本技術(shù)涉及石英晶片生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及了一種超小型石英晶片的腐蝕刻蝕裝備。

背景技術(shù)：

1、石英晶片在進(jìn)行濕法刻蝕工藝處理時(shí)，首先將石英晶片放置在刻蝕溶液中，然后經(jīng)過(guò)一段時(shí)間后，再將石英晶片放置在清洗液中進(jìn)行清洗，這種方式一方面使得石英晶片在轉(zhuǎn)移過(guò)程中增加工作人員的勞動(dòng)強(qiáng)度，另一方面由于刻蝕溶液與石英晶片的接觸時(shí)長(zhǎng)難以控制，因此常會(huì)導(dǎo)致刻蝕深度難以控制，而且在刻蝕結(jié)束后，采用清洗液對(duì)石英晶片進(jìn)行清洗時(shí)，混合廢液難以回收處理，導(dǎo)致清洗液和刻蝕溶液的回收處理難度加大，

2、如申請(qǐng)?zhí)枺篶n202010277329.8公開(kāi)的一種石英晶片生產(chǎn)專(zhuān)用刻蝕設(shè)備及其使用方法包括立架，立架上設(shè)置有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和輸送帶，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)位于輸送帶上方，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的兩側(cè)均設(shè)置有連桿組件，右側(cè)的連桿組件連接刻蝕溶液輸出機(jī)構(gòu)、左側(cè)的連桿組件連接清洗液輸出機(jī)構(gòu)，清洗液輸出機(jī)構(gòu)與廢液回收機(jī)構(gòu)相連接，輸送帶通過(guò)鏈輪組件與驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)相連接，且輸送帶上等間隔固定有多個(gè)溶液池。

3、然而，在傳統(tǒng)晶片蝕刻工藝中，人力進(jìn)行蝕刻操作，不僅蝕刻時(shí)間不穩(wěn)定而且人員操作過(guò)程中也有一定程度的風(fēng)險(xiǎn)，存在清洗液在清洗后的混合廢液不方便回收的問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為了解決傳統(tǒng)蝕刻工藝，人力操作下蝕刻時(shí)間不穩(wěn)定，廢液回收不便的問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種超小型石英晶片的腐蝕刻蝕裝備，來(lái)解決該問(wèn)題。

2、為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：

3、一種超小型石英晶片的腐蝕刻蝕裝備，包括：支撐載體、蝕刻驅(qū)動(dòng)裝置、載物裝置和傳動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置，所述支撐載體上設(shè)置有工作滑道，工作滑道為w形，所述工作滑道包括：送入蝕刻滑道、清洗滑道和送出滑道，送入蝕刻滑道、清洗滑道和送出滑道貫通連接，所述載物裝置滑動(dòng)設(shè)置在工作滑道內(nèi)，蝕刻驅(qū)動(dòng)裝置設(shè)置在清洗滑道下側(cè)，傳動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置設(shè)置在送出滑道下側(cè)，蝕刻驅(qū)動(dòng)裝置和傳動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)端與載物裝置配合使用，送入蝕刻滑道最低點(diǎn)正下方設(shè)置有蝕刻池，清洗滑道最低點(diǎn)正下方設(shè)置有清洗池。

4、優(yōu)選的，所述蝕刻池和清洗池上設(shè)置有出水口和進(jìn)水口。

5、優(yōu)選的，所述蝕刻驅(qū)動(dòng)裝置包括：第一電機(jī)和第一驅(qū)動(dòng)桿，所述第一電機(jī)固定設(shè)置在清洗滑道下側(cè)，第一電機(jī)的輸出端與第一驅(qū)動(dòng)桿一端固定連接，第一驅(qū)動(dòng)桿另一端為開(kāi)口且與載物裝置配合連接。

6、優(yōu)選的，所述傳動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置包括：第二電機(jī)和第二驅(qū)動(dòng)桿，所述第二電機(jī)固定設(shè)置在送出滑道下側(cè)，第二電機(jī)輸出端與第二驅(qū)動(dòng)桿一端固定連接，第二驅(qū)動(dòng)桿另一端為開(kāi)口且與載物裝置配合連接。

7、優(yōu)選的，所述載物裝置包括：連接桿、限位塊、擺動(dòng)臂、夾板、載物架、彈簧和卡接桿，所述連接桿與第一驅(qū)動(dòng)桿或第二驅(qū)動(dòng)桿上的開(kāi)口配合連接，連接桿端部設(shè)置有限位塊，擺動(dòng)臂上端轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在連接桿上，擺動(dòng)臂下部與夾板中部鉸接，夾板上端與擺動(dòng)臂通過(guò)彈簧連接，夾板下端與卡接桿固定連接，夾板通過(guò)卡接桿與載物架連接。

8、優(yōu)選的，所述載物架包括：連接塊、載物板和載物連接桿，連接塊與卡接桿配合連接，連接塊下側(cè)設(shè)置有多組載物板，多組載物板之間通過(guò)載物連接桿固定連接。

