1.一種用于飛機(jī)風(fēng)擋玻璃高紫外反射的節(jié)能薄膜，其特征在于：所述用于飛機(jī)風(fēng)擋玻璃高紫外反射的節(jié)能薄膜包括風(fēng)擋玻璃基片、內(nèi)氧化硅層、高紫外反射層、節(jié)能層和外氧化硅層，所述風(fēng)擋玻璃基片上由內(nèi)向外方向依次為內(nèi)氧化硅層、高紫外反射層、節(jié)能層和外氧化硅層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于飛機(jī)風(fēng)擋玻璃高紫外反射的節(jié)能薄膜，其特征在于：所述風(fēng)擋玻璃基片為飛機(jī)風(fēng)擋玻璃基片。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于飛機(jī)風(fēng)擋玻璃高紫外反射的節(jié)能薄膜，其特征在于：所述內(nèi)氧化硅層(2)膜層厚度為18～23nm；所述高紫外反射層由內(nèi)向外依次為第一氧化鈦層(31)、氧化鈰層(32)和第二氧化鈦層(33)，所述第一氧化鈦層(31)的膜層厚度為15～25nm，所述氧化鈰層(32)的膜層厚度為20～25nm，所述第二氧化鈦層(33)的膜層厚度為10～15nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于飛機(jī)風(fēng)擋玻璃高紫外反射的節(jié)能薄膜，其特征在于：所述節(jié)能層由內(nèi)向外依次為金屬層(41)、第三氧化鈦層(42)、氧化銦錫層(43)，所述金屬層(41)的膜層厚度為6～10nm，所述第三氧化鈦層(42)的膜層厚度為20～25nm，所述氧化銦錫層(43)的膜層厚度為115～150nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于飛機(jī)風(fēng)擋玻璃高紫外反射的節(jié)能薄膜，其特征在于：所述外氧化硅層(5)膜層厚度為80～150nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于飛機(jī)風(fēng)擋玻璃高紫外反射的節(jié)能薄膜，其特征在于：所述金屬層(41)的材質(zhì)為鈦、金或銀。
7.權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的用于飛機(jī)風(fēng)擋玻璃高紫外反射的節(jié)能薄膜的制備方法，其特征在于包括如下步驟：鍍膜設(shè)備環(huán)境要求：溫度在18～25℃、濕度55％以下，陰極冷卻水溫度15～26℃，風(fēng)擋玻璃基片位置要求潔凈度萬級(jí)以內(nèi)，
(1)開機(jī)過程：開啟鍍膜設(shè)備真空泵系統(tǒng)，先使鍍膜設(shè)備所有腔室達(dá)到本底真空要求：緩沖室真空度<0.3Pa、鍍膜室真空度<2×10-3Pa；
(2)鍍膜過程：風(fēng)擋玻璃基片經(jīng)過清洗后，自動(dòng)或手動(dòng)方式進(jìn)入鍍膜設(shè)備，緩沖室氣壓維持在3Pa以內(nèi)，鍍膜工藝室通過通入氬氣維持氣壓的范圍為0.2～0.8Pa，通入工藝氣體；
(3)將待鍍膜面正對(duì)陰極靶面，開啟陰極中頻或直流電源，待輝光穩(wěn)定后依次在基片表面上沉積內(nèi)氧化硅層、高紫外反射層、節(jié)能層、外氧化硅層；
(4)鍍膜結(jié)束后，所得產(chǎn)物經(jīng)過緩沖室、出膜室，制得用于飛機(jī)風(fēng)擋玻璃高紫外反射的節(jié)能薄膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于飛機(jī)風(fēng)擋玻璃高紫外反射的節(jié)能薄膜的制備方法，其特征在于：在步驟(2)中，所述工藝氣體為氧氣或氮?dú)狻?/p>
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于飛機(jī)風(fēng)擋玻璃高紫外反射的節(jié)能薄膜的制備方法，其特征在于：在步驟(3)中，開啟陰極中頻或直流電源，恒電流方式，依據(jù)不同膜層，選擇不同電流大小，所述恒電流的范圍是2.5～40A。