本發(fā)明涉及上釉裝置技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種懸式瓷絕緣子頭部釉的制作設(shè)備及工藝。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有的盤形懸式瓷絕緣子瓷件由頭部和與其連接的傘部組成為一體。所述的瓷件通常經(jīng)過瓷泥制備、瓷泥坯件制備、瓷泥坯件布釉、高溫?zé)Y(jié)等系列工藝制造而成。其中瓷泥坯件上釉的工藝分為二種情況，一種為同一坯件頭部與傘部內(nèi)外所有表面布有同一種性質(zhì)釉水層，另一種情況為坯件頭部與傘部的內(nèi)表面和外表面的釉水層在有顏色或理化指標(biāo)等方面存在明顯性質(zhì)區(qū)別，實(shí)際生產(chǎn)中前一種情況已經(jīng)實(shí)現(xiàn)布釉采取整體一次浸沒的工藝方式，并在實(shí)際生產(chǎn)中實(shí)現(xiàn)了批量機(jī)械化或自動化作業(yè)，后一種情況由于坯件頭部一般為近似“∩”形平底管形狀，“∩”形上部呈封閉狀使液狀釉水無法通過，導(dǎo)致后一種情況的坯件頭部內(nèi)外表面布釉過程的難度和復(fù)雜性。

實(shí)際生產(chǎn)中后一種情況的坯件傘部內(nèi)外所有表面布釉可以依靠現(xiàn)有機(jī)械化或自動化裝置來完成，而坯件頭部內(nèi)外表面布釉需要通過人工涂刷先完成“∩”形內(nèi)側(cè)所有表面的布釉，“∩”形倒置后再涂刷完成“∩”形外側(cè)所有表面的布釉，上釉工藝過程效率低、勞動強(qiáng)度大，且因釉層均勻性難以保證影響高溫?zé)Y(jié)后的瓷件質(zhì)量的合格率低，不利于批量生產(chǎn)的連續(xù)生產(chǎn)作業(yè)，現(xiàn)有的一種自動化機(jī)械布釉的裝置采用浸釉缸上下升降的方式來完成瓷泥坯件的頭部外周表面的上釉，但是這種方式當(dāng)浸釉缸內(nèi)的釉漿的水平高度下降后對瓷泥坯件的頭部外周表面上釉不完全；并且，瓷泥坯件放置在工位架上，并未對瓷泥坯件的位置進(jìn)行調(diào)整，可能會造成坯件的晃動及偏移，最終布釉不均勻。

鑒于上述缺陷，本發(fā)明創(chuàng)作者經(jīng)過長時間的研究和實(shí)踐終于獲得了本創(chuàng)作。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn)，而提出的一種懸式瓷絕緣子頭部釉的制作設(shè)備。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案：一種懸式瓷絕緣子頭部釉的制作設(shè)備，包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋轉(zhuǎn)工位平臺、頭部外周表面浸釉裝置、頭部內(nèi)孔注釉裝置和控制柜，所述可旋轉(zhuǎn)工位平臺、頭部外周表面浸釉裝置、頭部內(nèi)孔注釉裝置分別與控制柜電性連接，其特征在于：

所述的頭部外周表面浸釉裝置包括浸釉缸體、缸體升降裝置和添釉罐；

所述可旋轉(zhuǎn)工位平臺包括支撐座、轉(zhuǎn)軸、工位架和驅(qū)動電機(jī)；

所述工位架包括環(huán)形陣列的工位桿，所述工位桿的端部設(shè)有水平設(shè)置的環(huán)形工位單元，在每個環(huán)形工位單元上環(huán)形設(shè)置有三個自適應(yīng)調(diào)整單元，每個自適應(yīng)調(diào)整單元包括設(shè)置在環(huán)形工位單元內(nèi)的空心圓柱體，在空心圓柱體內(nèi)設(shè)置壓縮彈簧，在空心圓柱體開口端連接有弧形的彈性體；

在所述的浸釉缸體的內(nèi)壁還設(shè)有第一液位傳感器、第二液位傳感器和第三液位傳感器；在所述的控制柜中還設(shè)置有控制電路板在電路板中設(shè)置信號采集模塊、比較模塊，所述的信號采集模塊獲取各個傳感器的檢測信息；

