1.一種面板，其特征在于，包括：
面板主體，所述面板主體由微晶玻璃制成；和
不粘耐磨涂層，附設(shè)在所述面板主體的板面上；
其中，所述不粘耐磨涂層為陶瓷涂層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的面板，其特征在于，
所述陶瓷涂層由陶瓷涂料制成，所述陶瓷涂料的主劑包括SiO2和Al2O3。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的面板，其特征在于，
所述面板主體由CaO-Al2O3-SiO2系微晶玻璃制成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的面板，其特征在于，還包括：
粗糙層，所述面板主體的板面上形成有所述粗糙層，且所述不粘耐磨涂層附設(shè)在所述粗糙層的層面上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的面板，其特征在于，
所述粗糙層的粗糙度為50μm～80μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的面板，其特征在于，
所述不粘耐磨涂層的厚度為10μm～15μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的面板，其特征在于，
所述面板主體的厚度為3mm～5mm。
8.一種烤盤，其特征在于，具有由權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的面板所構(gòu)成的盤壁，所述不粘耐磨涂層附著在所述盤壁的內(nèi)表面上。
9.一種烹飪器具，其特征在于，包括如權(quán)利要求8所述的烤盤。
10.一種面板的制備方法，用于制備如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的面板，其特征在于，包括：
步驟S30：將涂料噴涂到微晶玻璃制成的面板主體的板面上；
步驟S40：將涂覆有涂料的所述面板主體置于爐子中燒結(jié)固化，形成不粘耐磨涂層；
其中，在所述步驟S30中，所述涂料為陶瓷涂料。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的面板的制備方法，其特征在于，
在所述步驟S30中，采用氣壓噴涂工藝將所述涂料涂覆到所述面板主體的板面上。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的面板的制備方法，其特征在于，
在所述步驟S30中，氣壓噴涂工藝的參數(shù)為：噴嘴口徑：0.5mm～1.8mm，供給噴槍的空氣壓力為0.3Mpa～0.6Mpa，噴嘴與被噴面的距離為20cm～30cm，噴涂角度為90°±5°。
13.根據(jù)權(quán)利要求10至12中任一項(xiàng)所述的面板的制備方法，其特征在于，所述步驟S40具體包括：
步驟S402：在第一設(shè)定溫度下加熱第一設(shè)定時(shí)間，以除去所述涂料中的溶劑；
步驟S404：在第二設(shè)定溫度下加熱第二設(shè)定時(shí)間，以使所述涂料固化，形成所述不粘耐磨涂層；
其中，所述第一設(shè)定溫度低于所述第二設(shè)定溫度。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的面板的制備方法，其特征在于，
在所述步驟S402中，所述第一設(shè)定溫度為65℃～85℃，所述第一設(shè)定時(shí)間為10min～15min；
在所述步驟S404中，所述第二設(shè)定溫度為260℃～280℃，所述第二設(shè)定時(shí)間為20min～25min。
15.根據(jù)權(quán)利要求10至12中任一項(xiàng)所述的面板的制備方法，其特征在于，在所述面板主體的板面上噴涂所述陶瓷涂料之前包括：
步驟S10：對(duì)所述面板主體其中一側(cè)的板面進(jìn)行噴砂處理，使所述面板主體的板面上形成粗糙層，并清掃所述粗糙層上的顆粒物；
其中，在所述步驟S30中，將所述涂料噴涂到所述粗糙層的層面上。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的面板的制備方法，其特征在于，
在所述步驟S10中，采用金剛砂對(duì)所述面板主體的板面進(jìn)行噴砂處理，采用空氣流清掃所述粗糙層上的顆粒物，且噴砂處理后得到的所述粗糙層的粗糙度為50μm～80μm。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的面板的制備方法，其特征在于，在對(duì)所述面板主體進(jìn)行噴砂處理后包括：
步驟S20：將所述面板主體加熱至第三設(shè)定溫度；或
步驟S20’：對(duì)噴砂處理后的所述面板主體在第四設(shè)定溫度范圍內(nèi)進(jìn)行脫脂處理，然后將所述面板主體冷卻至所述第三設(shè)定溫度。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的面板的制備方法，其特征在于，
所述第三設(shè)定溫度為35℃～55℃，所述第四設(shè)定溫度范圍為150℃～200℃。