本實用新型涉及特種玻璃制備領域,特別是涉及一種具有耐酸堿特性的減反膜玻璃。
背景技術:
在一些工藝程序中,需要對減反膜玻璃進行后續(xù)加工,減反膜層需經(jīng)過多道清洗、鍍膜等加工過程,如果減反膜不能經(jīng)受這些工序的影響,則會嚴重降低產(chǎn)品的性能。另外,在某些特殊環(huán)境尤其是酸堿環(huán)境中使用減反膜玻璃,也需要減反膜具有優(yōu)異的耐酸堿特性。
由于目前減反膜沒有統(tǒng)一的耐酸堿測試標準,對于許多多層減反膜產(chǎn)品,并不能適用于后續(xù)加工和一些特殊的環(huán)境,從而大大制約著減反膜玻璃的應用范圍。
技術實現(xiàn)要素:
基于此,本實用新型的目的在于提供一種具有較佳耐酸堿特性的減反膜玻璃。
一種耐酸堿減反膜玻璃,其包括玻璃基體,該耐酸堿減反膜玻璃還包括減反膜及保護膜,該減反膜由高折射率介質(zhì)膜和低折射率介質(zhì)膜依次層疊組成,該保護膜位于該減反膜上,該減反膜中最靠近該玻璃基體的為高折射率介質(zhì)膜,該保護膜位于遠離該玻璃基體的最外層。
該保護膜為氮化硅或氧化鋯,厚度為2~30nm。
該玻璃基體為0.5mm以上厚的鈉鈣普通平板無色玻璃或低鐵超白平板玻璃。
在該玻璃基體相對的兩面分別均形成有該減反膜及該保護膜。
一種耐酸堿減反膜玻璃,其包括玻璃基體,該耐酸堿減反膜玻璃還包括由高折射率介質(zhì)膜和低折射率介質(zhì)膜依次層疊組成具有減反射效果的減反膜,及形成于該減反膜上的保護膜,該減反膜中最靠近該玻璃基體的為高折射率介質(zhì)膜,該保護膜位于遠離該玻璃基體的最外層。
所述的保護膜為氮化硅或氧化鋯,厚度為2~30nm。
該玻璃基體為0.5mm以上厚的鈉鈣普通平板無色玻璃或低鐵超白平板玻璃。
在該玻璃基體相對的兩面分別均形成有該減反膜及該保護膜。
上述耐酸堿減反膜玻璃能在有效降低反射率的基礎上對減反膜形成保護,而且這種減反膜玻璃結(jié)構簡單,在生產(chǎn)上可提高制作效率,為在傳統(tǒng)的磁控濺射生產(chǎn)線上大面積、大規(guī)模生產(chǎn)提供可能。
附圖說明
圖1為本實用新型實施例一的耐酸堿減反膜玻璃;
圖2為本實用新型實施例二的耐酸堿減反膜玻璃。
具體實施方式
為了便于理解本實用新型,下面對本實用新型進行更全面的描述。但是,本實用新型可以以許多不同的形式來實現(xiàn),并不限于本文所描述的實施例。相反地,提供這些實施例的目的是使對本實用新型的公開內(nèi)容的理解更加透徹全面。
如圖1所示的本實用新型實施例一的耐酸堿減反膜玻璃,其包括依次層疊的如下結(jié)構:玻璃基體10、由高折射率介質(zhì)膜和低折射率介質(zhì)膜層疊組成的具有減反射效果的減反膜20、保護膜層30。保護膜層30位于減反膜20上。減反膜20中最靠近玻璃基體10的為高折射率介質(zhì)膜(圖未示)。保護膜層30位于遠離玻璃基體10的最外層。通過保護膜層30的作用,可以提高上述耐酸堿減反膜玻璃的耐酸堿性能。
其中,玻璃基體10可以為0.5mm以上厚的鈉鈣普通平板無色玻璃或低鐵超白平板玻璃。
保護膜層30可以為氮化硅或氧化鋯,厚度為2~30nm。
通過控制各層介質(zhì)膜的折射率及厚度搭配來滿足相干干涉條件,上述耐酸堿減反膜玻璃可降低反射率到小于5%,減反膜玻璃全角度反射色a*值介于(-3,1),反射色b*值介于(-3,1)。上述耐酸堿減反膜玻璃浸沒在(23±2)℃、1mol/L濃度的鹽酸溶液中24小時后,其可見光平均透光率∣△T∣≤4%;浸沒在(23±2)℃、1mol/L濃度的氫氧化鈉溶液中24小時后,其可見光平均透光率∣△T∣≤4%。
如圖2所示的本實用新型實施例二的耐酸堿減反膜玻璃,其包括依次層疊的如下結(jié)構:保護膜層300’、由高折射率介質(zhì)膜和低折射率介質(zhì)膜層疊組成的具有減反射效果的減反膜200’、玻璃基體10、由高折射率介質(zhì)膜和低折射率介質(zhì)膜層疊組成的具有減反射效果的減反膜200、保護膜層300。在玻璃基體10的兩側(cè)均形成有減反膜和保護膜。如此有利于進一步降低上述耐酸堿減反膜玻璃的反射率,及提升上述耐酸堿減反膜玻璃的耐酸堿性能。
其中,玻璃基體10可以為0.5mm以上厚的鈉鈣普通平板無色玻璃或低鐵超白平板玻璃。
保護膜層300’、300可以為氮化硅或氧化鋯,厚度為2~30nm。
通過控制各層介質(zhì)膜的折射率及厚度搭配來滿足相干干涉條件,從而達到降低反射率到小于1.5%。上述耐酸堿減反膜玻璃浸沒在(23±2)℃、1mol/L濃度的鹽酸溶液中24小時后,其可見光平均透光率∣△T∣≤4%;浸沒在(23±2)℃、1mol/L濃度的氫氧化鈉溶液中24小時后,其可見光平均透光率∣△T∣≤4%。
上述耐酸堿減反膜玻璃能在有效降低反射率的基礎上對減反膜形成保護,而且這種減反膜玻璃結(jié)構簡單,在生產(chǎn)上可提高制作效率,為在傳統(tǒng)的磁控濺射生產(chǎn)線上大面積、大規(guī)模生產(chǎn)提供可能。
以上所述,僅是本實用新型的較佳實施例而已,并非對本實用新型作任何形式上的限制,雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上,然而并非用以限定本實用新型,任何熟悉本專業(yè)的技術人員,在不脫離本實用新型技術方案范圍內(nèi),當可利用上述揭示的技術內(nèi)容做出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例,但凡是未脫離本實用新型技術方案內(nèi)容,依據(jù)本實用新型的技術實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾,均仍屬于本實用新型技術方案的范圍內(nèi)。