本發(fā)明屬于功能材料領(lǐng)域，涉及在功能化的fto/glass基板表面制備hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜，具體為多鐵性bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3/zn1-xmnxfe2o4復(fù)合薄膜。

背景技術(shù)：

單相磁電多鐵性材料至今還沒能應(yīng)用到實(shí)際中，主要是因?yàn)榇蟛糠謫蜗嗖牧系木永餃囟容^低，在極低的溫度下才有磁電效應(yīng)，且磁電效應(yīng)很微弱。盡管單相bifeo3材料的居里溫度和尼爾溫度都在室溫以上，但是由于bifeo3的螺旋磁結(jié)構(gòu)，使得bifeo3呈g型反鐵磁性，在低電場下僅表現(xiàn)出微弱的鐵磁性，其較小的磁電耦合特性阻礙了其在多鐵方面的實(shí)際應(yīng)用。相反，多鐵性磁電復(fù)合材料可具有室溫下的強(qiáng)磁電效應(yīng)，因而有實(shí)際應(yīng)用價(jià)值。

雖然摻雜后的bifeo3薄膜在性能上有明顯的改善，但是對于薄膜的磁性能還有很大的提升空間。尖晶石型鐵氧體的薄膜在光學(xué)性質(zhì)、電學(xué)性質(zhì)、磁學(xué)性質(zhì)等眾多方面展現(xiàn)出許多新型的特性。zn1-xmnxfe2o4屬于尖晶石型鐵氧體是一種多功能半導(dǎo)體材料，是一種重要的磁性材料。目前，還沒有關(guān)于多鐵性bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3/zn1-xmnxfe2o4復(fù)合薄膜及其制備方法的相關(guān)報(bào)道。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜及其制備方法，該方法設(shè)備要求簡單，實(shí)驗(yàn)條件容易達(dá)到，摻雜量容易控制，制得的薄膜為多鐵性bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3/zn1-xmnxfe2o4復(fù)合薄膜，能夠有效提高bifeo3薄膜的耐擊穿性能，同時(shí)改善其鐵電和鐵磁性能。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：

一種hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜，該復(fù)合薄膜包括復(fù)合在一起的上層膜和下層膜，其中上層膜為bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3晶態(tài)膜；下層膜為zn1-xmnxfe2o4晶態(tài)膜，x＝0.1～0.9；其中bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3晶態(tài)膜為扭曲的菱方鈣鈦礦結(jié)構(gòu)，三方相r3m:r和r3c:h空間群共存；zn1-xmnxfe2o4晶態(tài)膜為立方相，尖晶石結(jié)構(gòu)，空間群為fd3-ms。

該復(fù)合薄膜在1khz頻率下，外加電壓為80v，測試電場為1066kv/cm時(shí)，其剩余極化強(qiáng)度為85μc/cm²，矯頑場為581kv/cm。

該復(fù)合薄膜在外加電壓為40v、533kv/cm測試電場下的漏電流密度為6.1×10^-3a/cm²。

所述的hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜的制備方法，包括以下步驟：

步驟1：按摩爾比為(1-x):x:2將硝酸鋅、硝酸錳和硝酸鐵溶于乙二醇甲醚中，攪拌均勻后再加入醋酸酐，得到前驅(qū)液a，其中x＝0.1～0.9；

步驟2：按摩爾比為0.94:0.08:0.03:0.95:0.03:0.02將硝酸鉍、硝酸鈥、硝酸鍶、硝酸鐵、醋酸錳和硝酸鋅溶于乙二醇甲醚和醋酸酐的混合溶液中，得到前驅(qū)液b；

步驟3：采用旋涂法在潔凈的fto/glass基片上旋涂前驅(qū)液a，得到zn1-xmnxfe2o4濕膜，濕膜經(jīng)勻膠后在190～210℃下烘烤得干膜，再在600～620℃下在空氣中退火，得到晶態(tài)zn1-xmnxfe2o4薄膜；

步驟4：待晶態(tài)zn1-xmnxfe2o4薄膜冷卻后，在晶態(tài)zn1-xmnxfe2o4薄膜上重復(fù)步驟3，直至達(dá)到所需厚度，得到zn1-xmnxfe2o4晶態(tài)膜；

