本發(fā)明涉及玻璃減薄技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種曲面蓋板玻璃蝕刻液。

背景技術(shù)：

曲面觸摸屏具有圓潤(rùn)的邊緣效果、舒適的手持體驗(yàn)和更好的立體感觀效果，更加符合消費(fèi)者的審美體驗(yàn)，是未來(lái)觸摸屏產(chǎn)品發(fā)展的主流趨勢(shì)。但曲面蓋板玻璃制作難度較大，需要專(zhuān)門(mén)的設(shè)備，特殊工藝處理，目前只在少數(shù)高端產(chǎn)品中使用。曲面蓋板玻璃的一種制作方法是對(duì)玻璃基片進(jìn)行精雕打磨的方式來(lái)獲取弧度，這種方法獲得的曲面蓋板玻璃良率低、用時(shí)長(zhǎng)，效率低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種曲面蓋板玻璃蝕刻液，該蝕刻液能夠?qū)⒉ＡЩg刻出曲面，減少曲面蓋板玻璃的減薄時(shí)間，提高蝕刻良率，增加產(chǎn)能。

本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：

一種曲面蓋板玻璃蝕刻液，包括質(zhì)量百分比0.5%～1.0 %的鹽酸、4.0%～5.5 %的氫氟酸、10.0%～15.0 %的硝酸、0.2%～0.6%的草酸、0.03%～0.1%的脂肪醇聚氧乙烯謎表面活性劑，其余組分為水；所述鹽酸為含量36%～38%的分析純，氫氟酸為含量≥55%的分析純，硝酸為含量65%～68%的分析純，草酸為含量99.5%的分析純，脂肪醇聚氧乙烯謎表面活性劑為含量99%的分析純，水為DI水。

本發(fā)明的有益效果是，采用較高含量的氫氟酸能夠降低在蝕刻過(guò)程中抗酸油墨的脫落，減少酸液對(duì)抗酸油墨的影響，同時(shí)加入鹽酸、硝酸、草酸和表面活性劑以除去蝕刻過(guò)程中玻璃基片表面生成的不溶物，達(dá)到提高蝕刻良率，增加產(chǎn)能的目的。

具體實(shí)施方式

實(shí)施例一

本發(fā)明提供一種曲面蓋板玻璃蝕刻液，包括質(zhì)量百分比0.5%的鹽酸、4.0%的氫氟酸、10.0%的硝酸、0.2%的草酸、0.03%的脂肪醇聚氧乙烯謎表面活性劑，其余組分為水；所述鹽酸為含量36%～38%的分析純，氫氟酸為含量≥55%的分析純，硝酸為含量65%～68%的分析純，草酸為含量99.5%的分析純，脂肪醇聚氧乙烯謎表面活性劑為含量99%的分析純，水為DI水。

選取尺寸為650mm*550mm*0.6 mm的大片鈉鈣玻璃10片，按4.7寸小粒尺寸標(biāo)準(zhǔn)，用抗酸油墨對(duì)大片鈉鈣玻璃進(jìn)行絲印。再將2片大片鈉鈣玻璃非油墨面貼合在一起，玻璃四周邊緣進(jìn)行UV固化膠封邊，邊緣膠水經(jīng)UV燈固化后投入蝕刻機(jī)中，采用本發(fā)明的蝕刻液進(jìn)行減??；循環(huán)升溫，控制蝕刻溫度33℃～35℃；從原厚度0.6 mm減薄到0.3 mm，最終的蝕刻良率為93.21%。

實(shí)施例二

本發(fā)明提供一種曲面蓋板玻璃蝕刻液，包括質(zhì)量百分比0.65%的鹽酸、4.95%的氫氟酸、12.32%的硝酸、0.4%的草酸、0.06%的脂肪醇聚氧乙烯謎表面活性劑，其余組分為水；所述鹽酸為含量36%～38%的分析純，氫氟酸為含量≥55%的分析純，硝酸為含量65%～68%的分析純，草酸為含量99.5%的分析純，脂肪醇聚氧乙烯謎表面活性劑為含量99%的分析純，水為DI水。

按照與實(shí)施例一相同的試驗(yàn)過(guò)程，減薄的蝕刻良率為93.89%。

實(shí)施例三

本發(fā)明提供一種曲面蓋板玻璃蝕刻液，包括質(zhì)量百分比1.0%的鹽酸、5.5%的氫氟酸、15%的硝酸、0.6%的草酸、0.1%的脂肪醇聚氧乙烯謎表面活性劑，其余組分為水；所述鹽酸為含量36%～38%的分析純，氫氟酸為含量≥55%的分析純，硝酸為含量65%～68%的分析純，草酸為含量99.5%的分析純，脂肪醇聚氧乙烯謎表面活性劑為含量99%的分析純，水為DI水。

按照與實(shí)施例一相同的試驗(yàn)過(guò)程，減薄的蝕刻良率為91.68%。

以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制；任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下，都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案做出許多可能的變動(dòng)和修飾，或修改為等同變化的等效實(shí)施例。因此，凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同替換、等效變化及修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。