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耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層及其制備方法與流程

文檔序號:11823906閱讀:550來源:國知局

本發(fā)明涉及陶瓷涂層材料領(lǐng)域,特別涉及一種耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層及其制備方法。



背景技術(shù):

陶瓷基復(fù)合材料是以陶瓷為基體與各種纖維復(fù)合的一類復(fù)合材料。陶瓷基復(fù)合材料能提供很好的綜合性能,這是因?yàn)樗鼈兊墓矁r(jià)鍵結(jié)合結(jié)構(gòu)在高溫下具有按照強(qiáng)度、剛度、硬度和耐磨性要求而調(diào)整結(jié)合的特殊能力,再加上這種材料的密度較低,從而很適合做高溫材料。而其致命的弱點(diǎn)是具有脆性,即柔韌性較差,當(dāng)材料處于應(yīng)力狀態(tài)時(shí),會(huì)產(chǎn)生裂紋,甚至斷裂導(dǎo)致材料失效。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

基于此,有必要提供一種柔韌性較好的耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層及其制備方法。

一種耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層,包括以下重量份數(shù)的組分:含炔基樹脂:1~99份;聚硼硅氮烷樹脂或聚硅氮烷樹脂:1~99份;及納米級填料:1~99份;

或包括以下重量份數(shù)的組分:含炔基聚硼硅氮烷或含炔基聚硅氮烷:1~99份;及納米級填料:1~99份。

在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述含炔基樹脂為芳基乙炔樹脂、乙炔基封端的聚酰亞胺樹脂或含硅芳炔樹脂、端炔基聚砜樹脂、端炔基苯并吡啶樹脂、乙炔基苯并噁嗪樹脂或炔丙基酚醛樹脂。

在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述納米級填料為Hf的氧化物、Hf的碳化物、Zr的氧化物或Zr的碳化物。

在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述納米級填料的粒徑在50~500nm之間。

一種耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層的制備方法,包括:采用有機(jī)溶劑稀釋含炔基樹脂、聚硼硅氮烷樹脂或聚硅氮烷樹脂、及納米級填料,充分研磨和分散后涂覆或浸漬在C/C復(fù)合材料上,然后固化交聯(lián),再裂解,形成所述耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層;其中:所述含炔基樹脂1~99重量份,所述聚硼硅氮烷樹脂或聚硅氮烷樹脂1~99重量份,及納米級填料1~99重量份;

或:

采用有機(jī)溶劑稀釋含炔基聚硼硅氮烷或含炔基聚硅氮烷、及納米級填料,充分研磨和分散后涂覆或浸漬在C/C復(fù)合材料上,然后固化交聯(lián),再裂解,形成所述耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層,其中所述含炔基聚硼硅氮烷或所述含炔基聚硅氮烷1~99重量份,及納米級填料1~99重量份。

在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述固化交聯(lián)的固化溫度為100℃~400℃。

在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述裂解在惰性氣體中進(jìn)行。

在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述惰性氣體為氮?dú)饣驓鍤狻?/p>

在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述裂解的裂解溫度為900℃~1800℃,且升溫速度為5~10℃/min。

在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述有機(jī)溶劑為甲苯、二甲苯、己烷、環(huán)己烷或正庚烷。

上述耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層采用了炔基樹脂、或含炔基聚硼硅氮烷或含炔基聚硅氮烷制備的耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層,從而該耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層可以實(shí)現(xiàn)在更低溫度下的固化交聯(lián),形成的涂層具有更好的柔韌性。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂,下面對本發(fā)明的具體實(shí)施方式做詳細(xì)的說明。在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明。但是本發(fā)明能夠以很多不同于在此描述的其它方式來實(shí)施,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似改進(jìn),因此本發(fā)明不受下面公開的具體實(shí)施的限制。

一實(shí)施方式的耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層,包括以下重量份數(shù)的組分:含炔基樹脂:1~99份;聚硼硅氮烷樹脂或聚硅氮烷樹脂:1~99份;及納米級填料:1~99份。優(yōu)選地,含炔基樹脂為50~99重量份。

