技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型涉及一種新型用于降低多晶鑄錠氧含量的裝置，包括石英坩堝和氮化硅板，石英坩堝側(cè)壁上設(shè)有第一氮化硅粉涂層，石英坩堝底部設(shè)有第二氮化硅粉涂層，第二氮化硅粉涂層上設(shè)有凹槽組，氮化硅板底部設(shè)有凸起組，凸起組包括第一凸起和若干第二凸起，第一凸起包括水平凸起和豎直凸起，氮化硅板頂部設(shè)有第三氮化硅粉涂層，氮化硅板和第三氮化硅粉涂層側(cè)壁與第一氮化硅粉涂層內(nèi)壁之間設(shè)有第四氮化硅粉涂層；本實(shí)用新型利于降低硅錠下部和有效部位的氧含量，隔絕石英坩堝中的鐵向硅錠擴(kuò)散，利于降低電池效率衰減，提高良率，降低成本。

技術(shù)研發(fā)人員：孟濤;路景剛;王海慶
受保護(hù)的技術(shù)使用者：鎮(zhèn)江環(huán)太硅科技有限公司
文檔號(hào)碼：201621074992
技術(shù)研發(fā)日：2016.09.23
技術(shù)公布日：2017.05.03