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用于激光處理材料的方法和設備與流程

文檔序號:11933897閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種激光處理透明材料的方法,所述方法包括:

將所述透明材料定位于載體上;并且

將激光束透射穿過所述透明材料,所述激光束入射至所述透明材料的與所述載體相對的側(cè)面上,其中:

所述透明材料對所述激光束是基本上透明的;

所述載體包含支撐基部和激光中斷元件;并且

所述激光中斷元件光學中斷透射穿過所述透明材料的激光束,使得所述激光束不在所述激光中斷元件下方具有足夠的強度來損壞所述支撐基部。

2.如權(quán)利要求1所述的方法,其中所述激光中斷元件包含磨砂玻璃。

3.如權(quán)利要求1或2所述的方法,其中所述載體的至少一部分對所述激光束是不透明的。

4.如權(quán)利要求1、2或3所述的方法,其中所述激光中斷元件不受透射穿過所述透明材料的激光束損壞。

5.如權(quán)利要求1所述的方法,其中所述透明材料是玻璃。

6.如權(quán)利要求1所述的方法,進一步包括用入射至所述透明材料上的所述激光束穿孔所述透明材料。

7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中所述激光束具有在約1皮秒與約100皮秒之間的脈沖持續(xù)時間。

8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中所述激光束具有在約1kHz與2MHz之間的脈沖爆發(fā)重復率并且每個脈沖爆發(fā)具有至少兩個脈沖。

9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中所述激光中斷元件包含光學中斷所述激光束的粗糙表面。

10.如權(quán)利要求9所述的方法,其中所述粗糙表面的平均粗糙度(Ra)大于或等于約0.5微米。

11.如權(quán)利要求9或10所述的方法,其中所述粗糙表面是所述激光中斷元件的最接近所述透明材料的表面。

12.如權(quán)利要求1-8中任一項所述的方法,其中所述激光中斷元件是基本上平坦的片材。

13.如權(quán)利要求1-8或12所述的方法,其中所述激光中斷元件是半透明的。

14.一種用于激光處理的多層堆疊,所述多層堆疊包含:

載體,其包含支撐基部和激光中斷元件,所述激光中斷元件定位在所述支撐基部的頂部上;以及

定位在所述載體上的透明材料,所述透明材料包含基本上平坦的頂部表面和基本上平坦的底部表面,其中所述透明材料對入射至所述透明材料的與所述載體相對的表面上的激光束是基本上透明的,其中:

所述激光中斷元件光學中斷透射穿過所述透明材料的激光束,使得所述激光束不在所述激光中斷元件下方具有足夠的強度來損壞所述支撐基部。

15.如權(quán)利要求14所述的多層堆疊,其中所述激光中斷元件包含光學中斷所述激光束的粗糙表面。

16.如權(quán)利要求15所述的多層堆疊,其中所述粗糙表面的平均粗糙度(Ra)大于或等于約0.5微米。

17.一種在激光處理定位在載體上的透明材料時保護所述載體的方法,所述方法包括:

將所述透明材料定位于所述載體的頂部上,所述載體包含支撐基部;

將激光束透射穿過所述透明材料,其中所述激光束入射至所述透明材料的與所述載體相對的表面上,所述激光束包含具有足以損壞所述載體的強度的聚焦區(qū)域;并且

將激光中斷元件定位在所述支撐基部與所述透明材料之間,所述激光中斷元件光學中斷透射穿過所述透明材料的激光束,使得所述激光束不在所述激光中斷元件下方的任一點處具有足夠的強度來損壞所述支撐基部。

18.如權(quán)利要求17所述的方法,其中所述激光中斷元件包含光學中斷所述激光束的粗糙表面。

19.如權(quán)利要求18所述的方法,其中所述粗糙表面的平均粗糙度(Ra)大于或等于約0.5微米。

20.如權(quán)利要求17所述的方法,其中所述激光中斷元件包含磨砂玻璃。

21.如權(quán)利要求1所述的方法,其中所述激光束通過脈沖激光產(chǎn)生并且所述脈沖激光具有10W-150W的激光功率并且利用每脈沖爆發(fā)至少2個脈沖產(chǎn)生脈沖爆發(fā)。

22.如權(quán)利要求21所述的方法,其中所述脈沖激光具有10W-100W的激光功率并且利用每脈沖爆發(fā)至少2-25個脈沖產(chǎn)生脈沖爆發(fā)。

23.如權(quán)利要求21所述的方法,其中所述脈沖激光具有25W-60W的激光功率,并且利用每爆發(fā)至少2-25個脈沖產(chǎn)生脈沖爆發(fā),并且缺陷線之間的周期性是2-20微米。

24.如權(quán)利要求23所述的方法,其中所述激光中斷元件包含磨砂玻璃。

25.如權(quán)利要求1或17所述的方法,其中所述脈沖激光具有10W-150W的激光功率并且利用每脈沖爆發(fā)至少2個脈沖產(chǎn)生脈沖爆發(fā)。

26.如權(quán)利要求25所述的方法,其中所述脈沖激光具有10W-100W的激光功率并且利用每脈沖爆發(fā)至少2-25個脈沖產(chǎn)生脈沖爆發(fā)。

27.如權(quán)利要求25所述的方法,其中所述脈沖激光具有25W-60W的激光功率,并且利用每爆發(fā)至少2-25個脈沖產(chǎn)生脈沖爆發(fā),并且缺陷線之間的周期性是2-20微米。

28.如權(quán)利要求1或17所述的方法,其中所述激光束通過脈沖激光產(chǎn)生。

29.如權(quán)利要求28所述的方法,其中所述脈沖激光具有在約10皮秒與約100皮秒之間的脈沖持續(xù)時間。

30.如權(quán)利要求29所述的方法,其中所述脈沖激光具有小于10皮秒的脈沖持續(xù)時間。

31.如權(quán)利要求28、29或30所述的方法,其中所述脈沖激光具有在10kHz與1000kHz之間的脈沖重復頻率。

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