步驟5：在zn1-xmnxfe2o4晶態(tài)膜上旋涂前驅(qū)液b，得到bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3濕膜，濕膜經(jīng)勻膠后在190～210℃下烘烤得干膜，再在540～560℃下在空氣中退火，得到晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜；

步驟6：待晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜冷卻后，在晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜上重復(fù)步驟5，直至達(dá)到所需厚度，得到hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜。

所述前驅(qū)液a中fe離子的濃度為0.1～0.3mol/l；前驅(qū)液b中金屬離子的總濃度為0.2～0.4mol/l。

所述前驅(qū)液a和前驅(qū)液b中乙二醇甲醚和醋酸酐的體積比為(2.5～3.5):1。

所述步驟3進(jìn)行前先將fto/glass基片清洗干凈，然后在紫外光下照射，使fto/glass基片表面達(dá)到原子清潔度，再旋涂前驅(qū)液a；

所述步驟5進(jìn)行前先對zn1-xmnxfe2o4晶態(tài)膜進(jìn)行紫外光照射處理，使zn1-xmnxfe2o4晶態(tài)膜表面達(dá)到原子清潔度，再旋涂前驅(qū)液b。

所述步驟3和步驟5中勻膠時(shí)的勻膠轉(zhuǎn)速為3800～4000r/min，勻膠時(shí)間為12～18s。

所述步驟3和步驟5中勻膠后的烘烤時(shí)間為8～10min。

所述步驟3中的退火時(shí)間為20～25min，步驟5中的退火時(shí)間為8～12min。

相對于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明具有以下有益效果：

本發(fā)明提供的hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜的制備方法，先分別配制zn1-xmnxfe2o4前驅(qū)液和bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3前驅(qū)液，再用旋涂法和層層退火的工藝基板上旋涂制備多層zn1-xmnxfe2o4膜，然后在zn1-xmnxfe2o4晶態(tài)膜上旋涂制備多層bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3膜，即得到hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜。本發(fā)明選擇鑭系元素ho和堿土元素sr進(jìn)行bifeo3的a位摻雜，選擇過渡金屬mn和zn進(jìn)行bifeo3的b位摻雜，使原本近似呈鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的鐵酸鉍晶格扭曲，結(jié)構(gòu)畸變加劇，同時(shí)由于ho和sr對bi³⁺的進(jìn)一步的替代，以及mn元素在退火過程中的變價(jià)，可以有效的擬制bi的揮發(fā)，減少薄膜中fe²⁺和氧空位的含量，使晶格結(jié)構(gòu)進(jìn)一步發(fā)生畸變，從而增強(qiáng)薄膜在外加電場下的極化強(qiáng)度。此外，這種結(jié)構(gòu)的畸變會(huì)抑制bifeo3特殊的空間調(diào)制的螺旋磁結(jié)構(gòu)，釋放出部分潛在的宏觀磁性，提高薄膜的鐵磁性。另外zn1-xmnxfe2o4屬于尖晶石型鐵氧體是一種多功能半導(dǎo)體材料，是一種重要的磁性材料。本發(fā)明結(jié)合以上兩種材料的優(yōu)點(diǎn)，采用2-2型復(fù)合形式，以bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3膜作為鐵電層，以zn1-xmnxfe2o4膜作為磁性層，得到同時(shí)具有優(yōu)異鐵電和鐵磁性能的bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3/zn1-xmnxfe2o4復(fù)合薄膜，提高了bifeo3薄膜的抗擊穿性能，解決了鐵酸鉍薄膜弱磁性的問題。本發(fā)明采用溶膠-凝膠工藝，相比于其他制備薄膜的方法，該方法設(shè)備要求簡單，實(shí)驗(yàn)條件易于實(shí)現(xiàn)，成本低廉，反應(yīng)容易進(jìn)行，工藝過程溫度低，制備過程及摻雜量容易控制，化學(xué)組分精確可控，適宜在大的表面和形狀不規(guī)則的表面上制備薄膜，很容易均勻定量地?fù)饺胍恍┪⒘吭?，可以在短時(shí)間內(nèi)獲得原子或分子水平的均勻性。