一實(shí)施方式的耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層,包括以下重量份數(shù)的組分:含炔基聚硼硅氮烷或含炔基聚硅氮烷:1~99份;及納米級填料:1~99份。優(yōu)選地,含炔基聚硼硅氮烷或含炔基聚硅氮烷為50~99重量份。

含炔基聚硅氮烷是一種含-Si-N-重復(fù)單元的聚合物,高溫裂解轉(zhuǎn)化成SiCN、SiNO、SiCO等陶瓷。含炔基聚硼硅氮烷是一種含有B元素的以-Si-N-為重復(fù)單元的聚硅氮烷。含炔基聚硼硅氮烷或含炔基聚硅氮烷樹脂一種含有-C≡C-的聚硅氮烷或聚硼硅氮烷。

上述耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層采用了炔基樹脂、或含炔基聚硼硅氮烷或含炔基聚硅氮烷制備的耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層,成分中含有的炔基有助于低溫固化交聯(lián),并且在裂解過程中形成自由碳,有助于形成難溶金屬碳化物-SiC復(fù)合材料,增強(qiáng)涂層與碳材料、C/C或C-SiC等基材的結(jié)合能力,并同時(shí)發(fā)揮硅碳氮或硅硼碳氮高溫陶瓷和金屬碳化物-SiC復(fù)合材料的雙重優(yōu)勢,從而該耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層可以實(shí)現(xiàn)在更低溫度下的固化交聯(lián),形成的涂層具有更好的柔韌性。 該耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層增加基材在高溫、沖蝕等惡劣環(huán)境中的使用壽命,可應(yīng)用于航空航天等耐高溫?zé)g領(lǐng)域。

在一實(shí)施方式中,含炔基樹脂為芳基乙炔樹脂、乙炔基封端的聚酰亞胺樹脂或含硅芳炔樹脂、端炔基聚砜樹脂、端炔基苯并吡啶樹脂、乙炔基苯并噁嗪樹脂、或炔丙基酚醛樹脂。

在一實(shí)施方式中,納米級填料為Hf的氧化物、Hf的碳化物、Zr的氧化物或Zr的碳化物。在一實(shí)施方式中,納米級填料的粒徑在50~500nm之間。優(yōu)選地,納米級填料的粒徑在100~300nm之間。

一種耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層的制備方法,包括:

采用有機(jī)溶劑稀釋含炔基樹脂、聚硼硅氮烷樹脂或聚硅氮烷樹脂、及納米級填料,充分研磨和分散后涂覆或浸漬在C/C復(fù)合材料上,然后固化交聯(lián),再裂解,形成所述耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層;其中:所述含炔基樹脂1~99重量份,所述聚硼硅氮烷樹脂或聚硅氮烷樹脂1~99重量份;及納米級填料1~99重量份。優(yōu)選地,含炔基樹脂為50~99重量份。

或:

采用有機(jī)溶劑稀釋含炔基聚硼硅氮烷或含炔基聚硅氮烷、及納米級填料,充分研磨和分散后涂覆或浸漬在C/C復(fù)合材料上,然后固化交聯(lián),再裂解,形成所述耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層,其中所述含炔基聚硼硅氮烷或所述含炔基聚硅氮烷1~99重量份;及納米級填料1~99重量份。優(yōu)選地,含炔基聚硼硅氮烷或含炔基聚硅氮烷為50~99重量份。

在一實(shí)施方式中,納米級填料為Hf的氧化物、Hf的碳化物、Zr的氧化物或Zr的碳化物。在一實(shí)施方式中,納米級填料的粒徑在50~500nm之間。優(yōu)選地,納米級填料的粒徑在100~300nm之間。

在一實(shí)施方式中,在烘箱里進(jìn)行固化交聯(lián)。在一實(shí)施方式中,固化交聯(lián)的固化溫度為100℃~400℃。優(yōu)選溫度為150℃~350℃。

在一實(shí)施方式中,所述裂解在惰性氣體中進(jìn)行。優(yōu)選地,所述惰性氣體為氮?dú)饣驓鍤?。在一?shí)施方式中,在高溫氣氛爐中進(jìn)行裂解,裂解溫度為900℃~1800℃,且升溫速度為5~10℃/min。