9、本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于：通過(guò)工作滑道與傳動(dòng)帶進(jìn)行連接，可以將裝置整體直接接入加工流程中，通過(guò)驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)載物裝置進(jìn)行蝕刻和清洗，通過(guò)電機(jī)進(jìn)行控制保證了蝕刻時(shí)間的準(zhǔn)確性，設(shè)置的排水口和進(jìn)水口使溶液更加便于回收，提升了蝕刻過(guò)程的效率和精度，降低蝕刻工作的成本。

技術(shù)特征：

1.一種超小型石英晶片的腐蝕刻蝕裝備，其特征在于，包括：支撐載體(1)、蝕刻驅(qū)動(dòng)裝置(2)、載物裝置(3)和傳動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置(4)，所述支撐載體(1)上設(shè)置有工作滑道(5)，工作滑道(5)為w形，所述工作滑道(5)包括：送入蝕刻滑道(51)、清洗滑道(52)和送出滑道(53)，送入蝕刻滑道(51)、清洗滑道(52)和送出滑道(53)貫通連接，所述載物裝置(3)滑動(dòng)設(shè)置在工作滑道(5)內(nèi)，蝕刻驅(qū)動(dòng)裝置(2)設(shè)置在清洗滑道(52)下側(cè)，傳動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置(4)設(shè)置在送出滑道(53)下側(cè)，蝕刻驅(qū)動(dòng)裝置(2)和傳動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置(4)的驅(qū)動(dòng)端與載物裝置(3)配合使用，送入蝕刻滑道(51)最低點(diǎn)正下方設(shè)置有蝕刻池(11)，清洗滑道(52)最低點(diǎn)正下方設(shè)置有清洗池(12)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超小型石英晶片的腐蝕刻蝕裝備，其特征在于，所述蝕刻池(11)和清洗池(12)上設(shè)置有出水口(13)和進(jìn)水口(14)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超小型石英晶片的腐蝕刻蝕裝備，其特征在于，所述蝕刻驅(qū)動(dòng)裝置(2)包括：第一電機(jī)(21)和第一驅(qū)動(dòng)桿(22)，所述第一電機(jī)(21)固定設(shè)置在清洗滑道(52)下側(cè)，第一電機(jī)(21)的輸出端與第一驅(qū)動(dòng)桿(22)一端固定連接，第一驅(qū)動(dòng)桿(22)另一端為開(kāi)口且與載物裝置(3)配合連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超小型石英晶片的腐蝕刻蝕裝備，其特征在于，所述傳動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置(4)包括：第二電機(jī)(41)和第二驅(qū)動(dòng)桿(42)，所述第二電機(jī)(41)固定設(shè)置在送出滑道(53)下側(cè)，第二電機(jī)(41)輸出端與第二驅(qū)動(dòng)桿(42)一端固定連接，第二驅(qū)動(dòng)桿(42)另一端為開(kāi)口且與載物裝置(3)配合連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的一種超小型石英晶片的腐蝕刻蝕裝備，其特征在于，所述載物裝置(3)包括：連接桿(31)、限位塊(32)、擺動(dòng)臂(33)、夾板(34)、載物架(35)、彈簧(36)和卡接桿(37)，所述連接桿(31)與第一驅(qū)動(dòng)桿(22)或第二驅(qū)動(dòng)桿(42)上的開(kāi)口配合連接，連接桿(31)端部設(shè)置有限位塊(32)，擺動(dòng)臂(33)上端轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在連接桿(31)上，擺動(dòng)臂(33)下部與夾板(34)中部鉸接，夾板(34)上端與擺動(dòng)臂(33)通過(guò)彈簧(36)連接，夾板(34)下端與卡接桿(37)固定連接，夾板(34)通過(guò)卡接桿(37)與載物架(35)連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種超小型石英晶片的腐蝕刻蝕裝備，其特征在于，所述載物架(35)包括：連接塊(351)、載物板(352)和載物連接桿(353)，連接塊(351)與卡接桿(37)配合連接，連接塊(351)下側(cè)設(shè)置有多組載物板(352)，多組載物板(352)之間通過(guò)載物連接桿(353)固定連接。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及石英晶片生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域，提供了一種超小型石英晶片的腐蝕刻蝕裝備，包括：支撐載體、蝕刻驅(qū)動(dòng)裝置、載物裝置、傳動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置和工作滑道，工作滑道開(kāi)設(shè)在支撐載體上，載物裝置滑動(dòng)設(shè)置在工作滑道中，蝕刻驅(qū)動(dòng)裝置和傳動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置與載物裝置配合連接，使載物裝置能沿工作滑道移動(dòng)，進(jìn)行蝕刻和清洗工作，并從裝置中送出，蝕刻池和清洗池上開(kāi)設(shè)的進(jìn)水口和出水口通過(guò)水管與水箱連接，可以及時(shí)更換回收溶液，本技術(shù)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，效果明顯，在石英晶片生產(chǎn)過(guò)程中，將蝕刻流程簡(jiǎn)潔化，降低人工成本，通過(guò)電機(jī)控制，使晶片浸泡時(shí)間更加精準(zhǔn)可控，提升蝕刻效率和精度。

技術(shù)研發(fā)人員：閆金凱,牛一帆,閆益豪
受保護(hù)的技術(shù)使用者：唐山凱泰潤(rùn)科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240516
技術(shù)公布日：2024/12/23