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氧化銅鉻尖晶石、及其樹脂組合物、樹脂成形品、氧化銅鉻尖晶石的制造方法與流程

文檔序號:40548923發(fā)布日期:2025-01-03 11:08閱讀:5來源:國知局
氧化銅鉻尖晶石、及其樹脂組合物、樹脂成形品、氧化銅鉻尖晶石的制造方法與流程

本發(fā)明涉及一種包含鉬的氧化銅鉻尖晶石、及其制造方法。進而,涉及一種含有所述氧化銅鉻尖晶石、熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂、無機填充劑的樹脂組合物及其成形品。


背景技術:

1、近年來,在電子學、機械電子學的領域中正在推進設備的小型化、輕量化、多功能化。特別是在汽車領域中,推進連接化、服務化、自動化,傳感器或模塊增加,另一方面,面向電動化要求抑制車重,強烈要求機械零件與電氣電路零件的輕量小型化。作為能夠應對于此的技術,與成形電路零件(模塑互連設備(mid:molded?interconnect?device))相關的技術受到關注。所謂mid,是在樹脂成形品成形電路、電極等的技術,通過電路、電極等與樹脂成形品進行一體化,能夠?qū)崿F(xiàn)零件的小型化、輕量化。

2、mid中有:將樹脂成形品加以表面粗糙化來進行鍍敷的一次成形法、對電路形成用樹脂與絕緣部形成用樹脂分別進行兩次成形并將其一體化的兩次成形法、在樹脂成形品中使用沖模直接形成電路等的熱沖壓法等。

3、這些中,就可削減制造成本、能夠在短期間內(nèi)制作超微細的電路等觀點而言,作為一次成形法的一種的激光直接成型(laser?direct?structuring,lds)技術特別受到關注。此外,所謂lds技術,是對包含規(guī)定的添加劑的樹脂成形品照射激光時,照射了激光的部分進行表面粗糙化及添加劑進行活化,能夠在激光照射部分形成牢固的鍍敷層的技術。

4、因此,正在推進可適用于lds技術的添加劑的研究。作為添加劑,一般而言使用尖晶石型的金屬氧化物(專利文獻1、專利文獻2)。特別是就與鍍銅圖案的密接性的觀點而言,可靈活利用包含銅的尖晶石型的金屬氧化物。

5、在專利文獻1中示出一種導體軌道結構物,含有:包含熱穩(wěn)定性高且在酸性或堿性的水性金屬化電解液中具有耐久性的尖晶石結構的高氧化物、或簡單的d-金屬氧化物或其混合物、或與尖晶石結構類似的混合金屬氧化物。

6、在專利文獻2中示出一種lds用熱硬化性樹脂組合物,包含非導電性金屬化合物,非導電性金屬化合物包含選自由尖晶石型金屬氧化物、具有從周期表第3族~第12族中選擇且所述族鄰接的兩種以上的過渡金屬元素的金屬氧化物、及含錫氧化物所組成的群組中的一種以上,且通過活性能量線的照射而形成金屬核。

7、然而,在包含這些金屬氧化物的樹脂組合物中,存在鍍敷后的金屬配線有時從成形品剝落的問題。作為其因素,可列舉金屬氧化物的粒子形狀或粒子徑的控制不充分而無法在樹脂中均勻地分散、成為鍍敷析出的核的金屬氧化物與鍍敷金屬的結合力弱等。

8、在專利文獻3中,作為銅-鉻的黑色劑的制造方法,示出如下的銅-鉻的黑色劑的制造方法:將氧化鉻與氧化銅、氧化鋅、氧化鉬以52%~75%:22%~44%:1%~6%:0.1%~4%的比率混合,在820℃~960℃下固相燒結1小時~3小時,并通過球磨機粉碎將d99調(diào)整為5μm~5.5μm。然而,所獲得的粒子由于粉碎而結晶性降低,另外,粒子徑依然大,不適于lds用添加劑。

9、在非專利文獻1中,作為cucr2o4粒子的制造方法,示出cucr2o4尖晶石納米粒子的制造方法,其具有如下工序:將硝酸銅三水合物與硝酸鉻九水合物在純水中攪拌,加入氨溶液將ph調(diào)整為8后,添加ctab乙醇溶液與肼來制備成使cu:cr:ctb:h2o:肼的摩爾比為1:2:0.75:250:1的工序;在高壓釜容器中在180℃下以常壓對所述溶液進行24小時的水熱處理的工序;以及將所獲得的固體生成物在120℃下干燥后,在大氣中在750℃下煅燒6小時的工序。然而,所獲得的粒子為100nm以下的微小粒子,作為lds用添加劑使用時存在過小的課題。