所述的比較模塊，分別采集各個液位傳感器的電壓和電流，其對所有信號處理單元內(nèi)存儲的電流和電壓采集信號進(jìn)行運(yùn)算處理；

所述比較模塊計(jì)算第二液位傳感器對第一液位傳感器的信號重合度P₂₁，第三液位傳感器對第一液位傳感器的信號重合度P₃₁，第三液位傳感器對第二液位傳感器的信號重合度P₃₂；

在控制電路板中還包括數(shù)據(jù)存儲器，其從數(shù)據(jù)存儲器中獲取重合度閾值，將每組所述計(jì)算所得的重合度值與重合度閾值進(jìn)行比對，若所述重合度大于該閾值，則斷定其中一組的液位超標(biāo)，若涉及到該組的重合度值均超標(biāo)，則斷定該組的液位超標(biāo)，則不能填充釉，否則將會影響布釉的均勻程度。

進(jìn)一步地，所述的比較模塊按照下述公式計(jì)算第二液位傳感器對第一液位傳感器采集數(shù)值的重合度P₂₁，采用傳感器采集的電流和電壓信號進(jìn)行判定；

$P_{21}(u_1,i_1)=\frac{{\Σ}_{u_2,i_2}\left(T\right(u_2,i_2)*I^{\′}(u_1+u_2,i_1+i_2))}{\sqrt{{\Σ}_{u_2,i_2}T{(u_2,i_2)}^2*{\Σ}_{u_2,i_2}I{(u_1+u_2,i_1+i_2)}^2}}---\left(1\right)$

式中，P₂₁(u₁，i₁)表示每組電流和電壓信號的重合度，u₁和i₁分別表示第一液位傳感器采集的電壓信號、電流信號，u₂和i₂分別表示所述第二液位傳感器采集的電壓信號、電流信號，T表示均方差運(yùn)算，I和I′表示積分運(yùn)算。

進(jìn)一步地，在每個所述的工位架的下端與轉(zhuǎn)軸之間設(shè)置有拉緊機(jī)構(gòu)；

所述的拉緊機(jī)構(gòu)包括與工位架下側(cè)連接的第一拉桿、與第一拉桿連接的伸縮缸，伸縮缸的活塞桿與轉(zhuǎn)軸連接。

進(jìn)一步地，所述缸體升降裝置設(shè)置在浸釉缸體底部，所述浸釉缸體通過第一釉漿輸送管與添釉罐連通，所述第一釉漿輸送管上設(shè)有第一電磁閥，所述浸釉缸體的內(nèi)壁還設(shè)有液位傳感器。

進(jìn)一步地，所述驅(qū)動電機(jī)設(shè)置在支撐座的下方，所述轉(zhuǎn)軸的一端與驅(qū)動電機(jī)的輸出軸連接，轉(zhuǎn)軸的另一端與工位架連接。

進(jìn)一步地，所述頭部內(nèi)孔注釉裝置包括注釉罐、罐體支架、注吸釉泵、第二釉漿輸送管、電動涂釉刷，所述注釉罐的罐體和注吸釉泵固定在罐體支架上，所述電動涂釉刷固定于支架前方并位于某一環(huán)形工位單元的上方，所述電動涂釉刷通過第二釉漿輸送管和注釉罐連接。

進(jìn)一步地，所述電動涂釉刷內(nèi)部設(shè)有空腔，所述第二釉漿輸送管與所述空腔的一端連通，所述電動涂釉刷上設(shè)有多個與所述空腔連通的通孔，所述電動涂釉刷上還連接有氣動升縮泵。

進(jìn)一步地，所述第二釉漿輸送管上設(shè)有第二電磁閥。

進(jìn)一步地，所述的三個自適應(yīng)調(diào)整單元間隔120°均勻布置在環(huán)形工位單元上。

本發(fā)明還提供一種懸式瓷絕緣子頭部釉的制作工藝，制作過程為：

將瓷泥坯件倒置在工位架上的環(huán)形工位單元上，并通過三個自適應(yīng)調(diào)整單元調(diào)整瓷泥坯件的位置；

在每個工位架的下端與轉(zhuǎn)軸之間設(shè)置的拉緊機(jī)構(gòu)將工位架拉緊，并調(diào)整瓷泥坯件的位置；

所述的控制柜控制缸體升降裝置完全浸入浸釉缸體中，完成布釉，當(dāng)布釉完成后，缸體升降裝置將瓷泥坯件提出；同時，在布釉過程中，液面?zhèn)鞲衅鲗σ好娓叨冗M(jìn)行檢測，當(dāng)檢測需要對浸釉缸體添加釉時，控制柜控制添釉罐添加釉；