本發(fā)明制得的hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜包括復(fù)合在一起的上層膜和下層膜，其中上層膜為bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3晶態(tài)膜；下層膜為zn1-xmnxfe2o4晶態(tài)膜，x＝0.1～0.9。該復(fù)合薄膜致密度高、均勻性較好、晶粒尺寸均勻，本發(fā)明通過多種元素?fù)诫s對bifeo3薄膜晶體結(jié)構(gòu)進(jìn)行調(diào)控從而改善薄膜的鐵電性能，提高抗擊穿性能，同時(shí)采用強(qiáng)磁性尖晶石結(jié)構(gòu)的zn1-xmnxfe2o4作為磁性層，獲得優(yōu)異磁電耦合性能的hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜，能夠有效提高bifeo3薄膜的耐擊穿性能，同時(shí)改善其鐵電和鐵磁性能。

進(jìn)一步的，本發(fā)明制得的hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜在1khz頻率下，1066kv/cm測試電場下的剩余極化強(qiáng)度為85μc/cm²，矯頑場為581kv/cm。在40v外加電壓及533kv/cm測試電場下的漏電流密度為6.1×10^-3a/cm²，提高了復(fù)合薄膜在鐵電測試和漏電流測試時(shí)的抗擊穿性能。

附圖說明

圖1是本發(fā)明實(shí)施例2制備的hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜的xrd圖。

圖2是本發(fā)明實(shí)施例2制備的zn0.7mn0.3fe2o4晶態(tài)膜的xrd精修圖；

圖3是本發(fā)明實(shí)施例2制備的hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜的sem斷面圖。

圖4是本發(fā)明實(shí)施例2制備的hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜的漏電流圖。

圖5是本發(fā)明實(shí)施例2制備的hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜的電滯回線圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和本發(fā)明優(yōu)選的具體實(shí)施例對本發(fā)明做進(jìn)一步描述，原料均為分析純。

實(shí)施例1

步驟1，按摩爾比為0.9:0.1:2(x＝0.1)將硝酸鋅、硝酸錳和硝酸鐵溶于乙二醇甲醚中，攪拌均勻后再加入醋酸酐，得到前驅(qū)液a，前驅(qū)液a中fe離子的濃度為0.1mol/l，乙二醇甲醚與醋酸酐的體積比為2.5:1；

步驟2，按摩爾比為0.89:0.08:0.03:0.95:0.03:0.02將硝酸鉍(過量5％)、硝酸鈥、硝酸鍶、硝酸鐵、醋酸錳和硝酸鋅溶于乙二醇甲醚與醋酸酐的混合溶液中，得到前驅(qū)液b，前驅(qū)液b中金屬離子的總濃度為0.2mol/l，乙二醇甲醚與醋酸酐的體積比為2.5:1；

步驟3，將fto/glass基片清洗干凈后置于紫外光照射儀中照射40min，使基片表面達(dá)到“原子清潔度”。然后采用旋涂法在fto/glass基片上旋涂前驅(qū)液a，其勻膠轉(zhuǎn)速為3800r/min，勻膠時(shí)間為18s，得到zn0.9mn0.1fe2o4濕膜，濕膜在190℃下烘烤10min得干膜，再在600℃下在空氣中退火24min，得到晶態(tài)zn0.9mn0.1fe2o4薄膜；

步驟4，待晶態(tài)zn0.9mn0.1fe2o4薄膜冷卻后，在晶態(tài)zn0.9mn0.1fe2o4薄膜上重復(fù)步驟3，重復(fù)4次，得到zn0.9mn0.1fe2o4晶態(tài)膜；

步驟5，將zn0.9mn0.1fe2o4晶態(tài)膜在紫外光下照射，使其表面達(dá)到原子清潔度，然后在zn0.9mn0.1fe2o4晶態(tài)膜上旋涂前驅(qū)液b，其勻膠轉(zhuǎn)速為3800r/min，勻膠時(shí)間為18s，得到bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3濕膜，濕膜在190℃下烘烤10min得干膜，再在540℃下在空氣中退火12min，得到晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜；

