一種防污柔光大理石瓷磚的面釉釉料，屬于瓷磚制備技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

柔光瓷磚，又稱柔光雅面瓷磚，現(xiàn)有的制造工藝主要有以下幾種：一是通過噴釉柜或甩釉柜以濕式方式把透明的水晶粒子均勻平鋪在陶瓷磚表面上，其優(yōu)點(diǎn)是與坯體的結(jié)合性好，缺點(diǎn)是干粒流動(dòng)性差，易堵噴槍眼，生產(chǎn)不好控制，平整度較差，硬度較低；二是通過淋釉柜以濕式方式把透明的水晶粒子均勻平鋪在陶瓷磚表面上，優(yōu)點(diǎn)是燒制成的瓷磚平整度較好，缺點(diǎn)是硬度較低，干粒流動(dòng)性差，易沉淀，生產(chǎn)不好控制；三是把干粒制成花釉通過絲網(wǎng)印花機(jī)以印花的方式印在磚面上，雖然，其優(yōu)點(diǎn)是干粒分布均勻，硬度高，平整度較好，但是，由于花釉是釉與水晶粒子混合而成的，受花釉自身的性質(zhì)所決定，而且網(wǎng)版破損率大，成本高。現(xiàn)有的釉料中普遍采用水晶粒子才能實(shí)現(xiàn)柔光效果，導(dǎo)致柔光瓷磚的成品率較低、生成成本高，或硬度較低、平整度較差。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是：克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種防污性、耐磨性好，所得釉層視覺和觸覺高度仿真的防污柔光大理石瓷磚的面釉釉料。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：該防污柔光大理石瓷磚的面釉釉料，其特征在于，重量份組成包括：長石25~30份，晶彩熔塊15~20份，剛玉3~5份，高嶺土7~10份，氧化鋅8~10份，硅灰石8~11份，氧化鋇1~3份，石英10~15份。

本發(fā)明的釉料在燒制后不但硬度高，而且會(huì)自然呈現(xiàn)出柔光效果，其表面的粗糙度也會(huì)出現(xiàn)天然大理石的觸感，這種燒制后自然呈現(xiàn)的柔光效果和大理石觸感在柔拋后會(huì)出呈現(xiàn)高度仿真的打磨大理石的視覺和觸覺，并表現(xiàn)出更好的排污性。

優(yōu)選的，所述的重量份組成包括：長石27~28份，晶彩熔塊17~18份，剛玉4份，高嶺土8份，氧化鋅9份，硅灰石9~10份，氧化鋇2份，石英12~14份。本發(fā)明優(yōu)選的釉料在燒制后能夠與大理石相似度更高的觸感。

優(yōu)選的，所述的晶彩熔塊的質(zhì)量百分比組成為氧化硅50%~52%，氧化鋁19%~21%，氧化鉀1.5%~2.5%，氧化鈉0.5%~1.5%，氧化鈣12%~14%，氧化鎂3.5%~4.5%，氧化氟2.7%~3.3%，氧化磷0.8%~1.2%，氧化硼4%~6%。本發(fā)明給出晶彩熔塊的組成對本發(fā)明的配方適應(yīng)性最好，能夠使坯體和釉層的發(fā)色效果更好，兩者的大理石紋理更加匹配。

更優(yōu)選的，所述的晶彩熔塊的質(zhì)量百分比組成為：氧化硅51%，氧化鋁20%，氧化鉀2%，氧化鈉1%，氧化鈣13%，氧化鎂4%，氧化氟3%，氧化磷1%，氧化硼5%。能夠達(dá)到本發(fā)明的最佳效果。

優(yōu)選的，釉料的細(xì)度為800~900目。釉料顆粒大小能夠影響燒成后的表面粗糙度，優(yōu)選的釉料細(xì)度在油料燒成后的表面粗糙度與大理石完全一致。

優(yōu)選的，所述的硅灰石為低溫三斜硅灰石。優(yōu)選的硅灰石不但能夠使燒成后釉層的硬度更大，更耐磨，而且使得釉層具有一種玉質(zhì)溫潤感，觸感更加舒適。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的一種防污柔光大理石瓷磚的面釉釉料所具有的有益效果是：本發(fā)明的釉料制得瓷磚釉層的柔光效果結(jié)合亮光類瓷磚的高調(diào)明艷裝飾和啞光類瓷磚的低調(diào)內(nèi)斂搭配效果，產(chǎn)品的反光率與天然大理石一直，從而達(dá)到人體舒適的視覺感受以及無光污染的空間裝飾效果。釉層的質(zhì)感更柔和、光感細(xì)膩潤澤，從而解決了亮光瓷磚產(chǎn)品的光污染問題。從而營造出視覺舒適且具有藝術(shù)情調(diào)的溫暖空間，以更適合人居環(huán)境的“柔和空間”理念。釉層耐磨且不易刮花，同時(shí)也解決了仿古磚容易藏污的問題，清潔打理更輕松。相對于全拋釉、微晶石出現(xiàn)劃痕很容易顯現(xiàn)出來，本柔光磚的劃痕不容易看出。總之，本發(fā)明能達(dá)到目測、觸感與天然打磨大理石完全一致，并且防污性、耐磨性、發(fā)色效果、防開裂等均優(yōu)于天然大理石。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合具體實(shí)施例對本發(fā)明做進(jìn)一步說明，其中實(shí)施例1為最佳實(shí)施例。

