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一種連續(xù)直拉單晶爐及單晶硅生產(chǎn)工藝的制作方法

文檔序號:40589380發(fā)布日期:2025-01-07 20:29閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種連續(xù)直拉單晶爐,其特征在于,包括單晶爐(1)和加料設(shè)備(2);

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)直拉單晶爐,其特征在于,所述熱場(4)由外側(cè)保溫筒和置于所述熱場(4)中心位置的石英坩堝(6)組成,所述石英坩堝(6)底部由托桿(7)支撐,所述石英坩堝(6)上方設(shè)有水冷裝置(8),所述水冷裝置(8)外側(cè)設(shè)有導(dǎo)流筒(9);

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述連續(xù)直拉單晶爐,其特征在于,所述石英坩堝(6)高度不超過500mm,直徑不低于36吋;

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的連續(xù)直拉單晶爐,其特征在于,所述固氈支撐塊(21)呈梯形兩瓣結(jié)構(gòu),后端有定位塊,與所述定位孔(102)配合,內(nèi)部設(shè)有與所述加料管(19)匹配的凹槽,將所述加料管(19)包覆,裝入所述加料管(19)后用螺桿固定。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的連續(xù)直拉單晶爐,其特征在于,所述加料漏斗(22)下端呈直筒狀,與所述加料管(19)上端配合,所述加料漏斗(22)上端呈喇叭狀,與所述輸料管(205)對接。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)直拉單晶爐,其特征在于,所述底座(201)呈長方形,置于所述單晶爐(1)一側(cè),所述底座(201)上方設(shè)有滑軌和驅(qū)動裝置,所述支架(202)可在滑軌上移動,所述料倉(203)設(shè)于所述支架(202)上方,所述控料機(jī)構(gòu)(204)設(shè)于所述料倉(203)下方的出料口位置,所述控料機(jī)構(gòu)(204)上方與所述料倉(203)出料口連接,側(cè)向與所述輸料管(205)連接,所述輸料管(205)外側(cè)為波紋管,連接所述單晶爐(1)與所述加料設(shè)備(2);

7.一種連續(xù)直拉單晶硅生產(chǎn)工藝,包括權(quán)利要求1-6任意一項所述的連續(xù)直拉單晶爐,其特征在于,單晶硅在生產(chǎn)時包括以下步驟:

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種連續(xù)直拉單晶硅生產(chǎn)工藝,其特征在于,所述加料設(shè)備(2)在使用時包括以下步驟:


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明屬于單晶爐技術(shù)領(lǐng)域,具體公開了一種連續(xù)直拉單晶爐及單晶硅生產(chǎn)工藝。包括單晶爐和加料設(shè)備,所述單晶爐包括爐體、爐蓋和置于爐體內(nèi)的熱場,所述加料設(shè)備包括底座、支架、料倉、控料機(jī)構(gòu)和輸料管,所述單晶爐與所述加料設(shè)備通過所述輸料管道連通,所述單晶爐與所述加料設(shè)備中間設(shè)有插板閥,用于隔離所述單晶爐與所述加料設(shè)備。本發(fā)明通過改進(jìn)熱場設(shè)計、加料機(jī)制、防濺措施以及整體生產(chǎn)工藝來提高單晶硅的生產(chǎn)效率和質(zhì)量,通過這些改進(jìn),可以有效地解決電阻率不均勻的問題,進(jìn)而提高單晶硅的質(zhì)量、電池片的效率以及單晶生產(chǎn)的效率。

技術(shù)研發(fā)人員:王燕飛,文勇,樊同帥,張建如
受保護(hù)的技術(shù)使用者:包頭美科硅能源有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/6
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