本發(fā)明涉及一種玻璃拋光粉，并將該拋光粉應(yīng)用于AG玻璃的生產(chǎn)。
背景技術(shù)：
目前流行的蝕刻法AG加工工藝，浮法玻璃基板都是對玻璃的空氣面直接進行蝕刻AG工藝或者在蝕刻AG工藝前增加弱酸預處理；該方法加工的AG玻璃滿足一般客戶要求，但針對高端領(lǐng)域，AG面微光粒子均勻性達不到理想效果。本發(fā)明是在該AG生產(chǎn)工藝基礎(chǔ)上，增加專業(yè)物理拋光工序，對玻璃AG面在蝕刻前進行一次物理拋光處理，使玻璃AG面微觀顆粒形貌均勻，從而在AG工序后達到更加均勻的AG效果。
目前市面上流行的AG玻璃，主流工藝是采用腐蝕法制程生產(chǎn)AG玻璃；在玻璃空氣面直接經(jīng)過化學預處理后做蒙砂拋光工序，此工藝制備的AG玻璃表面粒子顆粒度均勻性較差：粒子凹坑直徑極差范圍為40~60um。實際測試一組數(shù)據(jù)，如在370mm*470mm大小玻璃面上，做成光澤度為75%的AG玻璃，整版玻璃表面9點測試粒子凹坑直徑（RSM)數(shù)據(jù)如下：78um；89um；125um；90um；98um；126um；89um；96um；129um；9點極差范圍在51um。
目前流行的蝕刻法AG加工工藝，浮法玻璃基板都是對玻璃的空氣面直接進行蝕刻AG工藝或者在蝕刻AG工藝前增加弱酸預處理；該方法加工的AG玻璃滿足一般客戶要求，但針對高端領(lǐng)域，AG面微光粒子均勻性達不到理想效果。
技術(shù)實現(xiàn)要素：
一種AG玻璃拋光液，包括如下重量份的原料組成：CeO2占質(zhì)量比為20-30%，La2O3占質(zhì)量比為15-35%，質(zhì)量濃度為40%的氫氟酸質(zhì)量比為20-30%；質(zhì)量濃度為40%硫酸占質(zhì)量比為10-20%；質(zhì)量濃度為75%硝酸占質(zhì)量比為5-10%。
進一步優(yōu)選為包括如下重量份的原料組成：CeO2占質(zhì)量比為25%，La2O3占質(zhì)量比為20%，質(zhì)量濃度為40%的氫氟酸質(zhì)量比為25%；質(zhì)量濃度為40%硫酸占質(zhì)量比為17%；質(zhì)量濃度為75%硝酸占質(zhì)量比為8%。
所述的AG玻璃拋光液生產(chǎn)AG玻璃的工藝，包括如下步驟：
步驟一：將玻璃按照標示角30-90°將錫面吸附在拋光設(shè)備上盤；
步驟二：啟動拋光設(shè)備，進行拋光，拋光時間為3~6分鐘；
步驟三：卸片，清洗刷洗機清洗；
步驟四：對玻璃的非工作面用抗酸油墨做印刷保護，使其在后工序中保證不受任何影響；
步驟五：對玻璃的工作面用藥液進行預洗1-5min；藥液主要成分為稀釋的氫氟酸和硫酸，其中氫氟酸的濃度為2%；硫酸的濃度為1%；氫氟酸與硫酸的質(zhì)量比2:1；
步驟六：對玻璃工作面在蒙砂設(shè)備上，用蒙砂藥液進行蒙砂處理50-100s，使玻璃工作面形成大小形狀相似的非透明的微觀凹坑形貌；
步驟七：對玻璃工作面在化學拋光設(shè)備上，用AG玻璃拋光液進行拋光處理20-30min，使玻璃工作面上的非透明微觀凹坑形貌處理透亮，達到漫反射效果從而形成AG防炫效果，即可完成AG玻璃的生產(chǎn)。