實(shí)施例1

本實(shí)施例中所用晶彩熔塊的組成均為氧化硅51%，氧化鋁20%，氧化鉀2%，氧化鈉1%，氧化鈣13%，氧化鎂4%，氧化氟3%，氧化磷1%，氧化硼5%；

按重量份組成長石32份，晶彩熔塊4份，葉臘石12.5份，白泥30份，高鋁石18份將坯體原料混合均勻，然后送入球磨機(jī)中進(jìn)行球磨，然后過篩除鐵，細(xì)度達(dá)到250目；隨后經(jīng)過噴霧制粉工序形成粉料，之后經(jīng)過壓力為300bar的壓機(jī)進(jìn)行壓制成型；

成型后放在大生產(chǎn)輸送線上，先淋底釉；面釉噴墨打印為大理石圖案，釉料的重量份組成為：長石27份，晶彩熔塊17份，剛玉4份，高嶺土8份，氧化鋅9份，硅灰石10份，氧化鋇2份，石英13份；

之后進(jìn)行燒成，最高溫度為1120℃，燒成時(shí)間為60min；

釉燒后進(jìn)行柔拋即得，柔拋的前半程采用柔拋工藝，柔拋工藝所用的磨料的細(xì)度為4200目，最大切削厚度為0.02mm；柔拋的后半程采用靠形拋光工藝；

通過檢測，該實(shí)施例制備的柔光釉面磚的釉面光澤度為60°，表面粗糙度ra值為0.44μm，具有較好的柔光效果；碳素筆畫痕利用棉布毛巾能實(shí)現(xiàn)無水擦凈。

實(shí)施例2

本實(shí)施例中所用晶彩熔塊的組成均為氧化硅51%，氧化鋁20%，氧化鉀2%，氧化鈉1%，氧化鈣13%，氧化鎂3.5%，氧化氟3.3%，氧化磷1.2%，氧化硼5%；

按重量份組成長石32份，晶彩熔塊4份，葉臘石13份，白泥28份，高鋁石19份將坯體原料混合均勻，然后送入球磨機(jī)中進(jìn)行球磨，然后過篩除鐵，細(xì)度達(dá)到250目；隨后經(jīng)過噴霧制粉工序形成粉料，之后經(jīng)過壓力為300bar的壓機(jī)進(jìn)行壓制成型；

成型后放在大生產(chǎn)輸送線上，先淋底釉；面釉噴墨打印為大理石圖案，釉料的重量份組成為：長石27份，晶彩熔塊18份，剛玉4份，高嶺土8份，氧化鋅9份，硅灰石10份，氧化鋇2份，石英12份；

之后進(jìn)行燒成，最高溫度為1120℃，燒成時(shí)間為60min；

釉燒后進(jìn)行柔拋即得，柔拋的前半程采用柔拋工藝，柔拋工藝所用的磨料的細(xì)度為4000目，最大切削厚度為0.01mm；柔拋的后半程采用靠形拋光工藝；

通過檢測，該實(shí)施例制備的柔光釉面磚的釉面光澤度為58°，表面粗糙度ra值為0.42μm，具有較好的柔光效果；碳素筆畫痕利用棉布毛巾能實(shí)現(xiàn)無水擦凈。

實(shí)施例3

本實(shí)施例中所用晶彩熔塊的組成均為氧化硅51%，氧化鋁20%，氧化鉀2%，氧化鈉1%，氧化鈣13%，氧化鎂4.5%，氧化氟2.7%，氧化磷0.8，氧化硼5%；

按重量份組成長石33份，晶彩熔塊4份，葉臘石12份，白泥32份，高鋁石17份將坯體原料混合均勻，然后送入球磨機(jī)中進(jìn)行球磨，然后過篩除鐵，細(xì)度達(dá)到250目；隨后經(jīng)過噴霧制粉工序形成粉料，之后經(jīng)過壓力為300bar的壓機(jī)進(jìn)行壓制成型；

成型后放在大生產(chǎn)輸送線上，先淋底釉；面釉噴墨打印為大理石圖案，釉料的重量份組成為：長石28份，晶彩熔塊17份，剛玉4份，高嶺土8份，氧化鋅9份，硅灰石9份，氧化鋇2份，石英14份；

之后進(jìn)行燒成，最高溫度為1120℃，燒成時(shí)間為60min；

釉燒后進(jìn)行柔拋即得，柔拋的前半程采用柔拋工藝，柔拋工藝所用的磨料的細(xì)度為4500目，細(xì)度為4000~4500目最大切削厚度為0.03mm；柔拋的后半程采用靠形拋光工藝；

