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一種納米氧化鋯?納米銅增韌的大功率LED散熱氮化鋁陶瓷基板的制作方法

文檔序號:11929262閱讀:511來源:國知局

本發(fā)明涉及氮化鋁陶瓷技術領域,尤其涉及一種納米氧化鋯-納米銅增韌的大功率LED散熱氮化鋁陶瓷基板。



背景技術:

大功率LED芯片產生的熱量不能及時有效的散失,將嚴重影響LED的發(fā)射光譜、發(fā)光強度、封裝材料性能、芯片的壽命等,因此,大功率LED的散熱問題一直是固態(tài)照明行業(yè)的一大技術瓶頸,在傳統(tǒng)封裝工藝生產的LED中,基板散熱因其直接有效的散熱優(yōu)勢成為國內外重點研究的對象。目前研究應用較多的為鋁基散熱基板,然而,隨著LED散熱需求的提升,鋁基板的缺陷也逐步表現(xiàn)出來,其內部的絕緣層導致整體散熱性差,容易結溫,從而降低燈具的使用壽命。相比于鋁基板散熱套件,陶瓷散熱基板具有高絕緣性、高熱輻射、高導熱、電磁兼容性好等優(yōu)點成為備受矚目的一種替代材料,其中氮化鋁陶瓷是綜合性能較為理想的封裝材料,然而,在實際應用中氮化鋁陶瓷存在燒結溫度高,導熱性能較差等缺陷,制約著產品的推廣應用。

《Y2O3和納米AlN協(xié)同作用對氮化鋁陶瓷燒結性能及熱傳導的影響》一文介紹了以Y2O3作為燒結助劑與納米氮化鋁協(xié)同作用在低燒結溫度下制成了較高導熱系數(shù)的氮化鋁陶瓷,這種方法雖然一定程度的提高了氮化鋁陶瓷的致密度,但是其導熱系數(shù)仍有待提高,且納米粉體的添加量必須受到嚴格的控制,需要在較高的燒結溫度下才能改善氮化鋁陶瓷的性能。



技術實現(xiàn)要素:

本發(fā)明目的就是為了彌補已有技術的缺陷,提供一種納米氧化鋯-納米銅增韌的大功率LED散熱氮化鋁陶瓷基板。

本發(fā)明是通過以下技術方案實現(xiàn)的:

一種納米氧化鋯-納米銅增韌的大功率LED散熱氮化鋁陶瓷基板,該陶瓷基板由以下重量份的原料制成:氮化鋁30-40、納米氧化鋯4-5、納米銅0.4-0.5、納米氮化鋁10-12、氧化釔2-4、聚乙烯醇1-2、離子液體10-15、異丙醇鋁0.1-0.2、正硅酸乙酯0.4-0.5、去離子水20-25,適量的稀硝酸溶液。

所述的氮化鋁的氧含量為0.5-1.5wt.%,D50粒徑為0.5-2μm。

所述的氧化釔純度大于99.99%,D50粒徑為0.1-0.5μm。

所述的離子液體為水溶性離子液體。

所述的一種納米氧化鋯-納米銅增韌的大功率LED散熱氮化鋁陶瓷基板的制備方法分為以下幾個步驟:

(1)先將異丙醇鋁與8-10重量份的去離子水混合,置于90℃水浴條件下,磁力攪拌混合,待混合液的pH值不再變化為止,隨后加入稀硝酸溶液,調節(jié)體系pH值為4.0-5.0,隨后水浴升溫至100℃,繼續(xù)回流1-1.5h得到穩(wěn)定的鋁溶膠備用。

(2)將正硅酸乙酯與余量的去離子水混合,在50-60℃的水浴中超聲反應20-30min,隨后滴加稀硝酸溶液,調節(jié)溶液pH值為4.0-5.0,反應40-50min后得硅溶膠備用。

