本發(fā)明涉及一種用于照射牙科物體的曝光裝置和一種照射牙科物體的方法。

背景技術(shù)：

1、多色玻璃和玻璃陶瓷可以通過曝光以及熱處理來著色，諸如石英玻璃、石英玻璃陶瓷、鋰鋁硅酸鹽玻璃、鋰鋁硅酸鹽玻璃陶瓷、鋰硅酸鹽玻璃或鋰硅酸鹽玻璃陶瓷。曝光通常借助于uv輻射進行。曝光后，不同的顏色效果主要借助于溫度處理產(chǎn)生。

2、然而，曝光于uv輻射對玻璃陶瓷的穿透深度較低。uv激光器、uv?led和uv光學(xué)器件在技術(shù)上復(fù)雜且具有大的尺寸。

3、本發(fā)明的技術(shù)任務(wù)是高效且較少的技術(shù)工作量地對牙科物體進行著色。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、該任務(wù)通過本文的主題實現(xiàn)。

2、根據(jù)第一方面，技術(shù)任務(wù)通過用于照射牙科物體的曝光裝置來解決，該曝光裝置包括用于接收牙科物體的腔室；以及用于將牙科物體曝光于波長大于350nm且功率密度大于10w/cm2的輻射源。牙科物體可以在腔室內(nèi)的指定位置處曝光于波長大于350nm且功率密度大于10w/cm2的輻射。功率密度還可以超過100w/cm2或1kw/cm2。這些功率密度可用于激發(fā)牙科物體內(nèi)的多光子過程。

3、曝光裝置實現(xiàn)了技術(shù)優(yōu)勢，即在對牙科物體著色時，輻射進入材料的穿透深度更大。這意味著牙科物體的整個體積都是可曝光和可激活的。如果使用大于350nm的波長，則可以使用更高效的裝置和光學(xué)器件，并且可以實現(xiàn)更短的曝光時間。

4、在曝光裝置的技術(shù)上有利的實施方式中，輻射源被配置為將牙科物體曝光于大于700nm的波長。這提供了技術(shù)優(yōu)勢，例如，可以實現(xiàn)甚至更大的穿透深度。

5、在曝光裝置的另一技術(shù)上有利的實施方式中，輻射源被配置為發(fā)射功率大于1w的輻射。例如，激光可以用10,000個曝光點掃描表面。在每個曝光點的曝光時間為0.1秒的情況下，總曝光時間為1000秒。在這種情況下，1w的激光輸出功率就足夠了。這提供了技術(shù)優(yōu)勢，例如，可以有效地照射牙科物體。

6、在曝光裝置的另一技術(shù)上有利的實施方式中，輻射源由激光器、發(fā)光二極管或汞蒸氣燈形成。這提供了技術(shù)優(yōu)勢，例如，可以高效地產(chǎn)生用于照射牙科物體的輻射。

7、在曝光裝置的另一技術(shù)上有利的實施方式中，激光器是ti-藍寶石激光器或nd-yag激光器。這提供了技術(shù)優(yōu)勢，例如，可以容易地產(chǎn)生功率密度并且可以無損耗地輻照到牙科物體上。

8、在曝光裝置的另一技術(shù)上有利的實施方式中，輻射源被配置為發(fā)射波長范圍在350nm至1800nm之間的輻射、優(yōu)選在350nm至1500nm之間、特別優(yōu)選在350nm至1100nm之間的輻射。這提供了技術(shù)優(yōu)勢，例如，可以有效地對牙科物體進行著色。

9、在曝光裝置的另一技術(shù)上有利的實施方式中，曝光裝置包括用于調(diào)節(jié)輻射源的輻射強度的強度調(diào)節(jié)裝置。這提供了技術(shù)優(yōu)勢，例如，可以根據(jù)所使用的材料來設(shè)置曝光強度。

10、在曝光裝置的另一技術(shù)上有利的實施方式中，輻射源的最大和/或平均輻射強度為100w或300w。在激光的情況下，平均輻射強度可以在多個激光脈沖上取平均值。在發(fā)光二極管或汞蒸氣燈的情況下，可以隨時間連續(xù)地確定平均輻射強度。這提供了技術(shù)優(yōu)勢，例如，可以防止牙科物體的過度曝光。

