本發(fā)明屬于光學(xué)薄膜領(lǐng)域，具體涉及一種耐腐蝕高增透的日夜兩視光學(xué)玻璃薄膜。

背景技術(shù)：

隨著近年來光學(xué)技術(shù)的迅猛的發(fā)展，光學(xué)產(chǎn)品也日新月異，發(fā)生了翻天覆地的變化。人們對光學(xué)的認(rèn)識與需求，不在停留與局限于光與影的轉(zhuǎn)換。攝影、成像與增透只是光學(xué)系統(tǒng)的基本功能，更多的光電功能、防眩、高清夜視功能、車載影像、全息影像等已是當(dāng)前熱門的技術(shù)。

目前市場上多數(shù)光學(xué)產(chǎn)品主要側(cè)重于光學(xué)性能的要求，經(jīng)常強(qiáng)調(diào)其像素、廣角、焦距、可變光、高清等等。但對于其機(jī)械性能、適應(yīng)各種惡劣的環(huán)境及全候穩(wěn)定性方面要求相對較少。部份廠家則避重就輕，采用外圍設(shè)計來彌補(bǔ)產(chǎn)品的缺陷。隨著民用與軍事產(chǎn)品的發(fā)展與升級，對光學(xué)產(chǎn)品的要求日益苛刻。不但要有優(yōu)良的光學(xué)性能，還要有出色的物理特性。這樣才能滿足各種條件與環(huán)境的需求。

本發(fā)明光學(xué)薄膜不但具有穩(wěn)定、清晰、日夜兩視的光學(xué)特性，而且具有防鹽蝕、抗風(fēng)蝕、耐擦拭的優(yōu)良物理性能。其適用于大量民品車載與軍事海防光學(xué)產(chǎn)品中。本發(fā)明通過對光學(xué)膜層的設(shè)計，提升相機(jī)鏡頭、外置高端光學(xué)鏡頭、軍用探測與監(jiān)控光學(xué)系的耐環(huán)境性能與使用壽命。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種耐腐蝕高增透的日夜兩視光學(xué)薄膜，其能抗海水或鹽霧腐蝕、耐風(fēng)沙磨損、可見光與近紅外區(qū)高增透的日夜兩視特種光學(xué)薄膜。

為實現(xiàn)本發(fā)明的目的，采用如下技術(shù)方案：

一種耐腐蝕高增透的日夜兩視光學(xué)玻璃薄膜，依次包括基底層、相互交替的氧化鋯層和氧化硅層、氟化鎂層。

其中基底層為玻璃，與基底層相鄰的是氧化硅層，氟化鎂為所述光學(xué)薄膜的最外層。

其中氧化鋯層的厚度為10~90nm，氧化硅層的厚度為8-90nm，氟化鎂層的厚度為80-110nm。

其中所述的耐腐蝕高增透的日夜兩視光學(xué)薄膜除了基底層之外共有9±2層，這樣進(jìn)一步降低了增透膜的反射率。

其中所述的耐腐蝕高增透的日夜兩視光學(xué)薄膜除了基底層之外共有9層，依次為氧化硅層、氧化鋯層、氧化硅層、氧化鋯層、氧化硅層、氧化鋯層、氧化硅層、氧化鋯層和氟化鎂層。以氧化硅層為第一層算起，前兩次出現(xiàn)為厚層，后兩次為薄層；其中厚層厚度為60-90nm，薄層厚度為10-35nm；以氧化鋯為第二層算起，前兩次出現(xiàn)為薄層，后兩次為厚層；其中薄層厚度為10-30nm，厚層厚度為40-90nm。

其中所述的光學(xué)薄膜在400至800nm波段內(nèi)的單面反射率<1%。

所述的一種耐腐蝕高增透的日夜兩視光學(xué)薄膜的制備方法，是采用含有離子源的鍍膜機(jī)在真空狀態(tài)下進(jìn)行鍍膜，起始真空度為3.0*10^-3pa，溫度為200℃；離子源的加速電壓為1000v，屏極電壓為900v，中和電流為150a。

本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)比較具有以下優(yōu)點：

1.底膜采用全程高能離子輔助鍍膜工藝，使材料分子結(jié)合更致密。其改變了膜層的“孔洞結(jié)構(gòu)”為“柱狀結(jié)構(gòu)”，改變了和細(xì)化了分子結(jié)構(gòu)，提高了膜層的致密性，從而使膜層的吸水溫漂性控制在1nm以內(nèi)，膜的抗擦拭性能大大提升；

2.采用了氟化鎂做為膜層保護(hù)層，并采用離子技術(shù)輔助鍍膜，在提升膜層的抗鹽蝕性的同時又加強(qiáng)了最外層保護(hù)膜的硬度；

3.本發(fā)明光學(xué)薄膜以相互交替的氧化硅層和氧化鋯層、氟化鎂層組成的膜層，通過材料折射率以及材料本身的理化性質(zhì)的作用，從而達(dá)到在400nm-850nm波段的單面反射率小于2%；在420nm-800nm波段單面反射率小于1%；在440nm-680nm波段的單面反射率小于0.8%，具有可見光與近紅外寬帶高透的光學(xué)性能，實現(xiàn)了日夜兩視的功能；

