本發(fā)明屬于微晶玻璃生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種鈣鎂鋁硅建筑浮法微晶玻璃錫槽結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

微晶玻璃是以特定組成的玻璃為基礎(chǔ)，經(jīng)過加熱處理而得到的既含有玻璃相又含有晶相的材料。其中的熱處理過程稱為晶化過程，微晶玻璃強(qiáng)度和硬度較高，熱膨脹系數(shù)又很小，應(yīng)用前景非常廣泛。

現(xiàn)在微晶玻璃的生產(chǎn)采用的是燒結(jié)法和壓延法，其中燒結(jié)法需要二次熔融，能耗高且產(chǎn)品質(zhì)量差；而壓延法則需要對(duì)微晶玻璃板進(jìn)行磨拋，廢品率高。

浮法工藝?yán)貌Ａб旱谋砻鎻埩湾a液的浮力來讓玻璃成型，可以連續(xù)生產(chǎn)高質(zhì)量的玻璃。在其他玻璃品種上是一種成熟的制造工藝，如果將浮法工藝應(yīng)用在鈣鎂鋁硅微晶玻璃上，可以大幅度的降低生產(chǎn)成本。

鈣鎂鋁硅微晶玻璃的熔化溫度和成型溫度高于常規(guī)玻璃100℃—200℃，常規(guī)的錫槽如果直接提高此溫度，錫液的揮發(fā)會(huì)成倍的增加，在錫槽頂部會(huì)形成較多的冷凝物，從而會(huì)在玻璃板表面形成大量的缺陷。

鈣鎂鋁硅的玻璃液的料性短，在1100—1200℃的溫度下，玻璃液的粘度會(huì)迅速升高到10⁵Pa·s，而普通的鈉鈣硅玻璃在這個(gè)溫度下粘度只有10³Pa·s—10⁴Pa·s。錫槽拉薄區(qū)的溫度和長(zhǎng)度不作改變的話，會(huì)引起玻璃的成型困難。

所以常規(guī)的錫槽不能滿足鈣鎂鋁硅玻璃液的成型要求。如果在微晶玻 璃生產(chǎn)上使用浮法技術(shù)，就必須使用新的錫槽技術(shù)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，本發(fā)明提供了一種鈣鎂鋁硅建筑浮法微晶玻璃錫槽結(jié)構(gòu)，本發(fā)明所公開的錫槽結(jié)構(gòu)各區(qū)域按照鈣鎂鋁硅的微晶玻璃粘度特性設(shè)計(jì)，更有利于微晶玻璃的成型。

本發(fā)明采用的具體技術(shù)方案是：

一種鈣鎂鋁硅建筑浮法微晶玻璃錫槽結(jié)構(gòu)，所述的錫槽包括槽體、碹頂、拉邊機(jī)、保護(hù)氣系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)，碹頂設(shè)置在槽體上方，所述的槽體包括依次設(shè)置的寬段、收窄段及窄段，所述的寬段設(shè)置有拉邊機(jī)，寬段前端設(shè)置有進(jìn)口及加熱系統(tǒng)，所述的槽體總長(zhǎng)為18-26米，寬段長(zhǎng)度為5-8米，收窄段長(zhǎng)度為2-3米，窄段長(zhǎng)度為9-13米。鈣鎂鋁硅微晶玻璃的料性短，容易發(fā)生不可控制的析晶，該錫槽寬段和窄段的長(zhǎng)度比值小于常規(guī)錫槽，在滿足微晶玻璃液成型的條件下，減少了玻璃液在攤平區(qū)停留的時(shí)間，避免了不可控制的析晶現(xiàn)象發(fā)生，所述錫槽的碹頂與錫槽的內(nèi)側(cè)底面的距離為0.15米-0.3米。這樣的高度減小了內(nèi)部空間大小，進(jìn)而減少了保護(hù)氣的用量。

進(jìn)一步的，錫槽前端進(jìn)口的溫度為1250℃—1350℃，鈣鎂鋁硅微晶玻璃液的析晶溫度上限是1200℃，錫槽前端的溫度在1250℃—1350℃，可以避免玻璃液在錫槽前端析晶，完成玻璃液的攤平。所述的錫槽的寬段、收窄段及窄段的槽底外側(cè)溫度都為80℃到100℃。這個(gè)溫度低于常規(guī)錫槽40℃—60℃。降低錫槽槽底溫度，可以一定程度上降低錫液的溫度，從而可以減少錫液的揮發(fā)，穩(wěn)定錫槽內(nèi)的氣氛，提高玻璃板的質(zhì)量。

