本申請(qǐng)涉及無機(jī)化學(xué),尤其涉及一種壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳及其制備方法。
背景技術(shù):
1、壓敏電阻是以氧化鋅非線性電阻元件為核心而制成的電沖擊保護(hù)器件。而氧化亞鎳是其主要添加劑,是實(shí)現(xiàn)器件具有非線性伏安特性的關(guān)鍵材料。目前工業(yè)上,壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳制備方法主要采用鎳源和氨水的絡(luò)合法生產(chǎn)前驅(qū)體草酸鎳、碳酸鎳等、再通過煅燒得到氧化亞鎳,如現(xiàn)有技術(shù)有報(bào)道利用除雜后的鎳源和草酸、氨水反應(yīng),并向此體系添加表面活性劑,獲得形狀和尺寸均一的前驅(qū)體草酸鎳粉末。或者利用噴霧熱解法制備氧化亞鎳前驅(qū)體,再煅燒得到氧化亞鎳,但是表面活性劑的使用可能會(huì)導(dǎo)致氧化亞鎳呈現(xiàn)出介孔狀的氧化亞鎳,而介孔狀的氧化亞鎳由于其多孔的外表進(jìn)而導(dǎo)致后續(xù)除雜難度提升。
2、中國(guó)專利申請(qǐng)201610106501.7公開了一種氧化亞鎳前驅(qū)體碳酸鎳的合成方法,其公開的碳酸鎳的制備方法包括以下步驟:
3、步驟1:并流、低ph值合成粗碳酸鎳:在合成槽中加水浸沒至攪拌槳葉,開啟攪拌,緩慢通入蒸汽升溫至70~80℃,分別按照3m3/h、2m3/h流速并流加入40g/l硫酸鎳溶液和120g/l碳酸鈉溶液,控制合成終點(diǎn)ph值6.9~7.1,過濾得濾液、濾餅;
4、步驟2:漿化、高ph值堿浸脫硫:將上步的濾餅加入堿浸槽中加水浸沒至攪拌槳葉,開啟攪拌,緩慢通入蒸汽升溫至80~90℃,按照水、濾餅3:1的比例繼續(xù)加水漿化碳酸鎳30分鐘,加入120g/l碳酸鈉溶液調(diào)整ph值至9.20~9.50,過濾得濾液、濾餅,過量的碳酸鈉與碳酸鎳濾餅中夾帶的so42-反應(yīng)生成硫酸鈉溶液脫除硫;
5、步驟3:漿化、洗滌脫鈉:將上步的濾餅加入堿浸槽中加水浸沒至攪拌槳葉,開啟攪拌,緩慢通入蒸汽升溫至80~90℃,按水、濾餅5:1的比例繼續(xù)加水漿化碳酸鎳30分鐘,過濾得濾液、濾餅,碳酸鎳濾餅中夾帶的na+脫除進(jìn)入濾液;
6、首先該方案具有加工成本低、金屬回收率高,設(shè)備材質(zhì)要求低,投資費(fèi)用低,技術(shù)門檻低,方法簡(jiǎn)單方便,效果好,碳酸鎳品質(zhì)好等特點(diǎn),但是,進(jìn)一步觀察該方案可見,一方面,該方案并未公開碳酸鎳至氧化亞鎳的制備過程。
7、中國(guó)專利申請(qǐng)200710050492.5公開了一種制備高比表面積介孔氧化亞鎳的方法,該方案以氯化鎳為鎳源、碳酸鈉為沉淀劑、十二烷基硫酸鈉為模板劑制備介孔氧化亞鎳的工藝,具體為在鎳鹽溶液中加入適量十二烷基硫酸鈉作為結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑,然后與碳酸鈉溶液進(jìn)行沉淀反應(yīng),控制反應(yīng)的ph值、溫度及陳化條件等。陳化結(jié)束后進(jìn)行洗滌、研磨得到前驅(qū)體。前驅(qū)體在一定條件下煅燒、冷卻,即得介孔氧化亞鎳。該方案所記載的工藝易于控制,沉淀劑和模板劑用量少,制得的氧化亞鎳具有介孔結(jié)構(gòu),比表面積較大,無表面活性劑殘留,且有較好的熱穩(wěn)定性;
8、觀察該方案可見,該方案在碳酸鎳的制備過程中加入了表面活性劑,并通過作為結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑的十二烷基硫酸鈉制備出了具有介孔結(jié)構(gòu)和比表面積較大的氧化亞鎳;同時(shí),其在后續(xù)的煅燒過程中,煅燒溫度為350~400℃。
9、本方案需要解決的問題:如何提出一種低雜質(zhì)含量且具有更接近球形形貌的氧化亞鎳的制備方法。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本申請(qǐng)的目的是提供一種壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳的制備方法,通過上述制備方法制備出的氧化亞鎳具有低雜質(zhì)含量,同時(shí)具有更接近球形的微觀形貌,并且,該制備方法不同于傳統(tǒng)的氧化亞鎳的制備,在鎳沉積的過程中不添加額外的表面活性劑,以提高氧化亞鎳表面的光滑程度,從而得到一種表面孔洞更為稀少,后續(xù)除雜更加容易的氧化亞鎳。
2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳的制備方法,包括以下步驟:
3、步驟1:向硫酸鎳溶液加入含有碳酸根離子的溶液至ph值為7~9,得到碳酸鎳前驅(qū)體;
4、步驟2:將步驟1制得的碳酸鎳前驅(qū)體壓濾、堿浸并洗滌,得到碳酸鎳;
