金屬復合過渡層上以濺射鍍膜法依次沉積第一金屬薄膜和第二金屬薄膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陶瓷金屬化薄膜，其特征在于，所述陶瓷金屬復合過渡層的制備采用共沉積濺射鍍膜法，采用金屬靶和陶瓷靶，通過調(diào)整濺射功率實現(xiàn)過渡層中金屬成分、陶瓷成分的含量調(diào)整。