本申請涉及玻璃蓋板鍍膜,特別涉及一種利用光的干涉性原理和微納結(jié)構(gòu)設(shè)計結(jié)合的高硬度防眩光玻璃及其aragaf鍍膜工藝。
背景技術(shù):
1、ar(anti-reflection)玻璃即抗反射玻璃,通過將玻璃單面或者雙面,進行光學涂層以后,來降低它的反射率,增加透過率。最大值可以把它的透過率增加到99%以上,反射率1%以下。通過提高玻璃的透過率,顯示屏的內(nèi)容更加清晰??梢酝ㄟ^磁控濺射或者熱蒸鍍技術(shù)來實現(xiàn)ar工藝,通常采用兩種高低折射率的材料交叉堆疊。af(anti-fingerprint)玻璃即防污防指紋玻璃,af防污防指紋玻璃是根據(jù)荷葉原理,在玻璃外表面涂制一層納米化學材料,將玻璃表面張力降至最低,灰塵與玻璃表面接觸面積減少?90%,使其具有較強的疏水、抗油污、抗指紋能力;使視屏玻璃面板長期保持著光潔亮麗的效果。通過在玻璃上真空蒸鍍一層af材料或者通過pvd工藝來實現(xiàn)該工藝,提高其耐磨性。傳統(tǒng)的ar工藝的缺點是對硬度的提升不夠,抗油污抗指紋能力不強。而傳統(tǒng)的af工藝制造的產(chǎn)品沒有足夠的反射率。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本發(fā)明解決的技術(shù)問題是針對上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,提供一種利用光的干涉性原理和微納結(jié)構(gòu)設(shè)計結(jié)合的高硬度防眩光玻璃及其aragaf鍍膜工藝,以解決上述背景技術(shù)中提到的問題。
2、本發(fā)明提供的玻璃鍍膜的制造方法,在玻璃底面通過熱蒸發(fā)生長一層tio2薄膜,用hf腐蝕完成拋光后再生長一層tio2薄膜,再在玻璃上面通過噴涂蒙砂液的方式實現(xiàn)了ag蝕刻,在微納結(jié)構(gòu)的表面通過磁控濺射的方式蒸鍍一層mgf2材料。
3、進一步地,上述的高性能玻璃的制造方法,在熱蒸鍍之前,對玻璃進行切割磨邊、清洗處理。
4、進一步地,上述的高性能玻璃的制造方法,熱蒸鍍前,先抽真空一個小時左右,降低到實驗所需的氣壓。
5、進一步地,上述的高性能玻璃的制造方法,制造高性能玻璃的第一層膜,采用tio2藥丸進行蒸鍍熱蒸鍍速率通過調(diào)節(jié)功率的方式使其穩(wěn)定在0.2a/s左右,預(yù)蒸鍍15min。
6、進一步地,上述的高性能玻璃的制造方法,預(yù)蒸鍍結(jié)束后,保持與預(yù)蒸鍍相同的蒸鍍速率,在玻璃上用tio2藥丸蒸鍍25~30nm?tio2膜層。
7、進一步地,上述的高性能玻璃的制造方法,蒸鍍結(jié)束后,將剛剛鍍膜的那一面浸泡在濃度為24%hf中,刻蝕時間約為1.5min。
8、進一步地,上述的高性能玻璃的制造方法,將刻蝕后的玻璃放入冷水中。
9、進一步地,上述的高性能玻璃的制造方法,重復(fù)上述工作,重新抽真空再在剛剛蝕刻過的玻璃上在相同功率相同時間下蒸鍍一層25~30nm?tio2膜層。
10、進一步地,上述的高性能玻璃的制造方法,用5.5g?caf2、9.5g?na2sif6、145gnh4hf2、9g?caso4、9.5g?nh4hso4還有5g懸浮劑制備出防眩光所需要的蒙砂液,蒙砂液的熟化時間為6h。
11、進一步地,上述的高性能玻璃的制造方法,將配制好的蒙砂液噴涂在玻璃沒有鍍膜的那一面,面板進行蒙砂的時間為8min,刻蝕10~15nm。
12、進一步地,上述的高性能玻璃的制造方法,在上述進行過蒙砂的那一面采用射頻磁控濺射技術(shù),通入的氣體為純氬氣,磁控濺射前,先抽真空至實驗所需氣壓。
13、進一步地,上述的高性能玻璃的制造方法,采用mgf2靶材,靶材功率為50w,預(yù)濺射15min。
14、進一步地,上述的高性能玻璃的制造方法,保持與預(yù)濺射相同的濺射功率,濺射15min,保持純氬氣的通入,濺射mgf2膜層12~18nm。
15、有益效果:與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明提供的一種利用光的干涉性原理和微納結(jié)構(gòu)設(shè)計結(jié)合的高硬度防眩光玻璃及其arafag鍍膜工藝,使得玻璃蓋板在ar工藝后的硬度顯著提升,并與af、ag工藝相結(jié)合,制備了硬度、耐磨性優(yōu)異且疏油疏水、抗油污、抗指紋同時防眩光的玻璃。提高了玻璃的整體硬度,同時結(jié)合3a工藝實現(xiàn)多種性能并存??捎糜诔R?guī)及高要求產(chǎn)品,應(yīng)用范圍更廣,更適用于工業(yè)化的生產(chǎn)。
1.一種利用光的干涉性原理和微納結(jié)構(gòu)設(shè)計結(jié)合的高硬度防眩光玻璃蓋板及其arafag鍍膜工藝,其特征在于:包括玻璃基板和覆蓋在所述玻璃基板表面的功能層,所述功能層包括tio2膜層、刻蝕層和mgf2膜層,所述雙層tio2膜層、刻蝕層和mgf2膜層由內(nèi)而外依次交替覆蓋于所述玻璃基板的表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用光的干涉性原理和微納結(jié)構(gòu)設(shè)計結(jié)合的高硬度防眩光玻璃蓋板,其特征在于:tio2膜層有兩層,其余膜層皆只有一層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用光的干涉性原理和微納結(jié)構(gòu)設(shè)計結(jié)合的高硬度防眩光玻璃蓋板,其特征在于:所述tio2膜層一層厚度為25~30nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用光的干涉性原理和微納結(jié)構(gòu)設(shè)計結(jié)合的高硬度防眩光玻璃蓋板,其特征在于:所述蝕刻層厚度為10~15nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用光的干涉性原理和微納結(jié)構(gòu)設(shè)計結(jié)合的高硬度防眩光玻璃蓋板,其特征在于:所述mgf2膜層厚度為12~18nm。
6.一種ar鍍膜工藝,用于生產(chǎn)權(quán)利要求3的雙層tio2膜層,其特征在于:包括以下步驟:
7.一種ag鍍膜工藝,用于生產(chǎn)權(quán)利要求4的蝕刻層,其特征在于:包括以下步驟:
8.一種af鍍膜工藝,用于生產(chǎn)權(quán)利要求5的mgf2膜層,其特征在于:包括以下步驟: