本實(shí)用新型屬于玻璃技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種具有優(yōu)異可鋼化性能的LOW-E鍍膜玻璃。

背景技術(shù)：

LOW-E鍍膜玻璃又稱低輻射鍍膜玻璃，低輻射鍍膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉積一層金屬銀作為功能層，對(duì)太陽(yáng)光中的近紅外線和生活環(huán)境中的遠(yuǎn)紅外線起反射作用，從而降低玻璃對(duì)紅外線的吸收率和輻射率，所以稱之為低輻射鍍膜玻璃；此種玻璃既可用于家庭窗戶，也可用于商店、寫(xiě)字樓和高檔賓館的玻璃幕墻及其它需要的場(chǎng)所；夏天它可以有效阻止太陽(yáng)光中的近紅外線進(jìn)入室內(nèi)，避免室內(nèi)溫度升高，節(jié)約空調(diào)費(fèi)用；冬天它可阻止室內(nèi)暖氣等產(chǎn)生的遠(yuǎn)紅外線逸出室外，保持室內(nèi)溫度，節(jié)約取暖費(fèi)用。

可鋼化鍍膜玻璃是指能夠經(jīng)受鋼化工藝處理，在鋼化過(guò)程中各膜層材料性能不發(fā)生變化或變化較小，進(jìn)而保證鋼化后低輻射鍍膜玻璃的性能和反射顏色與鋼化前性能和反射顏色相比無(wú)變化或變化不大；可鋼化LOW-E鍍膜玻璃具有可以提高鍍膜玻璃生產(chǎn)線的生產(chǎn)效率，利于其他深加工企業(yè)的專業(yè)化生產(chǎn)的特點(diǎn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的是提出一種具有優(yōu)異可鋼化性能的LOW-E鍍膜玻璃，使其具有鋼化前后顏色變化小，節(jié)能性能穩(wěn)定可靠的特點(diǎn)。

本實(shí)用新型的目的可采用如下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)：

一種具有優(yōu)異可鋼化性能的LOW-E鍍膜玻璃，所述的LOW-E鍍膜玻璃具有玻璃基片；所述的玻璃基片上鍍有銀膜層；所述銀膜層的內(nèi)側(cè)、外側(cè)上均鍍有氮化硅膜層、CrMo膜層以及NiCr膜層；位于銀膜層內(nèi)側(cè)的氮化硅膜層、CrMo膜層以及NiCr膜層由玻璃基片向外依次設(shè)置；位于銀膜層外側(cè)的氮化硅膜層、CrMo膜層以及NiCr膜層由外向玻璃基片方向依次設(shè)置；所述的銀膜層、位于銀膜層的內(nèi)側(cè)的氮化硅膜層、CrMo膜層、NiCr膜層以及位于銀膜層的外側(cè)的氮化硅膜層、CrMo膜層、NiCr膜層構(gòu)成七層膜結(jié)構(gòu)的LOW-E鍍膜玻璃。

所述氮化硅膜層的厚度為40nm～50nm。

本實(shí)用新型提出的一種具有優(yōu)異可鋼化性能的LOW-E鍍膜玻璃，采用上述技術(shù)方案提出的七層膜結(jié)構(gòu)，其中CrMo膜主要起保護(hù)銀膜在鋼化過(guò)程中不被氧化的特點(diǎn)，由于金屬M(fèi)o的導(dǎo)電性良好，使得鋼化后玻璃的輻射率較低，同時(shí)使得鋼化后的玻璃反射色變化顯著減??；綜上，本實(shí)用新型具有低輻射性能、膜層牢固度好、易于大規(guī)模生產(chǎn)、生產(chǎn)成本低的特點(diǎn)。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1.氮化硅膜層，2.金屬CrMo膜層，3.金屬NiCr膜層，4.金屬銀膜層。

具體實(shí)施方式

結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型加以說(shuō)明：

如圖1所示，一種具有優(yōu)異可鋼化性能的LOW-E鍍膜玻璃，所述的LOW-E鍍膜玻璃具有玻璃基片；所述的玻璃基片上鍍有銀膜層4；所述銀膜層1的內(nèi)側(cè)、外側(cè)上均鍍有氮化硅膜層1、CrMo膜層2以及NiCr膜層3；位于銀膜層1內(nèi)側(cè)的氮化硅膜層1、CrMo膜層2以及NiCr膜層3由玻璃基片向外依次設(shè)置；位于銀膜層4外側(cè)的氮化硅膜層1、CrMo膜層2以及NiCr膜層3由外向玻璃基片方向依次設(shè)置；所述的銀膜層4、位于銀膜層4的內(nèi)側(cè)的氮化硅膜層1、CrMo膜層2、NiCr膜層3以及位于銀膜層4的外側(cè)的氮化硅膜層1、CrMo膜層2、NiCr膜層3構(gòu)成七層膜結(jié)構(gòu)的LOW-E鍍膜玻璃。

所述氮化硅膜層1的厚度為40nm～50nm。

本實(shí)用新型是在高真空環(huán)境下，用磁控濺射鍍膜機(jī)在浮法玻璃表面上鍍制七層納米材料膜的方法，生產(chǎn)一種具有優(yōu)異可鋼化性能的LOW-E鍍膜玻璃。

所述的具有優(yōu)異可鋼化性能的LOW-E鍍膜玻璃是在工廠鍍膜機(jī)上按如下方法完成：首先鍍膜室抽真空至本底真空度5×10^﹣4Pa以下，充入工藝氣體（氬氣、氮?dú)?、氧氣），使鍍膜室?nèi)工藝氣體壓力穩(wěn)定在2.5×10^﹣1Pa左右，接通濺射電源，靶材開(kāi)始濺射，玻璃經(jīng)清洗機(jī)清洗合格后進(jìn)入真空室，經(jīng)過(guò)靶材時(shí)，靶材原子或其化合物就會(huì)沉積到玻璃表面；第一個(gè)和第二個(gè)靶靶材為硅，工藝氣體為氬氣和氮?dú)猓瑢⒌璞∧こ练e到玻璃表面為第1層膜，厚度35納米至45納米；第三個(gè)靶靶材為金屬CrMo，工藝氣體為氬氣，將純金屬CrMo薄膜沉積到氮化硅表面為第2層膜，厚度約1納米；第四個(gè)靶靶材為NiCr，工藝氣體為氬氣，將金屬NiCr薄膜沉積到純金屬CrMo表面為第3層膜，厚度約1納米；第五個(gè)靶材為金屬銀，工藝氣體為氬氣，將金屬銀薄膜沉積到金屬NiCr表面為第4層膜，厚度為10納米至12納米；第六個(gè)靶靶材為NiCr，工藝氣體為氬氣，將金屬NiCr薄膜沉積到純金屬銀表面為第5層膜，厚度約1納米；第七個(gè)靶靶材為金屬CrMo，工藝氣體為氬氣，將純金屬CrMo薄膜沉積到表面為NiCr第6層膜，厚度約1納米；第八個(gè)和第九個(gè)靶靶材為硅，工藝氣體為氬氣和氮?dú)猓瑢⒌璞∧こ练e到玻璃表面為第7層膜，厚度40納米至50納米。