進(jìn)一步的，所述的碹頂上設(shè)置有吹掃裝置，吹掃裝置包括噴氣口，噴氣口設(shè)置在碹頂下端面，噴氣口與碹頂平面所成角度為30°-60°，噴氣口輸出壓力為5000Pa-10000Pa。

進(jìn)一步的，所述的保護(hù)氣系統(tǒng)包括保護(hù)氣出口、回收口及循環(huán)裝置，循環(huán)裝置串聯(lián)在回收口及保護(hù)氣出口之間，循環(huán)裝置內(nèi)設(shè)置有冷卻裝置及除塵器，所述的保護(hù)氣系統(tǒng)的保護(hù)氣出口設(shè)置在寬段前端，所述的回收口設(shè)置在窄段的末端，所述的保護(hù)氣回收口的輸出壓力為1000Pa-2000Pa。

本發(fā)明的有益效果是：

本發(fā)明提供了一種鈣鎂鋁硅建筑浮法微晶玻璃錫槽結(jié)構(gòu)，本發(fā)明的錫槽各區(qū)域按照鈣鎂鋁硅的微晶玻璃粘度特性設(shè)計(jì)，更有利于玻璃的成型；具備槽頂吹掃裝置和保護(hù)氣裝置，可以清除錫槽內(nèi)頂部的氣體冷凝物；借助于循環(huán)裝置，可以收集保護(hù)氣中的錫灰，并處理得到較純凈的保護(hù)氣以再次利用。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的示意圖；

圖2為本發(fā)明的側(cè)視圖；

圖3為保護(hù)氣系統(tǒng)的示意圖；

圖4為圖2中A部分的放大示意圖；

附圖中，1、槽體，2、碹頂，3、拉邊機(jī)，4、寬段，5、收窄段，6、窄段，7、噴氣口，8、保護(hù)氣出口，9、回收口，10、循環(huán)裝置。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明：

本發(fā)明為一種鈣鎂鋁硅建筑浮法微晶玻璃錫槽結(jié)構(gòu)，所述的錫槽包括槽體1、碹頂2、拉邊機(jī)3、保護(hù)氣系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)，碹頂2設(shè)置在槽體1上方，所述的槽體1包括依次設(shè)置的寬段4、收窄段5及窄段6，所述的寬段4設(shè)置有拉邊機(jī)3，寬段4前端設(shè)置有進(jìn)口及加熱系統(tǒng)，所述的槽體1總長(zhǎng)為18-22米，寬段4長(zhǎng)度為5-8米，收窄段5長(zhǎng)度為2-3米，窄段6長(zhǎng)度為6-9米。槽體1兩側(cè)設(shè)有6—8對(duì)拉邊機(jī)3。所述錫槽的碹頂2與錫槽的內(nèi)側(cè)底面的距離為0.15米-0.3米，這樣的高度減小了內(nèi)部空間大小，進(jìn)而減少了保護(hù)氣的用量。

所述的碹頂2上設(shè)置有吹掃裝置，吹掃裝置包括噴氣口7，噴氣口7設(shè)置在碹頂2下端面，噴氣口7與碹頂2平面所成角度為30°-60°，噴氣口7輸出壓力為5000Pa-10000Pa。

所述的保護(hù)氣系統(tǒng)包括保護(hù)氣出口8、回收口9及循環(huán)裝置10，循環(huán)裝置10串聯(lián)在回收口9及保護(hù)氣出口8之間，循環(huán)裝置10內(nèi)設(shè)置有冷卻裝置及除塵器，所述的保護(hù)氣系統(tǒng)的保護(hù)氣出口8設(shè)置在寬段4前端，所述的回收口9設(shè)置在窄段6的末端，所述的保護(hù)氣回收口9輸出壓力為1000Pa-2000Pa。

