本發(fā)明涉及浮法玻璃制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種超薄浮法玻璃成型錫槽出口裝置。

背景技術(shù)：

采用浮法成型工藝生產(chǎn)玻璃時(shí)，玻璃定型并具有一定強(qiáng)度后，要用傳動輥道將玻璃帶抬起脫離錫液面，離開錫槽進(jìn)入退火窯?，F(xiàn)有工藝玻璃帶脫離錫液的方式如圖3所示，這種裝置存在以下缺點(diǎn)：當(dāng)生產(chǎn)的玻璃厚度較小時(shí)，如小于1.1mm，特別是當(dāng)玻璃的厚度減小到0.2mm以下時(shí)，玻璃的柔軟度很強(qiáng)，抬起困難，極易與錫槽的槽底出口唇磚3相摩擦形成磨傷缺陷，玻璃在此處要經(jīng)歷兩次的彎曲轉(zhuǎn)彎，易出現(xiàn)斷板現(xiàn)象。玻璃抬起后在錫液面上會形成一定的錫液暴露面10很容易形成沾錫缺陷。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是為了解決現(xiàn)階段使用浮法生產(chǎn)超薄玻璃時(shí)存在的，玻璃易出現(xiàn)斷板現(xiàn)象，且在錫液面一側(cè)會出現(xiàn)沾錫等缺點(diǎn)，而提出的一種超薄浮法玻璃成型錫槽出口裝置。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案：

一種超薄浮法玻璃成型錫槽出口裝置，包括相互配合的槽底鋼殼和側(cè)板，在槽底鋼殼上連接唇磚，在唇磚與側(cè)板之間設(shè)有封邊料，在唇磚上設(shè)有錫液，在側(cè)板的外側(cè)對應(yīng)設(shè)置用于支撐玻璃帶的傳送輥，其特征在于：所述唇磚的上側(cè)設(shè)有向上傾斜設(shè)置第一斜面，封邊料的上側(cè)設(shè)有與第一斜面對應(yīng)配合的第二斜面，錫液完全覆蓋唇磚和封邊料，側(cè)板的上側(cè)面高于錫液的上側(cè)面。

在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，可以有以下進(jìn)一步的技術(shù)方案：

所述側(cè)板采用厚度為8mm—25mm的金屬鎢板。

所述側(cè)板采用厚度為15mm。

所述側(cè)板的上端面設(shè)有第三斜面，在第三斜面兩側(cè)均設(shè)有一個(gè)弧形角。

所述第一斜面的最高點(diǎn)與所述側(cè)板的上端面的垂直距離為2mm—4mm。

所述第一斜面的最高點(diǎn)與所述側(cè)板的上端面的垂直距離為3mm。

所述封邊料的最高點(diǎn)與所述側(cè)板的上端面的垂直距離為1mm—3mm。

所述封邊料的最高點(diǎn)與所述側(cè)板的上端面的垂直距離為2mm。

所述錫液與所述傳送輥?zhàn)罡唿c(diǎn)的垂直距離為5mm—10mm。

所述錫液與所述傳送輥?zhàn)罡唿c(diǎn)的垂直距離為7mm。

本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于：本裝置改進(jìn)了傳統(tǒng)工藝玻璃離開錫槽的方式，錫液面的高度低于槽底鋼殼出口端板上平面1mm的深度，傳輸輥道高度高于錫液面5～10mm，并具有一定的調(diào)節(jié)余地，玻璃板以很小的傾角水平拉出錫槽，玻璃抬起高度降低，彎曲轉(zhuǎn)彎程度減小，錫液的暴露面減小，很好的解決超薄玻璃抬起困難，易沾錫和磨傷質(zhì)量缺陷的難題，同時(shí)減少斷板風(fēng)險(xiǎn)，提高玻璃制造水平。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的基本結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是圖1的A部放大圖；

圖3是現(xiàn)有的浮法裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為了使本發(fā)明更加清楚明白，以下結(jié)合附圖對本裝置詳細(xì)說明，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

如圖1和圖2所示，本發(fā)明提供的一種超薄浮法玻璃成型錫槽出口裝置，包括相互配合的槽底鋼殼1和側(cè)板2，在側(cè)板2的外側(cè)對應(yīng)設(shè)置用于支撐玻璃帶9的傳送輥8，側(cè)板2采用厚度為8mm—25mm的金屬鎢板，本方案優(yōu)選為厚度為15mm，在側(cè)板2的上端面設(shè)有第三斜面2a，在第三斜面2a兩側(cè)均設(shè)有一個(gè)弧形角2b，第三斜面2a由側(cè)板2內(nèi)側(cè)到外側(cè)傾斜向上設(shè)置。

在槽底鋼殼1上通過螺栓4連接唇磚3，在唇磚3與側(cè)板2之間設(shè)有封邊料5，唇磚3的上側(cè)設(shè)有向上傾斜設(shè)置第一斜面3a，第一斜面3a由內(nèi)側(cè)到外側(cè)傾斜向上設(shè)置，封邊料5的上側(cè)設(shè)有與第一斜面3a對應(yīng)配合的第二斜面5a，第二斜面5a也由內(nèi)側(cè)到外側(cè)傾斜向上設(shè)置，且第一斜面3a和第二斜面5a共面設(shè)置。第一斜面3a的最高點(diǎn)與側(cè)板2的上端面的垂直距離為2mm—4mm，本方案優(yōu)選為3mm。封邊料5的最高點(diǎn)與所述側(cè)板2的上端面的垂直距離為1mm—3mm，本方案優(yōu)選為2mm。

在唇磚3上設(shè)有錫液7，錫液7完全覆蓋唇磚3和封邊料5，側(cè)板2的上側(cè)面高于錫液7的上側(cè)面。所述錫液7與所述傳送輥8最高點(diǎn)的垂直距離為5mm—10mm，本方案優(yōu)選為7mm。

本裝置使得錫液7的錫液暴露面6靠近側(cè)板2，且與玻璃帶9下側(cè)面的間隙較小，有效的避免了在玻璃帶9抬起后出現(xiàn)的沾錫現(xiàn)象的發(fā)生。