步驟6，待晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜冷卻后，在晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜上重復(fù)步驟5，重復(fù)11次，得到hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜。

實(shí)施例2

步驟1，按摩爾比為0.7:0.3:2(x＝0.3)將硝酸鋅、硝酸錳和硝酸鐵溶于乙二醇甲醚中，攪拌均勻后再加入醋酸酐，得到前驅(qū)液a，前驅(qū)液a中fe離子的濃度為0.2mol/l，乙二醇甲醚與醋酸酐的體積比為3:1；

步驟2，按摩爾比為0.89:0.08:0.03:0.95:0.03:0.02將硝酸鉍(過量5％)、硝酸鈥、硝酸鍶、硝酸鐵、醋酸錳和硝酸鋅溶于乙二醇甲醚與醋酸酐的混合溶液中，得到前驅(qū)液b，前驅(qū)液b中金屬離子的總濃度為0.3mol/l，乙二醇甲醚與醋酸酐的體積比為3:1；

步驟3，將fto/glass基片清洗干凈后置于紫外光照射儀中照射40min，使基片表面達(dá)到“原子清潔度”。然后采用旋涂法在fto/glass基片上旋涂前驅(qū)液a，其勻膠轉(zhuǎn)速為3900r/min，勻膠時(shí)間為15s，得到zn0.7mn0.3fe2o4濕膜，濕膜在200℃下烘烤得干膜9min，再在610℃下空氣中退火25min，得到晶態(tài)zn0.7mn0.3fe2o4薄膜；

步驟4，待晶態(tài)zn0.7mn0.3fe2o4薄膜冷卻后，在晶態(tài)zn0.7mn0.3fe2o4薄膜上重復(fù)步驟3，重復(fù)5次，得到zn0.7mn0.3fe2o4晶態(tài)膜；

步驟5，將zn0.7mn0.3fe2o4晶態(tài)膜在紫外光下照射，使其表面達(dá)到原子清潔度，然后在zn0.7mn0.3fe2o4晶態(tài)膜上旋涂前驅(qū)液b，其勻膠轉(zhuǎn)速為3900r/min，勻膠時(shí)間為15s，得到bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3濕膜，濕膜在200℃下烘烤9min得干膜，再在550℃下空氣中退火10min，得到晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜；

步驟6，待晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜冷卻后，在晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜上重復(fù)步驟5，重復(fù)12次，得到hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜。

采用xrd測定hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜的物相組成結(jié)構(gòu)。用radiantmultiferroic儀器測試hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜的鐵電性能。用agilentb2900測試hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜的漏電流特性。

對實(shí)施例2制得的hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜進(jìn)行以上測試，結(jié)果如圖1、圖2、圖3、圖4、圖5和表1所示。

圖1與jcpdsno.74-2016標(biāo)準(zhǔn)卡片吻合，從圖中可知，實(shí)施例2制得的hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜中的bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3晶態(tài)膜為扭曲的菱方鈣鈦礦結(jié)構(gòu)，三方相r3m:r和r3c:h空間群共存，且薄膜結(jié)晶性能良好，薄膜樣品中沒有其他雜質(zhì)的出現(xiàn)。

采用xrd測定zn0.7mn0.3fe2o4晶態(tài)膜的物相組成結(jié)構(gòu)。采用maud軟件利用rietveld原理對xrd數(shù)據(jù)做精修擬合處理結(jié)果如圖2所示，基于xrd數(shù)據(jù)的精修結(jié)構(gòu)參數(shù)如表1所示，誤差因子控制在11.5％。從圖中可知，制備的zn0.7mn0.3fe2o4晶態(tài)膜具有立方相的尖晶石結(jié)構(gòu)，空間點(diǎn)群為fd3-ms，且薄膜結(jié)晶性能良好，薄膜樣品中沒有其他雜質(zhì)的出現(xiàn)。