在一實(shí)施方式中,有機(jī)溶劑為甲苯、二甲苯、己烷、環(huán)己烷或正庚烷。

上述耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層采用了炔基樹脂、或含炔基聚硼硅氮烷或含炔基聚硅氮烷制備的耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層,耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層的炔基含量較大時(shí),在不同溫度下,可形成不同難熔金屬化合物結(jié)構(gòu)的涂層,1200℃時(shí)難溶金屬化合物Hf或Zr主要以氧化物的形式存在;大于1400℃時(shí)慢慢形成金屬碳化物、SiC和SiBCN或SiCN多相陶瓷基涂層,多相陶瓷更有利于提高涂層的耐溫值,其耐溫性大于1700℃。上述含有的炔基不僅可以實(shí)現(xiàn)在更低溫度下的固化交聯(lián),而且形成的涂層具有更好的柔韌性。

實(shí)施例

實(shí)施例1

將16.2g聚硅氮烷樹脂、16.2g炔丙基酚醛樹脂分別用甲苯稀釋,混合均勻,然后加入事先研磨好200nm的ZrO2粉末4.1g,混合攪拌分散均勻,取一定量的碳纖維浸漬在混合液中,取出后在烘箱中150℃固化2h,采用Ar保護(hù),然后在高溫氣氛爐中進(jìn)行裂解,在1400℃(升溫速度為10℃/min)熱解2h,得到耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層。

XRD分析熱解產(chǎn)物,發(fā)現(xiàn)產(chǎn)物中有SiBNC、ZrO2(t,m)和自由C生成。

實(shí)施例2

將15.7g聚硅氮烷樹脂、2.6g芳基乙炔樹脂分別用二甲苯稀釋,混合均勻, 然后加入事先研磨好50nm的ZrC粉末2g,混合攪拌分散均勻,取一定量的碳纖維浸漬在混合液中,取出后在烘箱中200℃固化1.5h,Ar保護(hù),在高溫氣氛爐中進(jìn)行裂解,在900℃(升溫速度為5℃/min)熱解2h,得到耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層。

分析熱解產(chǎn)物,除了ZrC之外,還有SiNC和自由C生成。

實(shí)施例3

將52.6g聚硼硅氮烷樹脂、15.7g端炔基苯并吡啶樹脂分別用環(huán)己烷稀釋,混合均勻,然后加入事先研磨好100nm的氧化鉿粉末20.5g,混合攪拌分散均勻,取一定量的碳纖維浸漬在混合液中,取出后在烘箱中250℃固化1h,Ar保護(hù),在高溫氣氛爐中進(jìn)行裂解,在1700℃(升溫速度為8℃/min)熱解2h,得到耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層。

分析熱解產(chǎn)物,發(fā)現(xiàn)有HfC和SiBNC等耐高溫相存在。

實(shí)施例4

將68.3g含炔基聚硼硅氮烷用環(huán)己烷稀釋,混合均勻,然后加入事先研磨好500nm的氧化鉿粉末31.5g,混合攪拌分散均勻,取一定量的碳纖維浸漬在混合液中,取出后在烘箱中400℃固化1h,N2保護(hù),在高溫氣氛爐中進(jìn)行裂解,在1800℃(升溫速度為10℃/min)熱解2h,得到耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層。

分析熱解產(chǎn)物,發(fā)現(xiàn)有HfC和SiBNC等耐高溫相存在。

實(shí)施例5

將70.6g含炔基聚硅氮烷用環(huán)己烷稀釋,混合均勻,然后加入事先研磨好500nm的氧化鉿粉末16.8g,混合攪拌分散均勻,取一定量的碳纖維浸漬在混合液中,取出后在烘箱中100℃固化1h,N2保護(hù),在高溫氣氛爐中進(jìn)行裂解,在1800℃(升溫速度為10℃/min)熱解2h,得到耐高溫陶瓷基復(fù)合涂層。

分析熱解產(chǎn)物,有SiNC和HfC等耐高溫相存在。

上述含有的炔基不僅可以實(shí)現(xiàn)在更低溫度下的固化交聯(lián),而且形成的涂層 具有更好的柔韌性。

以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的幾種實(shí)施方式,其描述較為具體和詳細(xì),但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下,還可以做出若干變形和改進(jìn),這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此,本發(fā)明專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。

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