技術特征：

技術總結
一種燒結體，其特征在于，包含鋅(Zn)、鎵(Ga)、硅(Si)和氧(O)，Zn含量按ZnO換算為5～60摩爾％，Ga含量按Ga2O3換算為8.5～90摩爾％，Si含量按SiO2換算為0～45摩爾％，在將按ZnO換算的Zn含量設為A(摩爾％)、將按Ga2O3換算的Ga含量設為B(摩爾％)、將按SiO2換算的Si含量設為C(摩爾％)時，滿足A≤(B+2C)的條件，且相對密度為90％以上。本發(fā)明的課題在于即使在通過DC濺射進行成膜時不向氣氛中引入氧氣，也有效地得到高透射率且低折射率的非晶膜。

技術研發(fā)人員：奈良淳史;關秀人
受保護的技術使用者：捷客斯金屬株式會社
技術研發(fā)日：2016.02.25
技術公布日：2017.09.26