1.一種坩堝裝置，其特征在于，包括：
坩堝本體，呈桶形，具有桶底、桶壁和頂部開(kāi)口，其中所述桶底和桶壁圍成用于盛放物料的容置空間；
坩堝蓋，蓋設(shè)于所述坩堝本體的頂部開(kāi)口，所述坩堝蓋具有朝向所述桶底的內(nèi)表面和背離所述桶底的外表面；
至少一個(gè)感應(yīng)環(huán)，其同心設(shè)置于所述坩堝蓋內(nèi)并靠近所述坩堝的所述內(nèi)表面，并且所述至少一個(gè)感應(yīng)環(huán)的中心與所述坩堝蓋的中心在同一條直線上。
2.如權(quán)利要求1所述的坩堝裝置，其特征在于，所述感應(yīng)環(huán)的數(shù)量為多個(gè)，在沿著由所述坩堝蓋的中心向外周方向上，多個(gè)所述感應(yīng)環(huán)中相鄰兩個(gè)所述感應(yīng)環(huán)之間的距離逐漸變大；或者相鄰兩個(gè)所述感應(yīng)環(huán)之間的距離相等。
3.如權(quán)利要求1所述的坩堝裝置，其特征在于，所述至少一個(gè)感應(yīng)環(huán)埋設(shè)在所述坩堝蓋內(nèi)或者固定于坩堝蓋的內(nèi)表面上。
4.如權(quán)利要求1所述的坩堝裝置，其特征在于，所述坩堝蓋的內(nèi)表面的外周設(shè)有內(nèi)凸環(huán)；和/或所述坩堝蓋的外表面的外周設(shè)有外凸環(huán)。
5.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的坩堝裝置，其特征在于，所述坩堝蓋內(nèi)至少在中央?yún)^(qū)域設(shè)有中空部，所述中空部位于所述坩堝蓋的內(nèi)表面和外表面之間，所述至少一個(gè)感應(yīng)環(huán)設(shè)置于所述坩堝蓋內(nèi)。
6.如權(quán)利要求5所述的坩堝裝置，其特征在于，所述中空部呈圓盤(pán)形，且其圓心在所述坩堝蓋的中心線上。
7.如權(quán)利要求5所述的坩堝裝置，其特征在于，所述坩堝蓋呈圓盤(pán)形，所述坩堝蓋與所述中空部的半徑之差為1.5～3.5厘米；和/或所述坩堝蓋的內(nèi)表面與所述中空部之間的厚度為5～20毫米。
8.如權(quán)利要求7所述的坩堝裝置，其特征在于，所述坩堝蓋的內(nèi)表面與所述中空部之間的厚度為1.63～2.93毫米；和/或所述坩堝蓋的內(nèi)表面與所述中空部之間的厚度為6～16毫米。
9.如權(quán)利要求5所述的坩堝裝置，其特征在于，所述中空部?jī)?nèi)填充有導(dǎo)熱系數(shù)高于所述坩堝蓋的填充物。
10.如權(quán)利要求9所述的坩堝裝置，其特征在于，所述坩堝本體和/或所述坩堝蓋由石墨制成，和/或所述填充物由石墨烯制成。