技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種在絕緣襯底上直接制備層數(shù)可控石墨烯的方法，利用離子注入精確控制碳離子劑量，直接在各種絕緣襯底上制備不同層數(shù)的石墨烯。首先在絕緣襯底上沉積金屬鎳薄膜，接著使用離子注入將不同層數(shù)對(duì)應(yīng)的碳離子劑量分別注入到鎳薄膜中，然后在鎳上沉積相對(duì)比較厚的銅薄膜。在高溫下使鎳銅會(huì)發(fā)生互溶，大量的銅會(huì)將碳不斷地往下推，最終從鎳中推出，在絕緣襯底和鎳銅合金的界面處形成石墨烯。本發(fā)明可以直接在不同的絕緣襯底上獲得大面積層數(shù)可控的高質(zhì)量連續(xù)石墨烯，不需要進(jìn)一步轉(zhuǎn)移，大大提高了石墨烯的質(zhì)量，本發(fā)明高溫合成時(shí)間極短，可以極大的提高制備效率，為工業(yè)化制備絕緣體上高質(zhì)量石墨烯以及石墨烯應(yīng)用提供了有效可行地途徑。

技術(shù)研發(fā)人員：狄增峰;汪子文;王剛;鄭曉虎;戴家赟;薛忠營(yíng);張苗;王曦
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國(guó)科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所
技術(shù)研發(fā)日：2015.12.29
技術(shù)公布日：2017.07.07