本發(fā)明涉及氧化釩制備,尤其涉及一種制備低鉻多釩酸銨的方法。
背景技術(shù):
1、釩是一種非常稀有的金屬元素,主要應(yīng)用于鋼鐵行業(yè),以改善鋼材產(chǎn)品的強(qiáng)度、韌性等性能,近年來(lái)釩在非鋼領(lǐng)域的應(yīng)用也越來(lái)越廣泛,如表現(xiàn)火熱的儲(chǔ)能領(lǐng)域,釩基正極材料,全釩液流電池的研究與應(yīng)用也越來(lái)越成熟。在化工催化,醫(yī)藥,金屬釩,釩合金,鈦合金等領(lǐng)域也有諸多應(yīng)用,釩在非鋼領(lǐng)域的應(yīng)用特點(diǎn)決定其對(duì)氧化釩的質(zhì)量要求都很高。例如,釩電解液中過(guò)量的鉻和其他污染物濃度會(huì)對(duì)電解液的功能產(chǎn)生不利影響,并因電解液不平衡而降低充電狀態(tài),這直接縮短了釩電池的使用壽命。釩渣鈉化焙燒--水浸提釩工藝仍是應(yīng)用最廣泛的提釩工藝,由于釩和鉻的相似性質(zhì),浸出時(shí)部分鉻以鉻酸鹽的形式與釩一起被浸出。在釩沉淀過(guò)程中,鉻會(huì)進(jìn)入氨基多釩酸鹽或氨基偏釩酸鹽的沉淀物中,這種現(xiàn)象導(dǎo)致五氧化二釩中鉻含量的增加,從而降低了產(chǎn)品純度。因此需要減少釩液中的鉻含量,進(jìn)而減少鉻進(jìn)入釩產(chǎn)品,以此提高釩產(chǎn)品質(zhì)量,滿足多元市場(chǎng)需求。行業(yè)中多采用還原除鉻進(jìn)行釩鉻分離,然后除雜液進(jìn)行沉釩制備釩產(chǎn)品,但此類方法很少涉及對(duì)除雜液進(jìn)行氧化的操作,導(dǎo)致除雜液生產(chǎn)釩產(chǎn)品時(shí)鉻含量嚴(yán)重超標(biāo),沉釩銨鹽消耗量大,沉釩率低等缺點(diǎn)。
2、現(xiàn)有技術(shù)公開(kāi)了一種通過(guò)還原沉釩脫硅制備低硅多釩酸銨的方法,具體公開(kāi)了向含釩溶液中加酸,調(diào)節(jié)ph值至5-6,加入還原劑進(jìn)行還原反應(yīng),得到還原后的釩溶液;將所述還原后的釩溶液的ph值調(diào)節(jié)至2-3,加入銨鹽進(jìn)行反應(yīng),待反應(yīng)結(jié)束后,過(guò)濾得到沉釩濾餅,將濾餅用去離子水打漿洗滌,然后進(jìn)行干燥。按照本發(fā)明所述的通過(guò)還原沉釩脫硅制備低硅多釩酸銨的方法,可以實(shí)現(xiàn)對(duì)含釩溶液進(jìn)行深度脫硅,制備的apv中硅含量降至20ppm以下,除硅效果優(yōu)異。該方法未將除雜液進(jìn)行氧化處理,過(guò)量的還原劑在酸性條件下會(huì)將釩還原,對(duì)沉釩造成影響。
3、現(xiàn)有技術(shù)公開(kāi)的一種從酸性多雜質(zhì)含釩溶液中直接沉釩的方法?,氧化處理時(shí)將氧化劑加入含釩溶液中,在40~70℃條件下氧化0.2~1.0h,即得氧化后釩溶液;所述氧化劑的加入量為含釩溶液中低價(jià)釩全部氧化成五價(jià)釩所需氧化劑理論摩爾量的1.0~2.5倍;該方法明確指出釩液中低價(jià)釩會(huì)影響沉釩率。
4、基于此,現(xiàn)有技術(shù)仍然有待改進(jìn)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明實(shí)施例提出一種制備低鉻多釩酸銨的方法,以解決現(xiàn)有技術(shù)的低價(jià)釩影響沉釩率的技術(shù)問(wèn)題。
2、為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明一些實(shí)施例公開(kāi)了一種制備低鉻多釩酸銨的方法,包括:
3、預(yù)處理除雜液,使除雜液的渾濁度不大于200utn;
4、向預(yù)處理后的除雜液中加入氧化劑進(jìn)行氧化,得到凈化液;
5、將凈化液進(jìn)行酸性銨鹽沉釩,得到低鉻多釩酸銨;
