本發(fā)明涉及陶瓷生產(chǎn)領(lǐng)域，特別是一種立體面釉的制備方法。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)陶瓷表面的圖案多采用手工繪制，色彩鮮艷美觀，受到消費者喜愛。但是傳統(tǒng)陶瓷對繪制者的要求較高，當(dāng)圖案復(fù)雜，則生產(chǎn)效率低下，廢品率高，勞動強(qiáng)度高。
經(jīng)過技術(shù)發(fā)展，出現(xiàn)陶瓷絲網(wǎng)印刷工藝，例如中國專利文獻(xiàn)CN104924789A，即記載了一種陶瓷絲網(wǎng)環(huán)保印花工藝，采用特制的印花用色料，將絲網(wǎng)覆蓋在白胚上，用刮膠刀均勻的擠壓涂抹使色料滲透過絲網(wǎng)上的圖案，揭去絲網(wǎng)，色料凝固在白胚上形成印花圖案，上釉，并放入高溫窯燒制成型，得到印花陶瓷制品。本發(fā)明提供的工藝方法制作的陶瓷產(chǎn)品，不僅顏色鮮艷，工整度好，并將繪彩與貼花兩者的優(yōu)點相互補(bǔ)充。
中國專利文獻(xiàn)CN 103351712A，記載了一種陶瓷絲網(wǎng)印刷油墨，對陶瓷的附著力強(qiáng)，不易脫落，著色力強(qiáng)，印刷效果優(yōu)異，富有立體感。
但是上述的印刷方式具有很大的缺陷，即絲網(wǎng)印刷受到印刷方式的影響，印刷精度不高，清晰度不足，而且每次只能印制一色，多色之間套色困難，過渡色難以表達(dá)。
隨著進(jìn)一步的發(fā)展，出現(xiàn)了陶瓷油墨噴墨印刷工藝，利用噴嘴將陶瓷油墨噴在陶瓷的表面，從而獲得高清晰度的圖像。例如中國專利文獻(xiàn)CN102433044A即記載了一種用于3D數(shù)碼噴墨瓷磚的墨水，具有高清晰度、立體感和鏡面效果。但是噴墨工藝存在的問題是，為確保噴墨精度，色料及輔料顆粒通常需要非常小的粒徑，而較小的粒徑在燒制過程中非常容易因為氧化而變色，從而造成色彩的鮮艷程度，即色彩飽和度無法保證，顏色晦澀，影響外觀效果。且噴墨工藝容易出現(xiàn)較多的瑕疵，例如大色塊中易出現(xiàn)橫線、缺墨水造成斷線，過渡色不均勻等問題，且很難通過技術(shù)手段進(jìn)行克服，只能更換噴頭，造成成本上升。
還有貼花印刷工藝和滾筒印刷工藝，其中貼花印刷工藝類似熱轉(zhuǎn)印工藝，通常僅能手工操作，效率較低。而滾筒印刷多采用凹版印刷，制版成本非常昂貴，設(shè)備成本也非常高，且操作復(fù)雜。
現(xiàn)有的面釉多位于色彩的上方，成為釉下彩，或者位于色彩的下方，成為釉上彩，也有采用立體雕塑再施釉的方案以具有立體的效果。但是該方案的瓷器不夠靈動，在外觀上仍有改進(jìn)的余地。
技術(shù)實現(xiàn)要素：
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種立體面釉的制備方法，能夠以成本較低的方式批量生產(chǎn)出具有鮮艷圖像的陶瓷制品，優(yōu)選的方案中，并且能夠使圖像具有晶瑩剔透的立體效果。
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是：一種立體面釉的制備方法，包括以下步驟：
一種立體面釉的制備方法，包括以下步驟：
一、選取圖像中的至少一種單色，制備絲網(wǎng)網(wǎng)版；
二、在半成品坯料上，以絲網(wǎng)印制圖案的方式上面釉，所述的面釉為粉料；
三、入窯燒制，得到具有立體面釉的陶瓷。
優(yōu)選方案中，印制后，面釉的堆疊高度為0.4~5mm，保留圖案中的縫隙。