所述的蒙砂藥液成分及質(zhì)量分數(shù)占比分別為：氟化氫銨50%~55%；氟硅酸銨3.5%~4%；淀粉6%~7%；檸檬酸13%~15%；氟化鈣1.5%；水20%。將基板玻璃空氣面經(jīng)過特殊物理拋光后，再經(jīng)過預處理后做蒙砂拋光工序，AG玻璃表面粒子顆粒度均勻性有很大提高，實際測試一組數(shù)據(jù)，如在370*470大小玻璃面上，做成光澤度為75%的AG玻璃，整版玻璃表面9點測試粒子凹坑直徑（RSM)數(shù)據(jù)如下：88um；95um；92um；89um；94um；92um；94um；95um；92um；9點極差在7um；很大程度上提高了粒子凹坑直接均勻性。
本發(fā)明是在現(xiàn)有AG生產(chǎn)工藝基礎(chǔ)上，在弱酸預處理前對玻璃基板空氣面進行特殊物理拋光，拋光粉粒直徑均值約為1.0~1.6um的研磨粉（主要成分為CeO2，La2O3稀土材料）。通過精拋光工藝，實現(xiàn)玻璃表面微觀粒子形貌均勻，從而在后面AG工序中達到粒子形貌更均勻，進一步提高AG制程良率。
與現(xiàn)有的技術(shù)相比，本發(fā)明通過增加一道物理拋光工序來提高AG玻璃表面微觀顆粒度，提高均勻性，粒子凹坑直徑極差由原來的40~60um，提高到極差在10以內(nèi)。同時，因為粒子凹坑均勻性提高，AG制程中的暗斑和暗點蝕刻不良減少，不良率由原來的10%以上下降到到3%以下。
附圖說明
圖1為用拋光粉拋光后，玻璃面的電鏡結(jié)構(gòu)圖，其中圖A為100倍放大圖；圖B為150倍放大圖。
具體實施方式
AG玻璃拋光液生產(chǎn)AG玻璃的工藝，包括如下步驟：
步驟一：將玻璃按照標示角30°將錫面吸附在拋光設(shè)備上盤；
步驟二：啟動拋光設(shè)備，進行拋光，拋光時間為3~6分鐘；
步驟三：卸片，清洗刷洗機清洗；
步驟四：對玻璃的非工作面用抗酸油墨做印刷保護，使其在后工序中保證不受任何影響；
步驟五：對玻璃的工作面用的藥液進行預洗1-5min；藥液主要成分為稀釋的氫氟酸和硫酸，其中氫氟酸的濃度為2%；硫酸的濃度為1%；氫氟酸與硫酸的質(zhì)量比2:1；
步驟六：對玻璃工作面在蒙砂設(shè)備上，用蒙砂藥液進行蒙砂處理50-100s，使玻璃工作面形成大小形狀相似的非透明的微觀凹坑形貌；
步驟七：對玻璃工作面在化學拋光設(shè)備上，用AG玻璃拋光液進行拋光處理20-30min，使玻璃工作面上的非透明微觀凹坑形貌處理透亮，達到漫反射效果從而形成AG防炫效果，即可完成AG玻璃的生產(chǎn)。
所述的蒙砂藥液成分及質(zhì)量分數(shù)占比分別為：氟化氫銨50%~55%；氟硅酸銨3.5%~4%；淀粉6%~7%；檸檬酸13%~15%；氟化鈣1.5%；水20%。
所述的拋光液包括如下重量份的原料組成：CeO2占質(zhì)量比為25%，La2O3占質(zhì)量比為20%，質(zhì)量濃度為40%的氫氟酸質(zhì)量比為25%；質(zhì)量濃度為40%硫酸占質(zhì)量比為17%；質(zhì)量濃度為75%硝酸占質(zhì)量比為8%。
本發(fā)明關(guān)鍵點主要為AG工藝制程前增加物理拋光工序；通過增加該物理拋光工序，使后面AG工序制程后玻璃表面微光顆粒度更均勻，降低AG工序中的蝕刻不均造成的暗點缺陷和暗斑缺陷。