表1zn0.7mn0.3fe2o4晶態(tài)膜的xrd精修結(jié)構(gòu)參數(shù)

圖3表明實(shí)施例2制備的hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜的總厚度為750nm，其中bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3晶態(tài)膜厚度約為510nm，zn0.7mn0.3fe2o4晶態(tài)膜厚度約為240nm。

圖4表明實(shí)施例2制備的hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜在40v外加電壓下，測試電場為533kv/cm時(shí)，漏電流密度為6.1×10^-3a/cm²，說明提高了復(fù)合薄膜在鐵電測試和漏電流測試時(shí)的抗擊穿性能。

圖5表明實(shí)施例2制備的hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜在1khz頻率下，1066kv/cm測試電場下的剩余極化強(qiáng)度為85μc/cm²，矯頑場為581kv/cm。

實(shí)施例3

步驟1，按摩爾比為0.5:0.5:2(x＝0.5)將硝酸鋅、硝酸錳和硝酸鐵溶于乙二醇甲醚中，攪拌均勻后再加入醋酸酐，得到前驅(qū)液a，前驅(qū)液a中fe離子的濃度為0.3mol/l，乙二醇甲醚與醋酸酐的體積比為3.5:1；

步驟2，按摩爾比為0.89:0.08:0.03:0.95:0.03:0.02將硝酸鉍(過量5％)、硝酸鈥、硝酸鍶、硝酸鐵、醋酸錳和硝酸鋅溶于乙二醇甲醚與醋酸酐的混合溶液中，得到前驅(qū)液b，前驅(qū)液b中金屬離子的總濃度為0.4mol/l，乙二醇甲醚與醋酸酐的體積比為3.5:1；

步驟3，將fto/glass基片清洗干凈后置于紫外光照射儀中照射40min，使基片表面達(dá)到“原子清潔度”。然后采用旋涂法在fto/glass基片上旋涂前驅(qū)液a，其勻膠轉(zhuǎn)速為4000r/min，勻膠時(shí)間為12s，得到zn0.5mn0.5fe2o4濕膜，濕膜在210℃下烘烤8min得干膜，再在620℃下空氣中退火20min，得到晶態(tài)zn0.5mn0.5fe2o4薄膜；

步驟4，待晶態(tài)zn0.5mn0.5fe2o4薄膜冷卻后，在晶態(tài)zn0.5mn0.5fe2o4薄膜上重復(fù)步驟3，重復(fù)6次，得到zn0.5mn0.5fe2o4晶態(tài)膜；

步驟5，將zn0.5mn0.5fe2o4晶態(tài)膜在紫外光下照射，使其表面達(dá)到原子清潔度，然后在zn0.5mn0.5fe2o4晶態(tài)膜上旋涂前驅(qū)液b，其勻膠轉(zhuǎn)速為4000r/min，勻膠時(shí)間為12s，得到bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3濕膜，濕膜在210℃下烘烤8min得干膜，再在560℃下空氣中退火8min，得到晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜；

步驟6，待晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜冷卻后，在晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜上重復(fù)步驟5，重復(fù)13次，得到hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜。

實(shí)施例4

步驟1，按摩爾比為0.3:0.7:2(x＝0.7)將硝酸鋅、硝酸錳和硝酸鐵溶于乙二醇甲醚中，攪拌均勻后再加入醋酸酐，得到前驅(qū)液a，前驅(qū)液a中fe離子的濃度為0.15mol/l，乙二醇甲醚與醋酸酐的體積比為2.8:1；

步驟2，按摩爾比為0.89:0.08:0.03:0.95:0.03:0.02將硝酸鉍(過量5％)、硝酸鈥、硝酸鍶、硝酸鐵、醋酸錳和硝酸鋅溶于乙二醇甲醚與醋酸酐的混合溶液中，得到前驅(qū)液b，前驅(qū)液b中金屬離子的總濃度為0.25mol/l，乙二醇甲醚與醋酸酐的體積比為2.8:1；