優(yōu)選方案中，堆疊高度為0.5~3mm。
優(yōu)選方案中，半成品坯料經(jīng)過燒結(jié)干燥。
優(yōu)選方案中，在坯料表面以絲網(wǎng)、噴墨、輥筒和/或凹印的方式著色。
優(yōu)選方案中，在坯料表面施有底釉。底釉可以是水劑。
優(yōu)選方案中，所述步驟三中，面釉的絲網(wǎng)印刷中采用80目的絲網(wǎng)。
優(yōu)選方案中，：所述面釉包括按重量份計的以下組分：
鉀長石10～30份，石英28～50份。
優(yōu)選方案中，所述面釉還包括按重量份計的以下組分：
熔塊20～30份，粘土3～7份，氧化鈦8～12份，二氧化鈦3～5份，氧化鐵3～7份，氧化鉛3～6份，三氧化二銻5～6份，氟硅酸鈉3～6份，硅酸鋯為3～6份，高嶺土為2～6份，羧甲基纖維素5～15份，松油醇10～15份，鄰苯二甲酸二丁酯5～8份，色料為0.5～2份。
優(yōu)選方案中，所述面釉還包括按重量份計的以下組分：
沸石粉10~15份，乙基纖維素 6～12份，硅烷偶聯(lián)劑5~10份，表面活性劑 5～10份，觸變劑2~5份，光致蓄光粉5~10份。
所述步驟三中，入窯爐以11750~1185℃、30~40分鐘燒成，N2 氣保護(hù)燒結(jié)，得到的陶瓷色彩穩(wěn)定、光澤度高、拉力強(qiáng)度性能好。
其中：熔塊的組成原料為：二氧化硅64％，三氧化二鋁7％，三氧化二鐵1％， 氧化鈣8％，氧化鎂0.5％，氧化鉀4％，氧化鈉 4％，三氧化二硼11％，氧化鋅0.5％。
優(yōu)選的方案中，所述觸變劑是蓖麻油基有機(jī)衍生物的附聚物、膨潤土、蒙脫土或改性聚酰胺蠟。
所述光致蓄光粉為稀土摻雜高溫長余輝材料，由稀土激活劑摻雜基體材料制備而成，基體材料具體為 Sr4A14O25、SrAl2O4、Sr2MgSi2O7、CaA12其中，稀土激活劑包括 Eu2+、Dy3+、Nd3+、Ce3+、Pr3+、Tb3+、 Yb2+中的一種或幾種組合。將光致蓄光材料作為面釉組分，做成的立體面釉產(chǎn)品更加耐磨、耐化學(xué)腐蝕性，使用壽命更長。
所述硅烷偶聯(lián)劑選自KH-570、KH-560或KH-550，所述表面活性劑選自卵磷脂、三乙醇胺或山梨糖醇酐三油酸酯。
優(yōu)選的方案中，面釉的網(wǎng)紋根據(jù)圖像制成，圖像視覺凸起的部位網(wǎng)紋較大，凹下的部位網(wǎng)紋較小。
本發(fā)明中采用粉料施釉的方式，使面釉的釉料能夠堆疊到較高的高度，但是這產(chǎn)生了新的技術(shù)問題，即粉料容易脫落，附著效果差。
本發(fā)明提供的一種立體面釉的制備方法，通過采用圖像預(yù)處理的方案，利用絲網(wǎng)印刷顏色鮮艷的優(yōu)點，獲得了具有鮮艷圖像的陶瓷制品。且生產(chǎn)效率高，設(shè)備成本低，制成品顏色鮮艷，色彩過渡自然。優(yōu)選的方案中，采用粉料的面釉，利用絲網(wǎng)印刷的方式，根據(jù)圖像形成凸凹不平的表面結(jié)構(gòu)，堆疊高度最高處為0.4~5 mm，燒制后的成品能夠形成具有浮雕立體效果的琉璃層，具有透明或半透明的效果，在光線的反射和折射下，使瓷器具有靈動的效果，配合底層的鮮艷圖像，具有極佳的藝術(shù)效果。燒制后，形成的立體面釉為曲面，最高處高度可達(dá)5mm 逐步過渡到邊緣，在縫隙的位置，可以沒有面釉，由此形成反光度上的對比，形成獨特的藝術(shù)效果。
