技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)方面涉及一種制品(200)，所述制品(200)包含設(shè)置于基材(110)上的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)(220)，所述制品(200)可包含經(jīng)過強(qiáng)化或未經(jīng)強(qiáng)化的基材，所述基材可以是無定形基材或晶體基材，以使所述制品(200)在沒有設(shè)置于基材(110)上的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)(220)的條件下能夠展現(xiàn)出耐劃痕性并保持與基材(110)相同或改善的光學(xué)性質(zhì)。在一種或多種實(shí)施方式中，所述制品(200)在可見光譜內(nèi)(例如380nm～780nm)展現(xiàn)出85％或更高的平均透射率。所述光學(xué)膜結(jié)構(gòu)(220)的實(shí)施方式包含含鋁的氧化物、含鋁的氮氧化物、含鋁的氮化物(例如AlN)和它們的組合。本發(fā)明的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)還包含透明介電材料，所述透明介電材料包含氧化物，例如氧化硅、氧化鍺、氧化鋁和它們的組合。本發(fā)明還提供了這種制品的形成方法。

技術(shù)研發(fā)人員：K·W·科齊三世;C·A·保爾森;J·J·普萊斯
受保護(hù)的技術(shù)使用者：康寧股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2014.09.12
技術(shù)公布日：2017.09.08