5、步驟3:將步驟2制得的碳酸鎳烘干,煅燒,得到壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳;
6、步驟2中,通過金屬氫氧化物的水溶液作為堿浸液對(duì)壓濾后的碳酸鎳前驅(qū)體堿浸,且堿浸過程中體系的ph為8.5±0.5。
7、本申請(qǐng)選擇金屬氫氧化物的水溶液進(jìn)行堿浸處理,其原因在于,盡管在傳統(tǒng)認(rèn)知中所有具有堿性的溶液均可作為堿浸處理的堿浸液,但在實(shí)驗(yàn)過程中,金屬氫氧化物作為堿浸液時(shí),其與含硫雜質(zhì)之間呈現(xiàn)出了更加良好的反應(yīng)活性,進(jìn)而進(jìn)一步降低了碳酸鎳中的硫含量。
8、優(yōu)選地,金屬氫氧化物選自氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鎂、氫氧化鋰、氫氧化鋇中的至少一種。
9、優(yōu)選地,硫酸鎳溶液選自硫酸鎳、氯化鎳、硝酸鎳中至少一者的水溶液;
10、含有碳酸根離子的溶液選自碳酸鈉、碳酸鉀中的至少一者的水溶液。
11、優(yōu)選地,步驟1具體為:向硫酸鎳溶液加入含有碳酸根離子的溶液,且在含有碳酸根離子的溶液加入的同時(shí),控制體系的溫度處于55~80℃之間,同時(shí)以200~250rpm/min的轉(zhuǎn)速攪拌,直至體系的ph值提升至7~9,隨后過濾得到碳酸鎳前驅(qū)體。
12、優(yōu)選地,步驟3具體為:將步驟2制得的碳酸鎳干燥,隨后置于350~850℃的條件下煅燒2~4h,得到壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳。
13、進(jìn)一步優(yōu)選地,步驟3具體為:將步驟2制得的碳酸鎳干燥,隨后置于600~850℃的條件下煅燒2~4h,得到壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳。
14、優(yōu)選地,金屬氫氧化物為氫氧化鈉,且堿浸過程中金屬氫氧化物為氫氧化鈉,且堿浸液中,氫氧化鈉的濃度為0.08~0.15mo?l/l。
15、此外,本申請(qǐng)還公開了一種壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳,通過上述的壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳的制備方法制得。
16、本申請(qǐng)的有益效果是:
17、本申請(qǐng)制備出的氧化亞鎳具有低雜質(zhì)含量,同時(shí)具有良好的球形度,并且,本申請(qǐng)不同于傳統(tǒng)的氧化亞鎳的制備,在鎳沉積的過程中不添加額外的表面活性劑,以提高氧化亞鎳表面的光滑程度,從而得到一種表面孔洞更為稀少,后續(xù)除雜更加溶液的氧化亞鎳。
1.一種壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳的制備方法,其特征在于,所述金屬氫氧化物選自氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、氫氧化鋇中的至少一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳的制備方法,其特征在于,所述含有碳酸根離子的溶液選自碳酸鈉、碳酸鉀中的至少一者的水溶液。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳的制備方法,其特征在于,所述步驟1具體為:向硫酸鎳溶液加入含有碳酸根離子的溶液,且在含有碳酸根離子的溶液加入的同時(shí),控制體系的溫度處于55~80℃之間并以200~250rpm/min的轉(zhuǎn)速攪拌,直至體系的ph值提升至7~9,隨后過濾得到碳酸鎳前驅(qū)體。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳的制備方法,其特征在于,步驟3具體為:將步驟2制得的碳酸鎳干燥,隨后置于350~850℃的條件下煅燒2~4h,得到壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳的制備方法,其特征在于,所述步驟3具體為:將步驟2制得的碳酸鎳干燥,隨后置于600~850℃的條件下煅燒2~4h,得到壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳的制備方法,其特征在于,所述金屬氫氧化物為氫氧化鈉,且堿浸過程中金屬氫氧化物為氫氧化鈉,且堿浸液中,氫氧化鈉的濃度為0.08~0.15mol/l。
8.一種壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳,其特征在于,通過權(quán)利要求1-7中任一所述的壓敏電阻級(jí)氧化亞鎳的制備方法制得。