6、其中,所述除雜液為鈉化釩液選擇性還原鉻硅共除后的除雜液;
7、并且,基于除雜液的氧化還原電位、ph值和/或鉻濃度選擇不同的氧化工藝。
8、一些實(shí)施例中,基于除雜液的氧化還原電位、ph值和/或鉻濃度選擇不同的氧化工藝包括:隨著除雜液ph值的上升、氧化還原電位的下降和鉻濃度的降低,依次采用第一種氧化工藝、第二種氧化工藝和第三種氧化工藝進(jìn)行氧化;
9、其中,所述第一種氧化工藝為采用過(guò)硫酸銨、過(guò)硫酸鈉中的一種或兩種混合物;所述第二種氧化工藝為先利用雙氧水氧化,再利用過(guò)硫酸鈉或過(guò)硫酸銨進(jìn)行氧化;第三種氧化工藝為采用雙氧水氧化。
10、一些實(shí)施例中,基于除雜液的氧化還原電位、ph值和/或鉻濃度選擇不同的氧化工藝包括:
11、當(dāng)除雜液60℃下測(cè)量的ph≤10.0,氧化還原電位為0mv~180mv,鉻濃度為0.3g/l~0.8g/l時(shí),采用過(guò)硫酸銨、過(guò)硫酸鈉中的一種或兩種混合物進(jìn)行氧化。
12、一些實(shí)施例中,采用過(guò)硫酸銨、過(guò)硫酸鈉中的一種或兩種混合物進(jìn)行氧化時(shí),以物質(zhì)的量比計(jì),氧化劑添加量為s(氧化劑中的硫)/cr(釩液中的cr)=2~7,氧化溫度為30℃~90℃,氧化時(shí)間為10min~60min,控制氧化后的orp值≥400mv。
13、一些實(shí)施例中,基于除雜液的氧化還原電位、ph值和/或鉻濃度選擇不同的氧化工藝包括:
14、當(dāng)除雜液60℃下測(cè)量的ph為10.0~10.6,氧化還原電位大于-100mv且小于等于0mv,鉻濃度為大于0.03g/l且小于等于0.3g/l時(shí),先利用雙氧水氧化,再利用過(guò)硫酸鈉或過(guò)硫酸銨進(jìn)行氧化。
15、一些實(shí)施例中,先利用雙氧水氧化,再利用過(guò)硫酸鈉或過(guò)硫酸銨進(jìn)行氧化時(shí),以物質(zhì)的量比計(jì),雙氧水添加量為o(雙氧水中的氧)/cr(釩液中的cr)=1~3,氧化溫度為50℃~90℃,氧化時(shí)間為10min~60min,控制氧化后的orp值≥100mv;以物質(zhì)的量比計(jì),過(guò)硫酸銨或過(guò)硫酸鈉添加量為s(氧化劑中的硫)/cr(釩液中的cr)=2~3,氧化溫度為30℃~90℃,氧化時(shí)間為10min~60min,控制氧化后的orp值≥300mv。
16、一些實(shí)施例中,基于除雜液的氧化還原電位、ph值和/或鉻濃度選擇不同的氧化工藝包括:
17、當(dāng)除雜液60℃下測(cè)量的ph為10.6~11.6,氧化還原電位為-450mv~-100mv,鉻濃度為<0.03g/l時(shí),采用雙氧水氧化。
18、一些實(shí)施例中,采用雙氧水氧化時(shí),以物質(zhì)的量比計(jì),雙氧水添加量為o(雙氧水中的氧)/cr(釩液中的cr)=2~7,氧化溫度為50℃~90℃,氧化時(shí)間為10min~60min,控制氧化后的orp值≥100mv。
19、一些實(shí)施例中,將凈化液進(jìn)行酸性銨鹽沉釩包括:
20、將凈化液稀釋至v為25g/l~35g/l,稀釋后的凈化液第一次調(diào)節(jié)ph=5.0~6.0,第一次調(diào)節(jié)ph溫度為20℃~70℃,調(diào)整好ph后加入銨鹽,以質(zhì)量比計(jì),銨鹽加入量為tv/硫酸銨=1.2~2.0;
21、然后進(jìn)行第二次調(diào)酸,第二次調(diào)節(jié)ph=2.0~2.3,隨后升溫至90℃~100℃保溫35min~90min,固液分離后得到多釩酸銨與沉釩上清液。
22、一些實(shí)施例中,將凈化液進(jìn)行酸性銨鹽沉釩時(shí),以質(zhì)量比計(jì),銨鹽加入量為tv/硫酸銨=1.2~1.6;
23、或者,將得到的多釩酸銨洗滌一次,洗水為清水和硫酸調(diào)制,控制洗水ph=2.0~5.0,洗水溫度為50℃~90℃,洗水量為沉釩凈化液質(zhì)量的0.05~0.1倍,洗水濾液返回稀釋凈化液。