本發(fā)明將光致蓄光材料作為面釉組分，做成的立體面釉產(chǎn)品色澤穩(wěn)定，更加耐磨、耐化學(xué)腐蝕性，使用壽命更長。另外加入一定量的觸變劑可提高印刷精度、膜層質(zhì)量和印刷的效率。偶聯(lián)劑既可以改善有機(jī)粘結(jié)劑對陶瓷胚料的潤濕性能，又能夠提高面釉組分與陶瓷基片的粘合強(qiáng)度，表面活性劑能降低有機(jī)粘結(jié)劑與色料顆粒之間的表面張力，能使色料粉末充分被浸潤，并具有良好的均勻分散性，抑制顆粒的團(tuán)聚、結(jié)塊和分層等。羧甲基纖維素、沸石粉、乙基纖維素可以提高色料的粘接性能，本發(fā)明面釉具有良好的耐酸堿性，且釉面光滑度好、釉漿性能好、燒成范圍寬，釉料耐磨不易脫落；且還具有良好的抗熱震性能。
具體實施方式
實施例1
一種立體面釉的制備方法，是包括以下步驟：
一、選取圖像中的至少一種單色，制備絲網(wǎng)網(wǎng)版；
二、在半成品坯料上，以絲網(wǎng)印制圖案的方式上面釉，所述的面釉為粉料；
三、入窯燒制，得到具有立體面釉的陶瓷。
印制后，面釉的堆疊高度最高處為0.4~5mm，保留圖案中的縫隙。
半成品坯料經(jīng)過燒結(jié)干燥。
在坯料表面以絲網(wǎng)的方式著色。
在坯料表面施有底釉。
所述步驟三中，面釉的絲網(wǎng)印刷中采用80目的絲網(wǎng)。
實施例2
一種立體面釉的制備方法，包括以下步驟：
一、選取圖像中的至少一種單色，制備絲網(wǎng)網(wǎng)版；
二、在半成品坯料上，以絲網(wǎng)印制圖案的方式上面釉，所述的面釉為粉料；
三、入窯燒制，得到具有立體面釉的陶瓷。
印制后，面釉的堆疊高度最高處為0.5~3mm，保留圖案中的縫隙。
半成品坯料經(jīng)過燒結(jié)干燥。
在坯料表面以輥筒和/或凹印的方式著色。
在坯料表面施有底釉。
所述步驟三中，面釉的絲網(wǎng)印刷中采用80目的絲網(wǎng)。
實施例3
一種立體面釉的制備方法，包括以下步驟：
一、圖像處理；
選取圖像中的至少一種單色顯色，制備絲網(wǎng)網(wǎng)版；所述的顯色是指視覺突出的色塊、較大面積的色塊和需要鮮艷顏色的色塊。
視覺突出的色塊通過絲網(wǎng)印刷能夠確保獲得鮮艷的即色相準(zhǔn)確，色彩飽和度高，光澤度高的顏色。采用絲網(wǎng)印刷的方式，還能夠具有立體浮雕的效果。
需要鮮艷顏色的色塊，在噴墨印刷方式形成的金色中，制成品被顯示成褐色，效果不佳，采用絲網(wǎng)印刷的方式，尤其是采用含金屬的粉料印制金色，具有非常鮮艷的效果，反光度高，色彩飽和，并能夠具有立體浮雕的效果，藝術(shù)效果完美。
較大面積的色塊，以絲網(wǎng)印刷的方式能夠避免出現(xiàn)橫紋、斷線等常見瑕疵，提高產(chǎn)品外觀效果，降低廢品率。
優(yōu)選的方案中，顯色中的過渡色制作成網(wǎng)紋的形式，較濃的部分網(wǎng)點較大，較淡的部分網(wǎng)點較小。
二、在半成品坯料上，半成品坯料經(jīng)過燒結(jié)干燥, 在坯料表面以噴墨方式著色, 以絲網(wǎng)印刷的方式在坯料表面印制選取的顯色；再以絲網(wǎng)印制圖案的方式上面釉，所述的面釉為粉料；印制后，面釉的堆疊高度最高處為1~5 mm，保留圖案中的縫隙；
優(yōu)選的方案中，在噴墨之前，對于過渡色進(jìn)行優(yōu)化，將圖像設(shè)置轉(zhuǎn)換為CMYK顏色模式，過渡色以不超過三種顏色進(jìn)行過渡。
優(yōu)選的方案中，過渡色以不超過兩種顏色進(jìn)行過渡。