所述的驅(qū)動電機(jī)制轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動至指定位置，瓷泥坯件轉(zhuǎn)動至頭部內(nèi)孔注釉裝置處，氣動升縮泵控制完成內(nèi)部布釉過程，在該過程中，拉緊機(jī)構(gòu)自動調(diào)整；

所述的驅(qū)動電機(jī)驅(qū)動轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)軸，直到完成所有瓷泥坯件的布釉過程。

本發(fā)明中，采取坯件外周表面直接浸沒和不通透坯件內(nèi)孔表面電動涂釉的布釉方式，保證了所布坯件表面釉層的均勻性，避免了釉層不均勻?qū)Υ杉|(zhì)量造成的影響，采用環(huán)形工位單元放置瓷泥坯件更加穩(wěn)固，而且浸釉缸體內(nèi)還設(shè)有液位傳感器，當(dāng)浸釉缸體內(nèi)的釉漿高度降低時，第一電磁閥打開，通過與添釉罐連通的第一釉漿輸送管為浸釉缸體補(bǔ)充釉漿，避免坯件外周表面浸釉不完全而導(dǎo)致上釉不完全。

附圖說明

圖1為本發(fā)明提出的懸式瓷絕緣子頭部釉的制作設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明的工位架的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明的環(huán)形工位單元的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。

請參照圖1所示，本發(fā)明實(shí)施例的懸式瓷絕緣子頭部釉的制作設(shè)備，包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋轉(zhuǎn)工位平臺、頭部外周表面浸釉裝置、頭部內(nèi)孔注釉裝置和控制柜1；可旋轉(zhuǎn)工位平臺、頭部外周表面浸釉裝置、頭部內(nèi)孔注釉裝置分別與控制柜1電性連接，頭部外周表面浸釉裝置包括浸釉缸體2、缸體升降裝置3和添釉罐4，缸體升降裝置3設(shè)置在浸釉缸體2底部，浸釉缸體2通過第一釉漿輸送管5與添釉罐4連通，第一釉漿輸送管5上設(shè)有第一電磁閥，浸釉缸體2的內(nèi)壁還設(shè)有液位傳感器。

所述的可旋轉(zhuǎn)工位平臺包括支撐座6、轉(zhuǎn)軸7、工位架8和驅(qū)動電機(jī)9，驅(qū)動電機(jī)9設(shè)置在支撐座6的下方，轉(zhuǎn)軸7的一端與驅(qū)動電機(jī)9的輸出軸連接，轉(zhuǎn)軸7的另一端與工位架8連接，工位架8包括環(huán)形陣列的工位桿10，工位桿10的端部設(shè)有水平設(shè)置的環(huán)形工位單元11。

所述的頭部內(nèi)孔注釉裝置包括注釉罐12、罐體支架13、注吸釉泵、第二釉漿輸送管14、電動涂釉刷15，注釉罐12的罐體和注吸釉泵固定在罐體支架13上，電動涂釉刷15固定于支架前方并位于某一環(huán)形工位單元11的上方，電動涂釉刷15通過第二釉漿輸送管14和注釉罐12連接，電動涂釉刷15內(nèi)部設(shè)有空腔，第二釉漿輸送管14與空腔的一端連通，電動涂釉刷15上設(shè)有多個與空腔連通的通孔，電動涂釉刷15上還連接有氣動升縮泵16，第二釉漿輸送管14上設(shè)有第二電磁閥。

在本發(fā)明實(shí)施例中，所述的可旋轉(zhuǎn)工位平臺在轉(zhuǎn)動時，會產(chǎn)生抖動，環(huán)形工位單元11在轉(zhuǎn)動到不同位置時，需保證環(huán)形工位的準(zhǔn)確定位。在每個工位架8的下端與轉(zhuǎn)軸7之間設(shè)置有拉緊機(jī)構(gòu)。

在本實(shí)施例中，所述的拉緊機(jī)構(gòu)包括與工位架8下側(cè)連接的第一拉桿31、與第一拉桿31連接的伸縮缸32，伸縮缸32的活塞桿33與轉(zhuǎn)軸7連接；伸縮缸32內(nèi)為液壓油，在可旋轉(zhuǎn)工位轉(zhuǎn)動時，伸縮缸32相應(yīng)的伸縮，直到各個工位架8的高度相同，各個伸縮缸32的拉力相同。環(huán)形工位單元11在伸縮缸32的作用下，在各個角度時具有同等的高度，在每次進(jìn)行布釉時，不會發(fā)生大的偏轉(zhuǎn)，布釉的均勻性提高。