步驟3，將fto/glass基片清洗干凈后置于紫外光照射儀中照射40min，使基片表面達(dá)到“原子清潔度”。然后采用旋涂法在fto/glass基片上旋涂前驅(qū)液a，其勻膠轉(zhuǎn)速為3850r/min，勻膠時(shí)間為16s，得到zn0.3mn0.7fe2o4濕膜，濕膜在195℃下烘烤9.5min得干膜，再在605℃下空氣中退火23min，得到晶態(tài)zn0.3mn0.7fe2o4薄膜；

步驟4，待晶態(tài)zn0.3mn0.7fe2o4薄膜冷卻后，在晶態(tài)zn0.3mn0.7fe2o4薄膜上重復(fù)步驟3，重復(fù)3次，得到zn0.3mn0.7fe2o4晶態(tài)膜；

步驟5，將zn0.3mn0.7fe2o4晶態(tài)膜在紫外光下照射，使其表面達(dá)到原子清潔度，然后在zn0.3mn0.7fe2o4晶態(tài)膜上旋涂前驅(qū)液b，其勻膠轉(zhuǎn)速為3850r/min，勻膠時(shí)間為16s，得到bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3濕膜，濕膜在195℃下烘烤9.5min得干膜，再在545℃下空氣中退火11min，得到晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜；

步驟6，待晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜冷卻后，在晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜上重復(fù)步驟5，重復(fù)10次，得到hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜。

實(shí)施例5

步驟1，按摩爾比為0.1:0.9:2(x＝0.9)將硝酸鋅、硝酸錳和硝酸鐵溶于乙二醇甲醚中，攪拌均勻后再加入醋酸酐，得到前驅(qū)液a，前驅(qū)液a中fe離子的濃度為0.25mol/l，乙二醇甲醚與醋酸酐的體積比為3.2:1；

步驟2，按摩爾比為0.89:0.08:0.03:0.95:0.03:0.02將硝酸鉍(過量5％)、硝酸鈥、硝酸鍶、硝酸鐵、醋酸錳和硝酸鋅溶于乙二醇甲醚與醋酸酐的混合溶液中，得到前驅(qū)液b，前驅(qū)液b中金屬離子的總濃度為0.35mol/l，乙二醇甲醚與醋酸酐的體積比為3.2:1；

步驟3，將fto/glass基片清洗干凈后置于紫外光照射儀中照射40min，使基片表面達(dá)到“原子清潔度”。然后采用旋涂法在fto/glass基片上旋涂前驅(qū)液a，其勻膠轉(zhuǎn)速為3950r/min，勻膠時(shí)間為14s，得到zn0.1mn0.9fe2o4濕膜，濕膜在205℃下烘烤8.5min得干膜，再在615℃下空氣中退火22min，得到晶態(tài)zn0.1mn0.9fe2o4薄膜；

步驟4，待晶態(tài)zn0.1mn0.9fe2o4薄膜冷卻后，在晶態(tài)zn0.1mn0.9fe2o4薄膜上重復(fù)步驟3，重復(fù)7次，得到zn0.1mn0.9fe2o4晶態(tài)膜；

步驟5，將zn0.1mn0.9fe2o4晶態(tài)膜在紫外光下照射，使其表面達(dá)到原子清潔度，然后在zn0.1mn0.9fe2o4晶態(tài)膜上旋涂前驅(qū)液b，其勻膠轉(zhuǎn)速為3950r/min，勻膠時(shí)間為14s，得到bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3濕膜，濕膜在205℃下烘烤8.5min得干膜，再在555℃下空氣中退火9min，得到晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜；

步驟6，待晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜冷卻后，在晶態(tài)bi0.89ho0.08sr0.03fe0.95mn0.03zn0.02o3薄膜上重復(fù)步驟5，重復(fù)14次，得到hosrmnzn共摻鐵酸鉍/mn摻鐵酸鋅復(fù)合薄膜。

以上所述內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實(shí)施方式對本發(fā)明所作的進(jìn)一步詳細(xì)說明，不是全部或唯一的實(shí)施方式，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員通過閱讀本發(fā)明說明書而對本發(fā)明技術(shù)方案采取的任何等效的變換，均為本發(fā)明的權(quán)利要求所涵蓋。