錫槽內(nèi)設(shè)置熔化的錫液，而后熔化的鈣鎂鋁硅組成的玻璃液由錫槽的進(jìn)口進(jìn)入錫槽，玻璃液在表面張力和重力的共同作用下，形成表面平整，厚度均勻的玻璃板，錫槽的寬段4的前端布置了三相碳化硅的加熱系統(tǒng)，使寬段4的前端溫度能夠升至1350℃。相應(yīng)的錫槽內(nèi)側(cè)面為鋯剛玉材質(zhì)的耐火材料，避免了玻璃液析晶而阻塞流動(dòng)。錫槽的中寬段4設(shè)置拉邊機(jī)的區(qū)域，溫度在900℃-1000℃，拉邊機(jī)3對(duì)稱設(shè)置6組，拉邊機(jī)3對(duì)玻璃液 進(jìn)行拉薄或者堆厚。錫槽底部有冷卻風(fēng)，使錫槽的寬段4、收窄段5及窄段6的槽底外側(cè)溫度都為80℃到100℃。碹頂2位于錫槽進(jìn)口處設(shè)置有分隔墻,錫槽的寬段前端的的保護(hù)氣出口8壓力在500P-1000P，寬段4中后部的出口壓力在1000Pa-2000Pa，壓差使錫槽內(nèi)的保護(hù)氣流整體向前流動(dòng)，避免了前端漏氣而造成錫液的氧化。為了符合鈣鎂鋁硅微晶玻璃的成型特性，錫槽的總長(zhǎng)度設(shè)計(jì)為18-22米。錫槽結(jié)構(gòu)中的寬段長(zhǎng)度為5-8米；收縮段長(zhǎng)度為2-3米；窄段長(zhǎng)度為8-12米，該錫槽的這種比例利于鈣鎂鋁硅微晶玻璃的成型。

進(jìn)一步的，因?yàn)殁}鎂鋁硅微晶玻璃的特性，用以其浮法成型的錫槽內(nèi)部溫度較高，錫液揮發(fā)速度快。為了防止揮發(fā)物在錫槽上的碹頂2冷凝后滴落造成玻璃板的缺陷，增設(shè)吹掃裝置包括多個(gè)與碹頂2底面呈30°-60°夾角的噴氣口7，壓力為5000Pa-10000Pa的氮?dú)饣虮Ｗo(hù)氣通過頂部的噴氣口7，可以定期將錫槽內(nèi)氣體冷凝而形成的在錫槽內(nèi)頂部的附著物吹掃下，以免造成長(zhǎng)時(shí)間的產(chǎn)品缺陷。

進(jìn)一步的，增設(shè)保護(hù)氣系統(tǒng)，保護(hù)氣系統(tǒng)布置在錫槽寬段4的前端，保護(hù)氣系統(tǒng)具有保護(hù)器出口8、錫槽、回收口9及循環(huán)裝置10組成的完整的回路，錫槽內(nèi)的保護(hù)氣通過循環(huán)裝置10中的冷卻裝置，可以將其中的粉塵、錫灰和氧化亞錫的凝結(jié)物回收，而處理過的氣體又可以重新進(jìn)入錫槽使用。

具體實(shí)施例如圖1到圖4所示，用以鈣鎂鋁硅微晶玻璃浮法工藝的錫槽，對(duì)應(yīng)熔窯的熔化量為50噸/天。

(a)玻璃液在錫槽進(jìn)口及寬段前端的溫度為1350℃，錫槽前端槽底耐 火材料材質(zhì)為熔鑄的33^#鋯剛玉。錫槽前端的加熱元件為SiC,錫槽的總長(zhǎng)度設(shè)計(jì)為20米。錫槽結(jié)構(gòu)中的寬段長(zhǎng)度為6米；收窄段長(zhǎng)度為3米；窄段長(zhǎng)度為11米。錫槽的這種長(zhǎng)度比例，利于玻璃的成型，減少不可控制的析晶現(xiàn)象發(fā)生，錫槽的內(nèi)部空間高度為0.25米。

(b)錫槽槽頂內(nèi)部有吹掃裝置，吹掃氣體為錫槽保護(hù)氣，出口壓力在6000Pa。

(c)錫槽前端有呈負(fù)壓的管路，將保護(hù)氣引入冷卻器，再將冷卻后的氣體通過除塵器，收集其中的錫灰后將保護(hù)氣送入保護(hù)氣出口，實(shí)現(xiàn)保護(hù)氣循環(huán)利用。