本發(fā)明實(shí)施例中，為了保證瓷泥坯件在每個環(huán)形工位單元11上具有較高的平穩(wěn)性，在每個環(huán)形工位單元11上環(huán)形設(shè)置有三個自適應(yīng)調(diào)整單元41，每個自適應(yīng)調(diào)整單元41包括設(shè)置在環(huán)形工位單元11內(nèi)的空心圓柱體51，在空心圓柱體51內(nèi)設(shè)置壓縮彈簧52，在空心圓柱體51的開口端連接有弧形的彈性體54；彈性體的弧形面與放置在環(huán)形工位單元11內(nèi)的瓷泥坯件接觸，對其定位。

所述的空心圓柱體52的封口端51粘接在環(huán)形工位單元11內(nèi)，或者通過其它方式固定。

三個自適應(yīng)調(diào)整單元41間隔120°均勻布置在環(huán)形工位單元11上，三個自適應(yīng)調(diào)整單元通過彈性壓縮力壓緊瓷泥坯件，增加了瓷泥坯件的穩(wěn)定性，防止產(chǎn)生滑落，影響布釉的質(zhì)量。

在本實(shí)施例中浸釉缸體2的內(nèi)壁還設(shè)有液位傳感器，由于液體的黏度較高，在對浸釉缸體2添加釉時會產(chǎn)生沖擊；在液面高度較高時，對浸釉缸體2添加釉時，對液面造成沖擊，影響布釉的均勻性；因此，在對浸釉缸體2添加釉時，需要對液面高度進(jìn)行準(zhǔn)確監(jiān)控。

在本實(shí)施例中，浸釉缸體2的內(nèi)壁還設(shè)有第一液位傳感器61、第二液位傳感器62和第三液位傳感器63；在所述的控制柜1中還設(shè)置有控制電路板在電路板中設(shè)置信號采集模塊、比較模塊，所述的信號采集模塊獲取各個傳感器的檢測信息；所述的比較模塊，分別采集各個液位傳感器的電壓和電流，其對所有信號處理單元內(nèi)存儲的電流和電壓采集信號進(jìn)行運(yùn)算處理。

所述的比較模塊按照下述公式計(jì)算第二液位傳感器對第一液位傳感器采集數(shù)值的重合度P₂₁，本實(shí)施例中，采用傳感器采集的電流和電壓信號進(jìn)行判定；

$P_{21}(u_1,i_1)=\frac{{\Σ}_{u_2,i_2}\left(T\right(u_2,i_2)*I^{\′}(u_1+u_2,i_1+i_2))}{\sqrt{{\Σ}_{u_2,i_2}T{(u_2,i_2)}^2*{\Σ}_{u_2,i_2}I{(u_1+u_2,i_1+i_2)}^2}}---\left(1\right)$

式中，P₂₁(u₁，i₁)表示每組電流和電壓信號的重合度，u₁和i₁分別表示第一液位傳感器采集的電壓信號、電流信號，u₂和i₂分別表示所述第二液位傳感器采集的電壓信號、電流信號，T表示均方差運(yùn)算，I和I′表示積分運(yùn)算；

所述第二液位傳感器對第一液位傳感器的信號重合度P₂₁按照下述公式進(jìn)行計(jì)算；

$P_{21}(u,i)=\frac{\underset{j=1}{\overset{M}{\Σ}}{P}_{1j}(u_1,i_1)}{M}---\left(2\right)$

式中，M表示取樣組數(shù)，j表示序列數(shù)，P_1j(u₁，i₁)表示每組信號中所述第二液位傳感器對第一液位傳感器的信號重合度。

所述的比較模塊按照下述公式計(jì)算第三液位傳感器對第一液位傳感器采集數(shù)值的重合度P₃₁，本實(shí)施例中，采用傳感器采集的電流和電壓信號進(jìn)行判定；

$P_{31}(u_1,i_1)=\frac{{\Σ}_{u_3,i_3}\left(T\right(u_3,i_3)*I^{\′}(u_1+u_3,i_1+i_3))}{\sqrt{{\Σ}_{u_3,i_3}T{(u_3,i_3)}^2*{\Σ}_{u_3,i_3}I{(u_1+u_3,i_1+i_3)}^2}}---\left(3\right)$