(3)將步驟(1)制備的鋁溶膠加熱至80-85℃,緩慢加入步驟(2)制備的硅溶膠,邊加邊攪拌,隨后再加入聚乙烯醇,繼續(xù)攪拌混合40-50min后備用。

(4)將納米氮化鋁、納米氧化鋯、納米銅與離子液體混合球磨20-30min,隨后將其與氮化鋁、氧化釔混合,繼續(xù)球磨分散3-5h,最后再將其與步驟(3)制得的物料混合,再次球磨分散10-15h,球磨結束后所得漿料真空脫泡,控制粘度為5000-8000mPa.s,所得漿料進行流延處理,控制厚度,得到胚體。

(5)將制得的胚體在承燒板上以1-2℃/min的升溫速率升溫至400-450℃,保溫排膠4-5h,隨后在1650-1750℃條件下真空保溫燒結4-6h,出料后即得。

本發(fā)明優(yōu)點在于,使用離子液體和去離子水混合作為溶劑介質,取代了傳統(tǒng)的流延成型工藝中的有毒有機溶劑,提高了各原料的分散性和結合性,并以鋁硅溶膠-聚乙烯醇作為粘接劑,這種粘接劑不僅粘接效果良好,且其中的有效成分能降低燒結氛的氧含量,從而提高陶瓷體的晶格純凈度,獲得良好的導熱性能,加入的納米氧化鋯、納米銅各原料協(xié)同作用,有效的提高了復合陶瓷的韌性,最終制備的復合氮化鋁陶瓷基板具有良好的塑性和韌性,抗裂能力更強,其致密導熱,更利于大功率LED的散熱,從而延長燈具使用壽命。

具體實施方式

一種納米氧化鋯納米銅增韌的大功率LED散熱氮化鋁陶瓷基板,該陶瓷基板由以下重量份的原料制成:氮化鋁30、納米氧化鋯4、納米銅0.4、納米氮化鋁10、氧化釔2、聚乙烯醇1、離子液體10、異丙醇鋁0.1、正硅酸乙酯0.4、去離子水20,適量的稀硝酸溶液。

其中氮化鋁的氧含量為0.5wt.%,D50粒徑為0.5μm。

其中氧化釔純度大于99.99%,D50粒徑為0.1μm。

其中離子液體為水溶性離子液體。

該實施例陶瓷基板由以下幾個步驟制備得到:

(1)先將異丙醇鋁與8重量份的去離子水混合,置于90℃水浴條件下,磁力攪拌混合,待混合液的pH值不再變化為止,隨后加入稀硝酸溶液,調節(jié)體系pH值為4.0,隨后水浴升溫至100℃,繼續(xù)回流1h得到穩(wěn)定的鋁溶膠備用。

(2)將正硅酸乙酯與余量的去離子水混合,在50℃的水浴中超聲反應20min,隨后滴加稀硝酸溶液,調節(jié)溶液pH值為4.0,反應40min后得硅溶膠備用。

(3)將步驟(1)制備的鋁溶膠加熱至80℃,緩慢加入步驟(2)制備的硅溶膠,邊加邊攪拌,隨后再加入聚乙烯醇,繼續(xù)攪拌混合40min后備用。

(4)將納米氮化鋁、納米氧化鋯、納米銅與離子液體混合球磨20min,隨后將其與氮化鋁、氧化釔混合,繼續(xù)球磨分散3h,最后再將其與步驟(3)制得的物料混合,再次球磨分散10h,球磨結束后所得漿料真空脫泡,控制粘度為6500Pa.s,所得漿料進行流延處理,得到厚度為0.55mm的胚體。

(5)將制得的胚體在承燒板上以1℃/min的升溫速率升溫至400℃,保溫排膠4h,隨后在1720℃條件下真空保溫燒結4h,出料后即得。

該陶瓷基板根據(jù)相應標準測試得到的各項性能指標如下:

密度:3.16g.cm-3;導熱率:188.2W/(mk);表面粗糙度Rmax≤0.2μm;抗彎強度:406.8MPa;斷裂韌性:2.85±0.05MPa.m1/2。

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