10、現(xiàn)有技術文獻

11、專利文獻

12、專利文獻1:日本專利特表2004-534408號公報

13、專利文獻2:國際公開第2017/199639號公報

14、專利文獻3:中國專利申請公開第110951281號公報

15、非專利文獻

16、非專利文獻1:《催化劑科學與技術(catal.sci.technol.)》,2014,4,4232-4241


技術實現(xiàn)思路

1、發(fā)明所要解決的問題

2、因此,本發(fā)明是為解決所述那樣的問題點而完成,在于提供一種利用簡便的方法控制粒子徑的氧化銅鉻尖晶石及其制造方法。

3、解決問題的技術手段

4、本發(fā)明人等人為解決所述課題而進行努力研究,發(fā)現(xiàn)通過使用鉬化合物作為助熔劑,能夠容易地控制氧化銅鉻尖晶石的粒子徑,能夠制造包含鉬的氧化銅鉻尖晶石,從而完成了本發(fā)明。

5、即,本發(fā)明具有以下的形態(tài)。

6、(1)一種氧化銅鉻尖晶石,其特征在于,包含鉬,d50為2.0μm以下。

7、(2)根據(jù)所述(1)所述的氧化銅鉻尖晶石,其中以通過對所述氧化銅鉻尖晶石進行x射線熒光(x-ray?fluorescence,xrf)分析而求出的、相對于所述氧化銅鉻尖晶石100質(zhì)量%而言的moo3換算計的含有率(mo1)計,所述氧化銅鉻尖晶石中的鉬含量為0.05質(zhì)量%~5.0質(zhì)量%。

8、(3)根據(jù)所述(1)或(2)所述的氧化銅鉻尖晶石,其中以通過對所述氧化銅鉻尖晶石進行x射線光電子分光法(x-ray?photoelectron?spectroscopy,xps)表面分析而求出的、相對于所述氧化銅鉻尖晶石的表層100質(zhì)量%而言的moo3換算計的含有率(mo2)計,所述氧化銅鉻尖晶石的表層中的鉬含量為0.05質(zhì)量%~15.0質(zhì)量%。

9、(4)根據(jù)所述(1)至(3)中任一項所述的氧化銅鉻尖晶石,其中對于所述氧化銅鉻尖晶石的表層100質(zhì)量%而言的moo3換算計的含有率(mo2)相對于對于所述氧化銅鉻尖晶石100質(zhì)量%而言的moo3換算計的含有率(mo1)的鉬的表層偏向存在比(mo2/mo1)為2.0以上。

10、(5)根據(jù)所述(1)至(3)中任一項所述的氧化銅鉻尖晶石,其中平均粒子徑為0.1μm~10μm。

11、(6)根據(jù)所述(1)至(5)中任一項所述的氧化銅鉻尖晶石,其中利用布厄特(brunauer-emmett-teller,bet)法測定的比表面積為0.01m2/g~10m2/g。

12、(7)一種氧化銅鉻尖晶石的制造方法,其中所述氧化銅鉻尖晶石是根據(jù)所述(1)至(6)中任一項所述的氧化銅鉻尖晶石,所述氧化銅鉻尖晶石的制造方法包括在鉬化合物的存在下對銅化合物、及鉻化合物進行煅燒。

13、(8)根據(jù)所述(7)所述的氧化銅鉻尖晶石的制造方法,其中所述鉬化合物為三氧化鉬。

14、(9)一種樹脂組合物,含有:根據(jù)所述(1)至(7)中任一項所述的氧化銅鉻尖晶石;

15、熱塑性樹脂、或熱硬化性樹脂;以及

16、無機填充劑。

17、(10)一種樹脂成形品,是將根據(jù)所述(9)所述的樹脂組合物成形而成。

18、發(fā)明的效果

19、通過本發(fā)明,可提供粒子徑得到控制的氧化銅鉻尖晶石。

20、另外,通過本發(fā)明,可提供簡便且生產(chǎn)性高的所述氧化銅鉻尖晶石的制造方法。

21、另外,通過本發(fā)明,可提供包含所述氧化銅鉻尖晶石的樹脂組合物、及其成形品。

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