本發(fā)明涉及玻璃，具體涉及一種半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整系統(tǒng)及工藝。

背景技術(shù)：

1、半導(dǎo)體光學(xué)玻璃具有優(yōu)異的光學(xué)特性、平整度和化學(xué)穩(wěn)定性，被廣泛應(yīng)用于光電顯示與芯片封裝行業(yè)，其原片主要生產(chǎn)方法分為浮法及溢流法，溢流法生產(chǎn)工序一般分為窯爐、貴金屬澄清通道、成型裝置、切割裝置四項區(qū)域，通過以上工序得到玻璃原片。浮法原片生產(chǎn)工藝為將石英砂、氧化鋁等高純度原材料投入窯爐中、通過錫槽裝置成型、退火窯快速降溫退火得到玻璃原片。在兩種半導(dǎo)體光學(xué)玻璃原片生產(chǎn)過程中，溢流法由于玻璃成型過程中兩側(cè)不接觸任何物質(zhì)，表面平整度與缺陷優(yōu)于浮法工藝；浮法工藝所生產(chǎn)原片與錫槽內(nèi)高溫錫液接觸，導(dǎo)致板面質(zhì)量低于溢流法。同時在后續(xù)搬運及包裝過程中不管浮法還是溢流法，玻璃都會與包裝物及設(shè)備接觸，導(dǎo)致半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面存在劃傷、頑固性污漬等缺陷，該類產(chǎn)品不良持續(xù)影響浮法及溢流法的半導(dǎo)體光學(xué)玻璃產(chǎn)能。因此，為提升半導(dǎo)體光學(xué)玻璃的產(chǎn)能及產(chǎn)品良率，亟需一種新的半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整工藝。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是：克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整系統(tǒng)及工藝，采用膠狀物固化成膜，修補玻璃表面因劃傷、欠點等造成的表面不平整問題，然后再利用混酸溶液對玻璃表面進(jìn)行蝕刻，保證玻璃表面蝕刻的深度較為均勻，達(dá)到整體的表面平整，集成在現(xiàn)有生產(chǎn)工序中，可提升半導(dǎo)體光學(xué)板面的平整度，提升產(chǎn)品良率與品質(zhì)。

2、本發(fā)明的技術(shù)方案為：

3、一方面，本發(fā)明提供了一種半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整系統(tǒng)，包括涂膜裝置、固化裝置、淋酸裝置、清洗裝置和烘干裝置，涂膜裝置、固化裝置、淋酸裝置、清洗裝置和烘干裝置之間設(shè)置有傳輸輥輪，玻璃置于傳輸輥輪上；涂膜裝置包括位于分別玻璃上下方的兩個滾刷一，滾刷一上涂布有腐蝕玻璃表面的膠狀物；固化裝置包括固化室，固化室內(nèi)設(shè)置有傳輸輥輪，玻璃置于傳輸輥輪上，固化室側(cè)壁上設(shè)置有若干個冷風(fēng)口；淋酸裝置包括淋酸室，淋酸室內(nèi)設(shè)置有傳輸輥輪，玻璃置于傳輸輥輪上，淋酸室內(nèi)位于玻璃上方和下方分別設(shè)置有若干個噴淋頭，向玻璃表面淋酸；清洗裝置包括依次設(shè)置的堿液清洗室和超純水清洗室，堿液清洗室和超純水清洗室內(nèi)設(shè)置有傳輸輥輪，玻璃置于傳輸輥輪上，玻璃在堿液清洗室和超純水清洗室中分別浸泡在堿液和超純水中；烘干裝置包括烘干室，烘干室內(nèi)設(shè)置有傳輸輥輪，玻璃置于傳輸輥輪上，烘干室內(nèi)設(shè)置有風(fēng)刀。

4、優(yōu)選地，所述固化室與淋酸室之間還設(shè)置有膜厚檢測儀。

5、優(yōu)選地，膠狀物涂布在玻璃表面并固化后，形成的膜層的厚度為0.05-0.08mm。

6、優(yōu)選地，所述超純水清洗室內(nèi)設(shè)置有超聲波發(fā)生器。

7、優(yōu)選地，所述超純水清洗室內(nèi)位于玻璃的上方和下方分別設(shè)置有滾刷二。

8、優(yōu)選地，所述堿液為碳酸氫鈉。

9、優(yōu)選地，所述淋酸室的底部傾斜設(shè)置，傾斜角度為20-30°。

10、另一方面，本發(fā)明提供了利用上述半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整系統(tǒng)的半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整工藝，包括以下步驟：

