本申請涉及玻璃蓋板鍍膜，特別涉及一種高性能玻璃蓋板及其araf鍍膜工藝。

背景技術(shù)：

1、ar(anti-reflection)玻璃即抗反射玻璃，通過將玻璃單面或者雙面，進(jìn)行光學(xué)涂層以后，來降低它的反射率，增加透過率。最大值可以把它的透過率增加到99%以上，反射率1%以下。通過提高玻璃的透過率，顯示屏的內(nèi)容更加清晰。可以通過磁控濺射或者熱蒸鍍技術(shù)來實(shí)現(xiàn)ar工藝，采用兩種高低折射率的材料交叉堆疊。af(anti-fingerprint)玻璃即防污防指紋玻璃，af防污防指紋玻璃是根據(jù)荷葉原理，在玻璃外表面涂制一層納米化學(xué)材料，將玻璃表面張力降至最低，灰塵與玻璃表面接觸面積減少?90%，使其具有較強(qiáng)的疏水、抗油污、抗指紋能力；使視屏玻璃面板長期保持著光潔亮麗的效果。通過在sio2上真空蒸鍍一層af材料或者通過pvd工藝來實(shí)現(xiàn)該工藝，提高其耐磨性。傳統(tǒng)的ar工藝的缺點(diǎn)是對(duì)硬度的提升不夠，抗油污抗指紋能力不強(qiáng)。而傳統(tǒng)的af工藝制造的產(chǎn)品沒有足夠的反射率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明解決的技術(shù)問題是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，提供一種高性能玻璃蓋板及其araf鍍膜工藝，以解決上述背景技術(shù)中提到的問題。

2、本發(fā)明提供的玻璃鍍膜的制造方法，在si底上通過熱蒸鍍用兩個(gè)舟里面分別盛放高低折射率cr棒，再鍍一層sio2,最后再鍍一層低表面能的sif4。

3、進(jìn)一步地，上述的一種高性能玻璃蓋板及其araf鍍膜工藝，在熱蒸鍍之前，對(duì)玻璃進(jìn)行切割磨邊、清洗處理。

4、進(jìn)一步地，上述的一種高性能玻璃蓋板及其araf鍍膜工藝，熱蒸鍍前，先抽真空一個(gè)小時(shí)左右，降低到實(shí)驗(yàn)所需的氣壓。

5、進(jìn)一步地，上述的一種高性能玻璃蓋板及其araf鍍膜工藝，制造araf玻璃膜的第一層膜，熱蒸鍍速率通過調(diào)節(jié)功率的方式使其穩(wěn)定在0.2a/s左右，預(yù)蒸鍍十五分鐘。

6、進(jìn)一步地，上述的araf玻璃的制造方法，預(yù)蒸鍍結(jié)束后，保持與預(yù)蒸鍍相同的蒸鍍速率，左右cr棒分別在si上蒸鍍15~17nm。

7、進(jìn)一步地，上述的一種高性能玻璃蓋板及其araf鍍膜工藝，制造araf玻璃膜的第二層膜，采用射頻磁控濺射技術(shù)，通入的氣體為純氬氣，磁控濺射前，先抽真空至實(shí)驗(yàn)所需氣壓。

8、進(jìn)一步地，上述的一種高性能玻璃蓋板及其araf鍍膜工藝，sio2靶材功率為50w，預(yù)濺射15分鐘。

9、進(jìn)一步地，上述的一種高性能玻璃蓋板及其araf鍍膜工藝，保持與預(yù)濺射相同的濺射功率，濺射15分鐘，保持純氬氣的通入，在cr膜層上蒸鍍30~40nm?sio2。

10、進(jìn)一步地，上述的一種高性能玻璃蓋板及其araf鍍膜工藝，將疏水鍍膜溶液加熱至40℃

11、進(jìn)一步地，上述的一種高性能玻璃蓋板及其araf鍍膜工藝，由?5gc11h13f13o3si、5ml?h2o、245ml?c2h5oh?先進(jìn)行混合，加入?40?ml?ch3cooh?將疏水鍍膜溶液的?ph?值調(diào)整為3。

12、進(jìn)一步地，上述的一種高性能玻璃蓋板及其araf鍍膜工藝，將上述鍍膜玻璃放入疏水鍍膜溶液中進(jìn)行10min的疏水修飾，在sio2膜層蒸鍍sif4膜層12~18nm。

13、有益效果：與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的改造ar鍍膜工藝的技術(shù)并與af工藝結(jié)合的新工藝，使得在ar工藝后的硬度顯著提升，并與af工藝相結(jié)合，制備了硬度、耐磨性優(yōu)異且疏油疏水、抗油污、抗指紋的玻璃膜。消除了在ar工藝后硬度不夠而影響af工藝的不良影響。

技術(shù)特征：

1.一種高性能玻璃蓋板及其araf鍍膜工藝，其特征在于：包括玻璃基板和覆蓋在所屬玻璃基板表面的功能層，所述功能層包括cr膜層、sio2膜層和sif4膜層，所述cr膜層、sio2膜層和sif4膜層由內(nèi)而外依次交替覆蓋于所屬玻璃基板的表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高性能玻璃蓋板及其araf鍍膜工藝，其特征在于：所述功能層每種膜層只有一層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高性能玻璃蓋板及其araf鍍膜工藝，其特征在于：所述cr膜層厚度為30~35nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高性能玻璃蓋板及其araf鍍膜工藝，其特征在于：所述sio2膜層厚度為30~40nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高性能玻璃蓋板及其araf鍍膜工藝，其特征在于：所述sif4膜層厚度為12~18nm。

6.一種ar鍍膜工藝，用于生產(chǎn)權(quán)利要求3-4所述的cr膜層和sio2膜層，其特征在于：包括以下步驟；

7.一種af鍍膜工藝，用于生產(chǎn)權(quán)利要求5所述的sif4膜層，其特征在于：包括以下步驟：

技術(shù)總結(jié)
本申請涉及玻璃蓋板鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種高性能玻璃蓋板及其ARAF鍍膜工藝。通過在玻璃基板的表面由內(nèi)而外依次覆蓋Cr膜層、SiO-<subgt;2</subgt;膜層和SiF<subgt;4</subgt;膜層。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本申請?zhí)峁┑囊环N高性能玻璃蓋板及其ARAF鍍膜工藝，使得玻璃蓋板在AR工藝后的硬度顯著提升，并與AF工藝相結(jié)合，制備了硬度、耐磨性優(yōu)異且疏油疏水、抗油污、抗指紋的玻璃膜。消除了在AR工藝后硬度不夠而影響AF工藝的不良影響?？捎糜诔Ｒ?guī)及高要求產(chǎn)品，應(yīng)用范圍更廣，更適用于工業(yè)化的生產(chǎn)。

技術(shù)研發(fā)人員：黃浩,葉伯溪
受保護(hù)的技術(shù)使用者：廣西大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/2