11、在曝光裝置的另一技術(shù)上有利的實施方式中，曝光裝置包括用于激活輻射源持續(xù)預(yù)定時間段的定時器裝置。這提供了技術(shù)優(yōu)勢，例如，可以將預(yù)定的單位面積能量輻照到牙科物體上。

12、根據(jù)第二方面，該技術(shù)任務(wù)通過一種照射牙科物體的方法來解決，該方法包括將牙科物體曝光于大于350nm的波長和小于10w/cm2的功率密度的步驟。該方法實現(xiàn)了與根據(jù)第一方面的曝光裝置相同的技術(shù)優(yōu)勢。

13、在該方法的技術(shù)上有利的實施方式中，波長大于500或700nm。這也提供了技術(shù)優(yōu)勢，例如，可以實現(xiàn)更大的穿透深度。

14、在該方法的另一技術(shù)上有利的實施方式中，輻射的功率大于1w。這也提供了技術(shù)優(yōu)勢，例如，可以有效地照射牙科物體。

15、在該方法的另一技術(shù)上有利的實施方式中，輻射發(fā)射的波長范圍在350nm和1800nm之間、優(yōu)選在350nm和1500nm之間、特別優(yōu)選在350nm和1100nm之間。也可以通過熱處理來實現(xiàn)著色。這提供了技術(shù)優(yōu)勢，例如，可以有效地對牙科物體進行著色或曝光。

16、在該方法的另一技術(shù)上有利的實施方式中，曝光牙科物體持續(xù)預(yù)定時間段。這提供了技術(shù)優(yōu)勢，例如，可以將預(yù)定的單位面積能量輻照到牙科物體上。

17、根據(jù)第三方面，該技術(shù)任務(wù)通過曝光系統(tǒng)解決，該曝光系統(tǒng)包括牙科物體和根據(jù)第一方面的曝光裝置，該牙科物體包括多色玻璃和/或多色玻璃陶瓷。曝光系統(tǒng)實現(xiàn)了與根據(jù)第一方面的曝光裝置相同的技術(shù)優(yōu)勢。

技術(shù)特征：

1.一種用于照射牙科物體的曝光裝置，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其中，所述輻射源配置為將所述牙科物體曝光于大于500nm或700nm的波長。

3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的曝光裝置，其中，所述輻射源配置為發(fā)射功率大于1w的輻射。

4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的曝光裝置，其中，所述輻射源由激光器、發(fā)光二極管或汞蒸氣燈形成。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光裝置，其中，所述激光器是ti-藍寶石激光器或nd-yag激光器。

6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的曝光裝置，其中，所述輻射源配置為發(fā)射波長范圍在350nm至1800nm之間、優(yōu)選在350nm至1500nm之間、特別優(yōu)選在350至1100nm之間的輻射。

7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的曝光裝置，其中，所述曝光裝置包括用于調(diào)節(jié)所述輻射源的輻射強度的強度調(diào)節(jié)裝置。

8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的曝光裝置，其中，所述輻射源的最大和/或平均輻射強度為100w或300w。

9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的曝光裝置，其中，所述曝光裝置包括用于激活所述輻射源預(yù)定時間段的定時器裝置。

10.一種照射牙科物體的方法，包括以下步驟：

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，所述波長大于700nm。

12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的方法，其中，輻射的功率大于1w。

13.根據(jù)權(quán)利要求10至12中任一項所述的方法，其中，輻射發(fā)射的波長范圍在350nm至1800nm之間、優(yōu)選350nm至1500nm之間、特別優(yōu)選350nm至1100nm之間。

14.根據(jù)權(quán)利要求10至13中任一項所述的方法，其中，曝光所述牙科物體預(yù)定時間段。

15.一種曝光系統(tǒng)，包括根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的曝光裝置和牙科物體，所述牙科物體包括多色玻璃和/或多色玻璃陶瓷。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及用于照射牙科物體的曝光裝置和方法及包括其的系統(tǒng)。本發(fā)明涉及一種用于照射牙科物體(101)的曝光裝置(100)，包括用于接收牙科物體(101)的腔室(103)；以及用于將牙科物體(101)曝光于波長大于350nm且功率密度大于10W/cm<supgt;2</supgt;的輻射源(105)。

技術(shù)研發(fā)人員：克里斯蒂安·尼德里希,馬庫斯·蘭普夫,馬克·迪特默,克里斯蒂安·里茨伯格
受保護的技術(shù)使用者：義獲嘉偉瓦登特公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/30