式中，P₃₁(u₁，i₁)表示每組電流和電壓信號的重合度，u₁和i₁分別表示第一液位傳感器采集的電壓信號、電流信號，u₃和i₃分別表示所述第二液位傳感器采集的電壓信號、電流信號，T表示均方差運(yùn)算，I和I′表示積分運(yùn)算；

所述的比較模塊按照下述公式計(jì)算第二液位傳感器對第三液位傳感器采集數(shù)值的重合度P₂₃，本實(shí)施例中，采用傳感器采集的電流和電壓信號進(jìn)行判定；

$P_{23}(u_3,i_3)=\frac{{\Σ}_{u_2,i_2}\left(T\right(u_2,i_2)*I^{\′}(u_3+u_2,i_3+i_2))}{\sqrt{{\Σ}_{u_2,i_2}T{(u_2,i_2)}^2*{\Σ}_{u_2,i_2}I{(u_3+u_2,i_3+i_2)}^2}}---\left(4\right)$

式中，P₂₃(u₃，i₃)表示每組電流和電壓信號的重合度，u₃和i₃分別表示第一液位傳感器采集的電壓信號、電流信號，u₂和i₂分別表示所述第二液位傳感器采集的電壓信號、電流信號，T表示均方差運(yùn)算，I和I′表示積分運(yùn)算；

所述比較模塊計(jì)算第二液位傳感器對第一液位傳感器的信號重合度P₂₁，第三液位傳感器對第一液位傳感器的信號重合度P₃₁，第三液位傳感器對第二液位傳感器的信號重合度P₃₂。

在控制電路板中還包括數(shù)據(jù)存儲器，其從數(shù)據(jù)存儲器中獲取重合度閾值，將每組所述計(jì)算所得的重合度值與重合度閾值進(jìn)行比對，若所述重合度大于該閾值，則斷定其中一組的液位超標(biāo)，若涉及到該組的重合度值均超標(biāo)，則斷定該組的液位超標(biāo)，則不能填充釉，否則將會影響布釉的均勻程度。

本發(fā)明采取上述冗余判定的方式判定液位的高度，對布釉控制過程而言，精度比較高，大大提高布釉的穩(wěn)定性及均勻程度。

本發(fā)明實(shí)施例中布釉的過程為：

將瓷泥坯件倒置在工位架8上的環(huán)形工位單元上，并通過三個自適應(yīng)調(diào)整單元調(diào)整瓷泥坯件的位置；

在每個工位架8的下端與轉(zhuǎn)軸7之間設(shè)置的拉緊機(jī)構(gòu)將工位架8拉緊，并調(diào)整瓷泥坯件的位置；

所述的控制柜控制缸體升降裝置完全浸入浸釉缸體2中，完成布釉，當(dāng)布釉完成后，缸體升降裝置將瓷泥坯件提出；同時，在布釉過程中，液面?zhèn)鞲衅鲗σ好娓叨冗M(jìn)行檢測，當(dāng)檢測需要對浸釉缸體添加釉時，控制柜控制添釉罐4添加釉；

所述的驅(qū)動電機(jī)制轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動至指定位置，瓷泥坯件轉(zhuǎn)動至頭部內(nèi)孔注釉裝置處，氣動升縮泵16控制完成內(nèi)部布釉過程，在該過程中，拉緊機(jī)構(gòu)自動調(diào)整；

所述的驅(qū)動電機(jī)驅(qū)動轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)軸，直到完成所有瓷泥坯件的布釉過程。

本發(fā)明中，倒置的瓷泥坯件放置在環(huán)形陣列的工位桿10的各個環(huán)形工位單元11上后，無需人工搬運(yùn)周轉(zhuǎn)和過程控制，啟動電源開啟后自行完成所述瓷泥坯件頭部外周表面和內(nèi)孔的上釉工藝，采取坯件外周表面直接浸沒和不通透坯件內(nèi)孔表面電動涂釉的布釉方式，保證了所布坯件表面釉層的均勻性，避免了釉層不均勻?qū)Υ杉|(zhì)量造成的影響，而且浸釉缸體2內(nèi)還設(shè)有液位傳感器，當(dāng)浸釉缸體2內(nèi)的釉漿高度降低時，第一電磁閥打開，通過與添釉罐4連通的第一釉漿輸送管14，通過齒輪泵配合為浸釉缸體補(bǔ)充釉漿，避免坯件外周表面浸釉不完全而導(dǎo)致上釉不完全。

以上所述，僅為本發(fā)明較佳的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案及其發(fā)明構(gòu)思加以等同替換或改變，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。