本發(fā)明涉及玻璃深加工技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種中反銀灰色可彎鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃及其制備方法。

背景技術(shù)：

磁控濺射鍍膜技術(shù)是目前工業(yè)鍍膜生產(chǎn)中最主要的技術(shù)之一，磁控濺射具有高速、低溫、低損傷等優(yōu)點(diǎn)，沉積速率快，基片的溫度變化小，對(duì)膜層的損傷小等一系列優(yōu)點(diǎn)。廣泛應(yīng)用于大面積建筑玻璃鍍膜行業(yè)，隨著行業(yè)加工技術(shù)的不斷深化和產(chǎn)品復(fù)合程度的逐漸加深，可鋼low-e鍍膜技術(shù)以其高效的加工流程、充分的濺射利用率、可異地加工、適用面廣的特點(diǎn)被不斷優(yōu)化升級(jí)，目前行業(yè)內(nèi)已實(shí)現(xiàn)平鋼化單銀、雙銀、三銀的技術(shù)完善及規(guī)?；a(chǎn)，但雙銀、三銀的彎鋼化技術(shù)仍處于實(shí)驗(yàn)階段，該階段雙銀彎鋼產(chǎn)品普遍存在平鋼彎鋼顏色不一致的問題，對(duì)于目前較主流的雙銀幕墻工程而言，對(duì)于有轉(zhuǎn)弧等建筑結(jié)構(gòu)需求的部位往往使用單銀、熱反射等簡(jiǎn)單產(chǎn)品替代，因而出現(xiàn)建筑局部節(jié)能性難以滿足要求，室內(nèi)色差突出等問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是為了彌補(bǔ)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種中反銀灰色可彎鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃。

為了達(dá)到本發(fā)明的目的，技術(shù)方案如下：

一種中反銀灰色可彎鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片層和鍍膜層，所述鍍膜層自所述玻璃基片層向外依次復(fù)合有十三個(gè)膜層，其中第一層為SiNx層，第二層為ZnO層，第三層為Ag層，第四層為NiCr層,第五層為AZO層，第六層為SiNx層,第七層為ZnO層,第八層為Ag層，第九層為NiCr層，第十層為AZO層，第十一層為SiNx層，第十二層為NiCr層，第十三層為SiNx層。

優(yōu)選地：所述第一層和第二層的厚度總和為15～20nm。

優(yōu)選地：所述第三層的厚度為6～8nm。

優(yōu)選地：所述第四層的厚度為2～5nm。

優(yōu)選地：所述第五層的厚度為6～7nm、第六層和第七層的厚度總和為45～50nm。

優(yōu)選地：所述第八層的厚度為4～5nm，第九層的厚度1～3nm，第十層的厚度為6～7nm，第十一層的厚度為10～15nm，第十二層的厚度為2～3nm,第十三層的厚度為15～20nm。

優(yōu)化鋼化加工過程：

1)平鋼化與彎鋼化在同一臺(tái)爐子上進(jìn)行加工(使用無間隙強(qiáng)制對(duì)流爐)；

2)加工過程中確保彎鋼化與平鋼化溫度、爐絲加熱功率、對(duì)流功率等一致性，盡可能減小溫度對(duì)顏色的影響。若玻璃厚度為5-12mm，設(shè)定加熱溫度從700℃到690℃，加熱時(shí)間以90s/mm為單位，本專利膜系比常規(guī)單銀加熱時(shí)間增加約5％。

3)對(duì)鋼化設(shè)備進(jìn)行改造，加工平鋼玻璃時(shí)控制吹風(fēng)延后10-13秒，使加工平鋼化急冷模式與彎鋼化一致，確保膜層分子運(yùn)動(dòng)及排布的一致性；由于吹風(fēng)滯后，導(dǎo)致玻璃應(yīng)力偏低，需增加10％的出爐溫度，確保玻璃應(yīng)力合格；

4)對(duì)彎風(fēng)柵段上下風(fēng)嘴水平進(jìn)行校正，通過調(diào)節(jié)風(fēng)嘴高度及風(fēng)機(jī)風(fēng)箱開合控制平鋼化彎曲度。

本發(fā)明具有的有益效果：

通過膜層設(shè)計(jì)，解決彎鋼后因加熱時(shí)間不同及膜層拉伸造成的與平鋼顏色改變幅度不一致的問題，2、在雙銀膜層常規(guī)結(jié)構(gòu)的最外層加入NiCr進(jìn)行調(diào)和，降低膜面反射率。3、確定鋼化工藝，對(duì)鋼化爐彎鋼化段信號(hào)進(jìn)行改造，確保加工平鋼化時(shí)能夠順利吹風(fēng)；4、對(duì)加熱均勻性進(jìn)行檢查，確保加熱的均勻性，防止溫度不均勻?qū)︻伾a(chǎn)生影響。

6mm單片透過率≥50％，外觀呈現(xiàn)的是銀灰色，2、雙銀平鋼、彎鋼后對(duì)比，正面、側(cè)面顏色一致；單片玻面?zhèn)让鎍*(45度)偏差0.3以內(nèi)，其綜合色差△E≤2；3、鋼化后單片膜面反射率15％-16％，玻面反射率23％-25％。4、明確鋼化加工的注意事項(xiàng)，保障鋼化加工質(zhì)量。

附圖說明

圖1為本發(fā)明金色雙銀低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步描述，但本發(fā)明的保護(hù)范圍不僅僅局限于實(shí)施例。

一種中反銀灰色可彎鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片層G和鍍膜層，所述鍍膜層自所述玻璃基片層G向外依次復(fù)合有十三個(gè)膜層，其中第一層為SiNx層1，第二層為ZnO層2，第三層為Ag層3，第四層為NiCr層4,第五層為AZO層5，第六層為SiNx層6,第七層為ZnO層7,第八層為Ag層8，第九層為NiCr層9，第十層為AZO層10，第十一層為SiNx層11，第十二層為NiCr層12，第十三層為SiNx層13。

第一層和第二層的厚度總和為15～20nm，第三層的厚度為6～8nm，所述第四層的厚度為2～5nm。

第五層的厚度為6～7nm、第六層和第七層的厚度總和為45～50nm。所述第八層的厚度為4～5nm，第九層的厚度1～3nm，第十層的厚度為6～7nm，第十一層的厚度為10～15nm，第十三層的厚度為15～20nm。

在本實(shí)施例中，第一層厚7nm，第二層厚10nm，第三層的厚度為7nm，所述第四層的厚度為4nm。

第五層的厚度為7nm、第六層的厚度為20nm，第七層的厚度為27nm。所述第八層的厚度為4.5nm，第九層的厚度2nm，第十層的厚度為6nm，第十一層的厚度為12nm，第十二層的厚度為2.5nm，第十三層的厚度為16nm。

最后應(yīng)說明的是：以上實(shí)施例僅用以說明本發(fā)明而并非限制本發(fā)明所描述的技術(shù)方案，因此，盡管本說明書參照上述的各個(gè)實(shí)施例對(duì)本發(fā)明已進(jìn)行了詳細(xì)的說明，但是，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，仍然可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行修改或等同替換，而一切不脫離本發(fā)明的精神和范圍的技術(shù)方案及其改進(jìn)，其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍中。