24、采用上述技術(shù)方案,本發(fā)明至少具有如下有益效果:
25、本發(fā)明提供的一種制備低鉻多釩酸銨的方法,針對(duì)不同性質(zhì)的除雜液,需要采取不同的氧化措施以提高氧化效率,降低氧化成本,提高釩沉淀物質(zhì)量。本發(fā)明利用鉻與不同氧化物的反應(yīng)特性,結(jié)合溶液ph與氧化還原電位,設(shè)計(jì)不同的氧化方法。具有氧化效率高,氧化成本低,釩產(chǎn)品質(zhì)量好,沉釩率高,?參數(shù)界限易判定,可操作性強(qiáng)的特性。
1.一種制備低鉻多釩酸銨的方法,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備低鉻多釩酸銨的方法,其特征在于,基于除雜液的氧化還原電位、ph值和/或鉻濃度選擇不同的氧化工藝包括:隨著除雜液ph值的上升、氧化還原電位的下降和鉻濃度的降低,依次采用第一種氧化工藝、第二種氧化工藝和第三種氧化工藝進(jìn)行氧化;
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備低鉻多釩酸銨的方法,其特征在于,基于除雜液的氧化還原電位、ph值和/或鉻濃度選擇不同的氧化工藝包括:
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備低鉻多釩酸銨的方法,其特征在于,采用過(guò)硫酸銨、過(guò)硫酸鈉中的一種或兩種混合物進(jìn)行氧化時(shí),以物質(zhì)的量比計(jì),氧化劑添加量為s(氧化劑中的硫)/cr(釩液中的cr)=2~7,氧化溫度為30℃~90℃,氧化時(shí)間為10min~60min,控制氧化后的orp值≥400mv。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備低鉻多釩酸銨的方法,其特征在于,基于除雜液的氧化還原電位、ph值和/或鉻濃度選擇不同的氧化工藝包括:
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備低鉻多釩酸銨的方法,其特征在于,先利用雙氧水氧化,再利用過(guò)硫酸鈉或過(guò)硫酸銨進(jìn)行氧化時(shí),以物質(zhì)的量比計(jì),雙氧水添加量為o(雙氧水中的氧)/cr(釩液中的cr)=1~3,氧化溫度為50℃~90℃,氧化時(shí)間為10min~60min,控制氧化后的orp值≥100mv;以物質(zhì)的量比計(jì),過(guò)硫酸銨或過(guò)硫酸鈉添加量為s(氧化劑中的硫)/cr(釩液中的cr)=2~3,氧化溫度為30℃~90℃,氧化時(shí)間為10min~60min,控制氧化后的orp值≥300mv。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備低鉻多釩酸銨的方法,其特征在于,基于除雜液的氧化還原電位、ph值和/或鉻濃度選擇不同的氧化工藝包括:
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備低鉻多釩酸銨的方法,其特征在于,采用雙氧水氧化時(shí),以物質(zhì)的量比計(jì),雙氧水添加量為o(雙氧水中的氧)/cr(釩液中的cr)=2~7,氧化溫度為50℃~90℃,氧化時(shí)間為10min~60min,控制氧化后的orp值≥100mv。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備低鉻多釩酸銨的方法,其特征在于,將凈化液進(jìn)行酸性銨鹽沉釩包括:
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備低鉻多釩酸銨的方法,其特征在于,將凈化液進(jìn)行酸性銨鹽沉釩時(shí),以質(zhì)量比計(jì),銨鹽加入量為tv/硫酸銨=1.2~1.6;