11、s1玻璃經(jīng)兩個滾刷一在上下表面涂布上膠狀物，膠狀物進(jìn)入固化室后經(jīng)冷風(fēng)固化成膜層；

12、s2隨后玻璃進(jìn)入淋酸室中在上下表面淋酸，對玻璃表面進(jìn)行蝕刻；

13、s3玻璃先后進(jìn)入堿液清洗室和超純水清洗室中，清洗掉玻璃表面的酸和殘留物；

14、s4最后玻璃再進(jìn)入烘干室中烘干。

15、優(yōu)選地，步驟s1中，膠狀物包括以下質(zhì)量百分比的組分：有機酸50-55％、丙二醇25-30％、螯合劑8-13％和電解水5-10％。

16、優(yōu)選地，步驟s2中，酸為由以下質(zhì)量百分比的組分混合而成的混酸溶液：氫氟酸24-30％、硫酸10-15％、硝酸8-10％、磷酸8-10％和純水35-50％。

17、本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下有益效果：

18、1.半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整度高，主要缺陷為劃傷及頑固性污漬，其中劃傷更為凸出，由于玻璃表面硬度高，半導(dǎo)體光學(xué)玻璃中硼含量較高(5-10％)，其劃傷深度一般低于10μm。本發(fā)明提出了一種新的表面平整系統(tǒng)及工藝，采用膠狀物固化成膜，修補玻璃表面因劃傷、欠點等造成的表面不平整問題，然后再利用混酸溶液對玻璃表面進(jìn)行蝕刻，使得整面光學(xué)玻璃被平整祛除，耐腐蝕程度遠(yuǎn)低于玻璃的頑固性物質(zhì)也被祛除，劃傷不再有深度，保證玻璃表面蝕刻的深度較為均勻，達(dá)到整體的表面平整，集成在現(xiàn)有生產(chǎn)工序中，可提升半導(dǎo)體光學(xué)板面的平整度，提升產(chǎn)品良率與品質(zhì)。

19、2.浮法生產(chǎn)出的半導(dǎo)體光學(xué)玻璃需要研磨修復(fù)，采用本發(fā)明的工藝，可達(dá)到研磨前的表面預(yù)處理或研磨后的表面平整度修復(fù)提升等效果，對于優(yōu)秀的浮法光學(xué)玻璃產(chǎn)線采用本發(fā)明的工藝可節(jié)省表面處理工藝，極大地提升產(chǎn)能與產(chǎn)品良率，達(dá)到節(jié)能降耗避免浪費氧化鈰等資源的效果。

技術(shù)特征：

1.半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整系統(tǒng)，其特征在于，

2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整系統(tǒng)，其特征在于，所述固化室(3)與淋酸室(4)之間還設(shè)置有膜厚檢測儀(8)。

3.如權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整系統(tǒng)，其特征在于，膠狀物涂布在玻璃(1)表面并固化后，形成的膜層的厚度為0.05-0.08mm。

4.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整系統(tǒng)，其特征在于，所述超純水清洗室(6)內(nèi)設(shè)置有超聲波發(fā)生器。

5.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整系統(tǒng)，其特征在于，所述超純水清洗室(6)內(nèi)位于玻璃(1)的上方和下方分別設(shè)置有滾刷二(601)。

6.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整系統(tǒng)，其特征在于，所述堿液為碳酸氫鈉。

7.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整系統(tǒng)，其特征在于，所述淋酸室(4)的底部傾斜設(shè)置，傾斜角度為20-30°。

8.利用如權(quán)利要求1-7任一項所述的半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整系統(tǒng)的半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整工藝，其特征在于，包括以下步驟：

9.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整工藝，其特征在于，步驟s1中，膠狀物包括以下質(zhì)量百分比的組分：有機酸50-55％、丙二醇25-30％、螯合劑8-13％和電解水5-10％。

10.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整工藝，其特征在于，步驟s2中，酸為由以下質(zhì)量百分比的組分混合而成的混酸溶液：氫氟酸24-30％、硫酸10-15％、硝酸8-10％、磷酸8-10％和純水35-50％。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體光學(xué)玻璃表面平整系統(tǒng)及工藝，涉及玻璃技術(shù)領(lǐng)域。其技術(shù)方案為：包括涂膜裝置、固化裝置、淋酸裝置、清洗裝置和烘干裝置，涂膜裝置包括位于分別玻璃上下方的兩個滾刷一，滾刷一上涂布有腐蝕玻璃表面的膠狀物；固化裝置包括固化室，固化室內(nèi)設(shè)置有傳輸輥輪，玻璃置于傳輸輥輪上，固化室側(cè)壁上設(shè)置有若干個冷風(fēng)口；淋酸裝置包括淋酸室，淋酸室內(nèi)設(shè)置有傳輸輥輪，玻璃置于傳輸輥輪上，淋酸室內(nèi)位于玻璃上方和下方分別設(shè)置有若干個噴淋頭，向玻璃表面淋酸。本發(fā)明采用膠狀物固化成膜，修補玻璃表面因劃傷、欠點等造成的表面不平整，再利用混酸溶液對玻璃表面蝕刻，保證玻璃表面蝕刻的深度較為均勻，達(dá)到整體的表面平整。

技術(shù)研發(fā)人員：李陽,馮文軍,任華波
受保護(hù)的技術(shù)使用者：四川蜀旺辰昇新材料有限責(zé)任公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/11/4