優(yōu)選的方案中，在噴墨之前，對坯料表面進(jìn)行打磨，以確保平整，并封堵微孔。由此結(jié)構(gòu)，使坯料表面保持平整，有利于提高圖像精度，并便于墨水附著。使表面微孔封堵，能夠避免墨水過多進(jìn)入到坯料表面，影響發(fā)色。封堵微孔的方式為用拋光盤對表面胚料表面進(jìn)行拋光，拋光時間短于正常的拋光時間。
三、入窯燒制，得到具有立體面釉的陶瓷。燒制后，形成的立體面釉為曲面，最高處高度可達(dá)5mm 逐步過渡到邊緣，在縫隙的位置，可以沒有面釉，由此形成反光度上的對比，形成獨特的藝術(shù)效果。優(yōu)選的方案中，所述步驟二中，絲網(wǎng)印刷采用采用80目絲網(wǎng)印上面釉，得到一種富于變化、活波獨特的立體面釉效果。
優(yōu)選的方案中，所述步驟三中，入窯爐以11750~1185℃、30~40分鐘燒成，N2 氣保護(hù)燒結(jié)，得到的陶瓷色彩穩(wěn)定、光澤度高、拉力強(qiáng)度性能好。
優(yōu)選的方案中，所述的面釉為粉料，以絲網(wǎng)印制圖案的方式上面釉。
優(yōu)選的方案中，面釉包括按重量份記的以下組分：
鉀長石10～30份，石英28～50份。
優(yōu)選的方案中，面釉的網(wǎng)紋根據(jù)圖像制成，圖像視覺凸起的部位網(wǎng)紋較大，凹下的部位網(wǎng)紋較小。由此方案得到具有浮雕立體效果的陶瓷。
實施例4
本發(fā)明面釉包括按重量份記的以下組分：
鉀長石10～30份，石英28～50份，熔塊20～30份，粘土3～7份，氧化鈦8～12份，二氧化鈦3～5份，氧化鐵3～7份，氧化鉛3～6份，三氧化二銻5～6份，氟硅酸鈉3～6份，硅酸鋯為3～6份，高嶺土為2～6份，色料為0.5～2份。
實施例5
本發(fā)明面釉包括按重量份記的以下組分：
鉀長石10～30份，石英28～50份，熔塊20～30份，粘土3～7份，氧化鈦8～12份，二氧化鈦3～5份，氧化鐵3～7份，氧化鉛3～6份，三氧化二銻5～6份，氟硅酸鈉3～6份，硅酸鋯為3～6份，高嶺土為2～6份，羧甲基纖維素5～15份，松油醇10～15份，鄰苯二甲酸二丁酯5～8份，色料為0.5～2份。
實施例6
本發(fā)明面釉包括按重量份記的以下組分：
鉀長石10～30份，石英28～50份，熔塊20～30份，粘土3～7份，氧化鈦8～12份，二氧化鈦3～5份，氧化鐵3～7份，氧化鉛3～6份，三氧化二銻5～6份，氟硅酸鈉3～6份，硅酸鋯為3～6份，高嶺土為2～6份，羧甲基纖維素5～15份，松油醇10～15份，鄰苯二甲酸二丁酯5～8份，色料為0.5～2份，沸石粉10~15份，乙基纖維素 6～12份，硅烷偶聯(lián)劑5~10份，表面活性劑 5～10份，觸變劑2~5份，光致蓄光粉5~10份。
實施例7
本發(fā)明面釉包括按重量份記的以下組分：
鉀長石10份，石英28份，熔塊20份，粘土3份，氧化鈦8份，二氧化鈦3份，氧化鐵3份，氧化鉛3份，三氧化二銻5份，氟硅酸鈉3份，硅酸鋯為3份，高嶺土為2份，羧甲基纖維素5份，松油醇10份，鄰苯二甲酸二丁酯5份，色料為0.5份，沸石粉10份，乙基纖維素 6份，硅烷偶聯(lián)劑5份，表面活性劑 5份，觸變劑2份，光致蓄光粉5份。
其中：熔塊的組成原料為：二氧化硅64％，三氧化二鋁7％，三氧化二鐵1％， 氧化鈣8％，氧化鎂0.5％，氧化鉀4％，氧化鈉 4％，三氧化二硼11％，氧化鋅0.5％。
所述觸變劑是蓖麻油基有機(jī)衍生物的附聚物。
所述光致蓄光粉為稀土摻雜高溫長余輝材料，由稀土激活劑摻雜基體材料制備而成，基體材料具體為 Sr4A14O25，稀土激活劑包括 Eu2+、Dy3+、Nd3+、Ce3+、Pr3+、Tb3+、Yb2+中的一種或幾種組合。將光致蓄光材料作為面釉組分，做成的立體面釉產(chǎn)品更加耐磨、耐化學(xué)腐蝕性，使用壽命更長。
