1.一種氧化鋯復(fù)合燒結(jié)體，其包含zro2、hfo2、能夠抑制氧化鋯的相變的穩(wěn)定劑、和nb2o5及/或ta2o5，
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氧化鋯復(fù)合燒結(jié)體，其中，前述第i族元素的含有率相對(duì)于zro2、hfo2、前述穩(wěn)定劑、nb2o5及ta2o5的合計(jì)100摩爾％為大于0摩爾％且為3摩爾％以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氧化鋯復(fù)合燒結(jié)體，其中，前述第i族元素包含選自li、na和k中的至少一種元素。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的氧化鋯復(fù)合燒結(jié)體，其中，將前述穩(wěn)定劑的含有率設(shè)為a摩爾％、nb2o5及ta2o5的合計(jì)含有率設(shè)為b摩爾％時(shí)，a/b為0.9以上且3以下。
5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的氧化鋯復(fù)合燒結(jié)體，其中，前述穩(wěn)定劑包含y2o3及/或ceo2。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的氧化鋯復(fù)合燒結(jié)體，其中，還包含氧化鋯強(qiáng)化劑，前述氧化鋯強(qiáng)化劑的含有率相對(duì)于zro2、hfo2、前述穩(wěn)定劑、nb2o5及ta2o5的合計(jì)100質(zhì)量％為大于0質(zhì)量％且為5.0質(zhì)量％以下。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氧化鋯復(fù)合燒結(jié)體，其中，前述氧化鋯強(qiáng)化劑包含tio2及/或al2o3。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氧化鋯復(fù)合燒結(jié)體，其中，前述氧化鋯強(qiáng)化劑包含tio2，tio2的含有率為0.6～3.7質(zhì)量％。
9.根據(jù)權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)所述的氧化鋯復(fù)合燒結(jié)體，其中，前述氧化鋯復(fù)合燒結(jié)體的平均晶粒度為0.5～5.0μm。
10.權(quán)利要求1所述的氧化鋯復(fù)合燒結(jié)體的制造方法，其包括：
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氧化鋯復(fù)合燒結(jié)體的制造方法，其中，前述原料組合物中所含的前述第i族元素的原料化合物為前述第i族元素的氫氧化物及/或鹽，
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的氧化鋯復(fù)合燒結(jié)體的制造方法，其中，在前述原料組合物中，前述穩(wěn)定劑包含對(duì)于zro2及hfo2不固溶的穩(wěn)定劑。
13.根據(jù)權(quán)利要求10～12中任一項(xiàng)所述的氧化鋯復(fù)合燒結(jié)體的制造方法，其中，在將前述成形體燒結(jié)的工序中，包括：
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的氧化鋯復(fù)合燒結(jié)體的制造方法，其中，包括在進(jìn)行前述hip處理的工序后，在1400℃以下在大氣中或氧過量氣氛下進(jìn)行熱處理的工序。