本實(shí)用新型涉及一種可單片使用的LOW-E玻璃 ，屬于玻璃加工領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
Low-E玻璃又稱低輻射玻璃，是在玻璃表面鍍上多層金屬或其他化合物組成的膜系產(chǎn)品。其鍍膜層具有對可見光高透過及對中遠(yuǎn)紅外線高反射的特性，使其與普通玻璃及傳統(tǒng)的建筑用鍍膜玻璃相比，具有優(yōu)異的隔熱效果和良好的透光性。目前市場上的在線LOW-E產(chǎn)品不可單片使用，加工過程中需要進(jìn)行除膜，膜層硬度不夠，且存儲(chǔ)時(shí)間稍長便會(huì)出現(xiàn)氧化現(xiàn)象，對加工生產(chǎn)條件要求很高；而離線LOW-E產(chǎn)品雖然耐加工性很好，但是顏色不可調(diào)且相對性能較差。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種可單片使用的LOW-E玻璃，不會(huì)氧化，無需除膜，耐加工性性好，透過率高，隔熱性好強(qiáng)，顏色可調(diào)至自然色。
為解決以上技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是：一種可單片使用的LOW-E玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板表面從下向上呈縱向依次設(shè)置底層電介質(zhì)層、吸收層、中間電介質(zhì)層、透明導(dǎo)電層和頂層電介質(zhì)層，所述的底層電介質(zhì)層、中間電介質(zhì)層和頂層電介質(zhì)層均包括Si3N4、TiO2、Nb2O5，SiOxNy中的一種或幾種，所述的吸收層包括Cr、NiCr、NiV、Ti、SST中的一種或幾種，所述透明導(dǎo)電層包括ITO、AZO、GZO中的一種或幾種。
所述底層電介質(zhì)層、中間電介質(zhì)層和頂層電介質(zhì)層的折射率為1.5～2.0，并且膜厚30～150nm。
所述吸收層的膜厚為0.1～5nm。
所述的透明導(dǎo)電層膜厚為30～250nm。
所述底層電介質(zhì)層、吸收層、中間電介質(zhì)層、透明導(dǎo)電層和頂層電介質(zhì)層采用磁控濺射的方式依次沉積在玻璃基板上。
本實(shí)用新型的有益效果在于：
1.不會(huì)氧化：由于本實(shí)用新型各涂層所用材料中未使用銀等易氧化的金屬材質(zhì)，因此不會(huì)氧化，無需除膜，可單片使用，也可夾膠使用。
2.透過率高：采用的導(dǎo)電層為透明導(dǎo)電層，膜層對可見光的吸收小，可以做到高透過率，顏色達(dá)到自然色。
3.隔熱性好：隔熱性與產(chǎn)品的導(dǎo)電性有關(guān)，本實(shí)用新型的所采用的透明導(dǎo)電層包括ITO、AZO、GZO中的至少其中一種，因此本實(shí)用新型能達(dá)到近于離線LOW-E效果，與雙銀LOW-E玻璃搭配使用，保溫性能更強(qiáng)，與雙銀LOW-E玻璃合中空后未充氬氣的情況下U值≤1.33，可達(dá)到與三銀LOW-E相同的節(jié)能效果；
4.膜層硬度高：底層電介質(zhì)層、吸收層、中間電介質(zhì)層、透明導(dǎo)電層和頂層電介質(zhì)層所用材料均為耐腐蝕性，耐加工性優(yōu)異的材料，膜層硬度可達(dá)9H，可加工性能強(qiáng)，耐加工性與普通玻璃一樣。
因此，本實(shí)用新型所提供的一種可單片使用的LOW-E玻璃，不會(huì)氧化，無需除膜，透過率高，隔熱性強(qiáng)，與雙銀LOW-E玻璃搭配使用，保溫性能更強(qiáng)，可達(dá)到與三銀LOW-E相同的節(jié)能效果。
附圖說明
圖1 為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例僅用于更加清楚地說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而不能以此來限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
實(shí)施例一
如圖1所示的一種可單片使用的LOW-E玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板表面從下向上呈縱向依次設(shè)置底層電介質(zhì)層、吸收層、中間電介質(zhì)層、透明導(dǎo)電層和頂層電介質(zhì)層，所述的底層電介質(zhì)層、中間電介質(zhì)層和頂層電介質(zhì)層為SiOxNy（其中x的范圍為0<x<2，y的范圍為0<y<4/3），所述的吸收層為Cr，透明導(dǎo)電層為ITO。
所述底層電介質(zhì)層、中間電介質(zhì)層和頂層電介質(zhì)層的折射率為1.5，并且膜厚30nm。
所述吸收層的膜厚為0.1nm。
所述的透明導(dǎo)電層膜厚為30nm。
所述底層電介質(zhì)層、吸收層、中間電介質(zhì)層、透明導(dǎo)電層和頂層電介質(zhì)層采用磁控濺射的方式依次沉積在玻璃基板上。
將按以上材料和參數(shù)生產(chǎn)出的LOW-E玻璃，先用光譜儀UV3600測出太陽能全光譜（包括透、反射譜），將光譜數(shù)據(jù)導(dǎo)入軟件Win6.3，按美國NFRC100-2010標(biāo)準(zhǔn)計(jì)算可得：
測得可見光透過率為85.65%，室外反射率6.60%，室內(nèi)反射率5.94%，冬季U值3.680W/m2.k，夏季U值2.828W/m2.k， 遮陽系數(shù)0.795。
因此，本實(shí)用新型具有不會(huì)氧化、無需除膜，強(qiáng)度高的特點(diǎn)，可單片使用，且透過率高，隔熱性強(qiáng)。
實(shí)施例二
如圖1所示的一種可單片使用的LOW-E玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板表面從下向上呈縱向依次設(shè)置底層電介質(zhì)層、吸收層、中間電介質(zhì)層、透明導(dǎo)電層和頂層電介質(zhì)層。所述的底層電介質(zhì)層、中間電介質(zhì)層和頂層電介質(zhì)層為TiO2，所述的吸收層為NiCr，所述透明導(dǎo)電層為AZO。
所述底層電介質(zhì)層、中間電介質(zhì)層和頂層電介質(zhì)層的折射率為2.0，并且膜厚150nm。
所述吸收層的膜厚為5nm。
所述的透明導(dǎo)電層膜厚為250nm。
所述底層電介質(zhì)層、吸收層、中間電介質(zhì)層、透明導(dǎo)電層和頂層電介質(zhì)層采用磁控濺射的方式依次沉積在玻璃基板上。
將按以上材料和參數(shù)生產(chǎn)出的LOW-E玻璃，先用光譜儀UV3600測出太陽能全光譜（包括透、反射譜），將光譜數(shù)據(jù)導(dǎo)入軟件Win6.3，按美國NFRC100-2010標(biāo)準(zhǔn)計(jì)算可得：
測得可見光透過率為82.33%，室外反射率10.38%，室內(nèi)反射率11.07%，冬季U值3.596W/m2.k，夏季U值2.724W/m2.k， 遮陽系數(shù)0.813。
因此，本實(shí)用新型具有不會(huì)氧化、無需除膜，強(qiáng)度高的特點(diǎn)，可單片使用，且透過率高，隔熱性強(qiáng)。
以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和變形，這些改進(jìn)和變形也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。