通過檢測，該實(shí)施例制備的柔光釉面磚的釉面光澤度為55°，表面粗糙度ra值為0.38μm，具有較好的柔光效果；碳素筆畫痕利用棉布毛巾能實(shí)現(xiàn)無水擦凈。

實(shí)施例4

本實(shí)施例中所用晶彩熔塊的組成均為氧化硅50%，氧化鋁21%，氧化鉀1.5%，氧化鈉1.5%，氧化鈣12%，氧化鎂4.5%，氧化氟2.7%，氧化磷0.8%，氧化硼6%；

按重量份組成長石30份，晶彩熔塊5份，葉臘石10份，白泥35份，高鋁石15份將坯體原料混合均勻，然后送入球磨機(jī)中進(jìn)行球磨，然后過篩除鐵，細(xì)度達(dá)到250目；隨后經(jīng)過噴霧制粉工序形成粉料，之后經(jīng)過壓力為300bar的壓機(jī)進(jìn)行壓制成型；

成型后放在大生產(chǎn)輸送線上，先淋底釉；面釉噴墨打印為大理石圖案，釉料的重量份組成為：長石30份，晶彩熔塊15份，剛玉5份，高嶺土7份，氧化鋅10份，硅灰石8份，氧化鋇3份，石英10份；

釉燒后進(jìn)行柔拋即得，柔拋的前半程采用柔拋工藝，柔拋工藝所用的磨料的細(xì)度為3000目，最大切削厚度為0.1mm；柔拋的后半程采用靠形拋光工藝；

通過檢測，該實(shí)施例制備的柔光釉面磚的釉面光澤度為67°，表面粗糙度ra值為0.32μm，具有較好的柔光效果；碳素筆畫痕利用棉布毛巾能實(shí)現(xiàn)無水擦凈。

實(shí)施例5

本實(shí)施例中所用晶彩熔塊的組成均為氧化硅52%，氧化鋁19%，氧化鉀2.5%，氧化鈉0.5%，氧化鈣14%，氧化鎂3.5%，氧化氟3.3%，氧化磷1.2%，氧化硼4%；

按重量份組成長石35份，晶彩熔塊3份，葉臘石15份，白泥25份，高鋁石20份將坯體原料混合均勻，然后送入球磨機(jī)中進(jìn)行球磨，然后過篩除鐵，細(xì)度達(dá)到250目；隨后經(jīng)過噴霧制粉工序形成粉料，之后經(jīng)過壓力為300bar的壓機(jī)進(jìn)行壓制成型；

成型后放在大生產(chǎn)輸送線上，先淋底釉；面釉噴墨打印為大理石圖案，釉料的重量份組成為：長石25份，晶彩熔塊20份，剛玉3份，高嶺土10份，氧化鋅8份，硅灰石11份，氧化鋇1份，石英15份；

釉燒后進(jìn)行柔拋即得，柔拋的前半程采用柔拋工藝，柔拋工藝所用的磨料的細(xì)度為5000目，最大切削厚度為0.005mm；柔拋步驟的后半程采用靠形拋光工藝；

通過檢測，該實(shí)施例制備的柔光釉面磚的釉面光澤度為53°，表面粗糙度ra值為48μm，具有較好的柔光效果；碳素筆畫痕利用棉布毛巾能實(shí)現(xiàn)無水擦凈。

對比例1

本實(shí)施例中所用晶彩熔塊的組成均為氧化硅51%，氧化鋁20%，氧化鉀2%，氧化鈉1%，氧化鈣13%，氧化鎂4%，氧化氟3%，氧化磷1%，氧化硼5%；

按重量份組成長石32份，晶彩熔塊4份，葉臘石12.5份，白泥30份，高鋁石18份將坯體原料混合均勻，然后送入球磨機(jī)中進(jìn)行球磨，然后過篩除鐵，細(xì)度達(dá)到250目；隨后經(jīng)過噴霧制粉工序形成粉料，之后經(jīng)過壓力為300bar的壓機(jī)進(jìn)行壓制成型；

成型后放在大生產(chǎn)輸送線上，先淋底釉；面釉噴墨打印為大理石圖案，釉料的重量份組成為：石英27份，晶彩熔塊20份，剛玉8份，高嶺土4份，氧化鋅12份，硅灰石7份，氧化鋇2份，長石13份；

之后進(jìn)行燒成，最高溫度為1120℃，燒成時(shí)間為60min；

釉燒后進(jìn)行柔拋即得，柔拋的前半程采用柔拋工藝，柔拋工藝所用的磨料的細(xì)度為4200目，最大切削厚度為0.02mm；柔拋的后半程采用靠形拋光工藝；

通過檢測，該對比例制備的柔光釉面磚的釉面光澤度為87°，表面粗糙度ra值為0.12μm，具有較強(qiáng)的亮光效果。

以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非是對本發(fā)明作其它形式的限制，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員可能利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容加以變更或改型為等同變化的等效實(shí)施例。但是凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與改型，仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的保護(hù)范圍。