1.一種玻璃基板，其特征在于，是由含有鋁的硅酸玻璃構(gòu)成的玻璃基板，
從通過X射線光電子光譜法測得的所述玻璃基板的內(nèi)部的鋁的原子濃度與硅的原子濃度之比的值減去通過X射線光電子光譜法測得的所述玻璃基板的表面的鋁的原子濃度與硅的原子濃度之比的值而得到的值即ΔAl/Si值為0.25以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃基板，其中，所述ΔAl/Si值為0.19以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的玻璃基板，其中，所述玻璃基板的表面的算術(shù)平均表面粗糙度為0.2nm以下。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的玻璃基板，其中，所述含有鋁的硅酸玻璃為鋁硼硅酸玻璃，該鋁硼硅酸玻璃具有含有SiO2、Al2O3、B2O3和堿土金屬的氧化物的組成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項所述的玻璃基板，其中，所述含有鋁的硅酸玻璃為實質(zhì)上不含堿金屬成分的鋁硼硅酸玻璃。
6.一種玻璃基板的制造方法，其特征在于，是制造權(quán)利要求1～5中任一項所述的玻璃基板的方法，
利用pH大于2.7的水系清洗液對利用含有磨粒的研磨劑進行了研磨的玻璃基板進行清洗。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的玻璃基板的制造方法，其中，所述磨粒為氧化鈰粒子。
8.一種黑矩陣基板，其特征在于，是在權(quán)利要求1～5中任一項所述的玻璃基板上形成黑矩陣膜而成的。