4.本發(fā)明以相互交替的氧化硅層和氧化鋯層、氟化鎂層組成的膜層，其膜層材料穩(wěn)定，結(jié)合致密，抗鹽水腐蝕耐磨損性能好。

附圖說明

圖1為實施例1所得的光學(xué)玻璃薄膜樣品的結(jié)構(gòu)示意圖；1-氧化硅，2-氧化鋯，3-氧化硅，4-氧化鋯，5-氧化硅，6-氧化鋯，7-氧化硅，8-氧化鋯，9-氟化鎂。

圖2為實施例1所得的光學(xué)玻璃薄膜樣品的反射光譜圖。

具體實施方式

為進(jìn)一步公開而不是限制本發(fā)明，以下結(jié)合實例對本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。

成膜設(shè)備：采用光馳otfc-1300型鍍膜機(jī)，其主要包括膜厚控制儀、離子源、真空室和蒸發(fā)系統(tǒng)組成。膜厚控制系統(tǒng)分為光控和晶控兩部分，其中晶控采用了進(jìn)口的infcon控制儀，是利用石英晶體振蕩頻率變化來測量薄膜質(zhì)量厚度的。離子源采用中國科學(xué)院北京空間研究所研制的考夫曼離子源，通過調(diào)整屏極電壓和離子束流來控制離子能量，提高沉積薄膜的致密度，改善光學(xué)和機(jī)械性能。真空室靠機(jī)械泵和擴(kuò)散泵系統(tǒng)相互配合來獲得實驗要求的真空度，用熱電偶計對真空度進(jìn)行測定。

實施例1

所述的耐腐蝕高增透的日夜兩視光學(xué)玻璃薄膜除了基底層之外共有9層，依次為氧化硅層、氧化鋯層、氧化硅層、氧化鋯層、氧化硅層、氧化鋯層、氧化硅層、氧化鋯層和氟化鎂層。其中除了基底層為玻璃，氧化硅為第一層，厚度為61.51nm；第二層為氧化鋯，厚度為9.00nm；第三層為氧化硅，厚度為85.53nm；第四層為氧化鋯，厚度為24.62nm；第五層為氧化硅，厚度為34.94nm；第六層為氧化鋯，厚度為88.11nm；第七層為11.24nm；第八層為氧化鋯，厚度為40.76nm；第九層為氟化鎂，厚度為105.34nm。

上述光學(xué)薄膜的制備方法為：起始真空度為3.0*10^-3pa，溫度為200℃；離子源的加速電壓為1000v，屏極電壓為900v，中和電流為150a；氟化鎂層的離子源參數(shù)為：離子源的加速電壓為320v，屏極電壓為320v，中和電流為150a。

實施例中未提及的其它技術(shù)參照現(xiàn)有技術(shù)。

實施例2

所述的耐腐蝕高增透的日夜兩視光學(xué)玻璃薄膜除了基底層之外共有11層，依次為氧化硅層、氧化鋯層、氧化硅層、氧化鋯層、氧化硅層、氧化鋯層、氧化硅層、氧化鋯層、氧化鋯層、氧化硅層和氟化鎂層。其中除了基底層為玻璃，氧化硅為第一層，厚度為61.51nm；第二層為氧化鋯，厚度為9.00nm；第三層為氧化硅，厚度為85.53nm；第四層為氧化鋯，厚度為24.62nm；第五層為氧化硅，厚度為34.94nm；第六層為氧化鋯，厚度為88.11nm；第七層為氧化硅11.24nm；第八層為氧化鋯，厚度為40.76nm；第九層為氧化硅，厚度43.6nm；第十層為氧化鋯，厚度62.3nm；第十一層為氟化鎂，厚度為105.34nm。

上述光學(xué)薄膜的制備方法為：起始真空度為3.0*10^-3pa，溫度為200℃；離子源的加速電壓為1000v，屏極電壓為900v，中和電流為150a（氟化鎂的離子源參數(shù)為：離子源的加速電壓為260v，屏極電壓為300v，中和電流為150a）。實施例中未提及的其它技術(shù)參照現(xiàn)有技術(shù)。

實施例3

所述的耐腐蝕高增透的日夜兩視光學(xué)玻璃薄膜除了基底層之外共有7層，依次為氧化硅層、氧化鋯層、氧化硅層、氧化鋯層、氧化硅層、氧化鋯層、第七層為氟化鎂層。其中除了基底層為玻璃，氧化硅為第一層，厚度為35.2nm；第二層為氧化鋯，厚度為19.55nm；第三層為氧化硅，厚度為37.43nm；第四層為氧化鋯，厚度為64.62nm；第五層為氧化硅，厚度為9.94nm；第六層為氧化鋯，厚度為53.11nm；

上述層的制備方法為：起始真空度為3.0*10^-3pa，溫度為200℃；離子源的加速電壓為1000v，屏極電壓為900v，中和電流為150a。

第七層氟化鎂為97.24nm，其離子源加工條件為：離子源的加速電壓為300v，屏極電壓為300v，中和電流為160a。

實施例中未提及的其它技術(shù)參照現(xiàn)有技術(shù)。

實施例4

上述各個實施例所得的光學(xué)玻璃薄膜的性能測試如下：

對各個實施例的光學(xué)薄膜光學(xué)性能測試：實施例1-3所得的光學(xué)薄膜在400nm-850nm波段的單面反射率均小于2%；在420nm-800nm波段單面反射率均小于1%；在440nm-680nm波段的單面反射率均小于0.8%。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，凡依本發(fā)明申請專利范圍所做的均等變化與修飾，皆應(yīng)屬本發(fā)明的涵蓋范圍。