所述硅烷偶聯(lián)劑選自KH-570，所述表面活性劑選自卵磷脂。
實施例8
本發(fā)明面釉包括按重量份記的以下組分：
鉀長石30份，石英50份，熔塊30份，粘土7份，氧化鈦12份，二氧化鈦5份，氧化鐵7份，氧化鉛6份，三氧化二銻6份，氟硅酸鈉6份，硅酸鋯為6份，高嶺土為6份，羧甲基纖維素15份，松油醇15份，鄰苯二甲酸二丁酯8份，色料為2份，沸石粉15份，乙基纖維素12份，硅烷偶聯(lián)劑10份，表面活性劑 10份，觸變劑5份，光致蓄光粉10份。
其中：熔塊的組成原料為：二氧化硅64％，三氧化二鋁7％，三氧化二鐵1％， 氧化鈣8％，氧化鎂0.5％，氧化鉀4％，氧化鈉 4％，三氧化二硼11％，氧化鋅0.5％。
優(yōu)選的方案中，所述觸變劑是蓖麻油基有機(jī)衍生物的附聚物、膨潤土、蒙脫土或改性聚酰胺蠟 2~5份。
所述光致蓄光粉為稀土摻雜高溫長余輝材料，由稀土激活劑摻雜基體材料制備而成，基體材料具體為 Sr2MgSi2O7，稀土激活劑包括Nd3+、Ce3+、Pr3+按照質(zhì)量比為1:2:2的組合。將光致蓄光材料作為面釉組分，做成的立體面釉產(chǎn)品更加耐磨、耐化學(xué)腐蝕性，使用壽命更長。
所述硅烷偶聯(lián)劑選自KH-560，所述表面活性劑為三乙醇胺。
實施例9
本發(fā)明面釉包括按重量份記的以下組分：
鉀長石20份，石英30份，熔塊25份，粘土5份，氧化鈦10份，二氧化鈦4份，氧化鐵5份，氧化鉛5份，三氧化二銻5份，氟硅酸鈉4份，硅酸鋯為4份，高嶺土為3份，羧甲基纖維素6份，松油醇11份，鄰苯二甲酸二丁酯6份，色料為1份，沸石粉11份，乙基纖維素7份，硅烷偶聯(lián)劑6份，表面活性劑 6份，觸變劑3份，光致蓄光粉6份。
其中：熔塊的組成原料為：二氧化硅64％，三氧化二鋁7％，三氧化二鐵1％， 氧化鈣8％，氧化鎂0.5％，氧化鉀4％，氧化鈉 4％，三氧化二硼11％，氧化鋅0.5％。
所述觸變劑是蓖麻油基有機(jī)衍生物的改性聚酰胺蠟。
所述光致蓄光粉為稀土摻雜高溫長余輝材料，由稀土激活劑摻雜基體材料制備而成，基體材料具體為CaA12，稀土激活劑包括 Pr3+、Tb3+、 Yb2+中的一種或幾種組合。將光致蓄光材料作為面釉組分，做成的立體面釉產(chǎn)品更加耐磨、耐化學(xué)腐蝕性，使用壽命更長。
所述硅烷偶聯(lián)劑選自KH-550，所述表面活性劑選自山梨糖醇酐三油酸酯。
根據(jù)不同的效果，還可以添加SrO 2~3份,ZnO 4-6 份，K2O 4~5份，Na2O 3~5份，Li2O 3~5份,B2O3 8~12份。
面釉可以帶有較淡色澤，例如偏藍(lán)加入Co-Al-Zn，偏紅色加入色料Fe-Cr-Zn，偏黃加入色料Zr-Fe-Si。
上述的實施例僅為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案，而不應(yīng)視為對于本發(fā)明的限制，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以權(quán)利要求記載的技術(shù)方案，包括權(quán)利要求記載的技術(shù)方案中技術(shù)特征的等同替換方案為保護(hù)范圍。即在此范圍內(nèi)的等同替換改進(jìn)，也在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。