高碳石墨的提純方法
【專利說明】高碳石墨的提純方法
[0001]
技術(shù)領(lǐng)域
[0002]本發(fā)明屬于石墨技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種高碳石墨的提純方法。
[0003]
【背景技術(shù)】
[0004]鱗片石墨產(chǎn)品分為低碳、中碳、高碳、高純石墨四個檔次，他們是根據(jù)固定碳含量的不同劃分的。聞碳石墨廣品的固定碳含量為94一99%,同中碳石墨相比，聞碳石墨具有更優(yōu)良的性質(zhì)和更廣泛的用途。高碳是石墨是中碳石墨提純?nèi)〉玫?，一般的石墨浮選精礦，品位通常為85— 90%，用選礦的方法進(jìn)一步提高精礦品位是比較困難的。目前，生產(chǎn)中應(yīng)用的高溫提純方法,生產(chǎn)規(guī)模小,成本高。
[0005]
【發(fā)明內(nèi)容】
[0006]為了克服現(xiàn)有技術(shù)領(lǐng)域存在的上述技術(shù)問題，本發(fā)明的目的在于，提供一種高碳石墨的提純方法，方法簡單，生廣成本低，石墨品位聞。
[0007]本發(fā)明提供的高碳石墨的提純方法，包括以下步驟:(1)配料:選用碳含量> 85%的石墨作為原料，選用鹽酸和純度為98%的燒堿作為處理原料，將燒堿溶解成濃度為30%的溶液，之后添加鹽酸和石墨，所述石墨、鹽酸、燒堿的重量比為:1:0.5:0.4 ; (2)將原料混合均勻，之后在回轉(zhuǎn)式熔融爐內(nèi)加溫至650°C，進(jìn)行熔融；(3)熔融之后在圓筒洗滌罐中進(jìn)行堿洗，堿洗濃度為12%,洗漆時間為50min ； (4)將堿洗后的材料加酸反應(yīng)10—20min,之后水洗至PH值為6— 7，脫水、室溫晾干即可。
[0008]本發(fā)明提供的高碳石墨的提純方法，其有益效果在于，對石墨、鹽酸、燒堿進(jìn)行合理的配比，達(dá)到提純效果；采用650°C的熔融溫度，使材料進(jìn)行完全的化學(xué)反應(yīng)，有效去除雜質(zhì)；方法簡單,生產(chǎn)成本低,石墨品位高。
[0009]
【具體實(shí)施方式】
[0010]下面結(jié)合一個實(shí)施例，對本發(fā)明提供的高碳石墨的提純方法進(jìn)行詳細(xì)的說明。
[0011]
實(shí)施例
[0012]本實(shí)施例的高碳石墨的提純方法，包括以下步驟:(1)配料:選用碳含量> 85%的石墨作為原料，選用鹽酸和純度為98%的燒堿作為處理原料，將燒堿溶解成濃度為30%的溶液,之后添加鹽酸和石墨,所述石墨、鹽酸、燒堿的重量比為:1:0.5:0.4 ；(2)將原料混合均勻，之后在回轉(zhuǎn)式熔融爐內(nèi)加溫至650°C，進(jìn)行熔融；(3)熔融之后在圓筒洗滌罐中進(jìn)行堿洗，堿洗濃度為12%，洗滌時間為50min ; (4)將堿洗后的材料加酸反應(yīng)15min，之后水洗至PH值為6.5，脫水、室溫晾干即可。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種高碳石墨的提純方法，其特征在于:包括以下步驟:(1)配料:選用碳含量>85%的石墨作為原料，選用鹽酸和純度為98%的燒堿作為處理原料，將燒堿溶解成濃度為30%的溶液，之后添加鹽酸和石墨，所述石墨、鹽酸、燒堿的重量比為:1:0.5:0.4 ；(2)將原料混合均勻，之后在回轉(zhuǎn)式熔融爐內(nèi)加溫至650°C，進(jìn)行熔融；(3)熔融之后在圓筒洗滌罐中進(jìn)行堿洗，堿洗濃度為12%，洗滌時間為50min ; (4)將堿洗后的材料加酸反應(yīng)10—20min,之后水洗至PH值為6 — 7,脫水、室溫晾干即可。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種高碳石墨的提純方法，選用碳含量＞85%的石墨作為原料，選用鹽酸和純度為98%的燒堿作為處理原料，將燒堿溶解成濃度為30%的溶液，之后添加鹽酸和石墨，所述石墨、鹽酸、燒堿的重量比為：1:0.5:0.4；將原料混合均勻，之后在回轉(zhuǎn)式熔融爐內(nèi)加溫至650℃，進(jìn)行熔融；熔融之后在圓筒洗滌罐中進(jìn)行堿洗，堿洗濃度為12%，洗滌時間為50min；將堿洗后的材料加酸反應(yīng)10-20min，之后水洗至PH值為6-7，脫水、室溫晾干即可。對石墨、鹽酸、燒堿進(jìn)行合理的配比，達(dá)到提純效果；采用650℃的熔融溫度，使材料進(jìn)行完全的化學(xué)反應(yīng)，有效去除雜質(zhì)；方法簡單，生產(chǎn)成本低，石墨品位高。
【IPC分類】C01B31-04
【公開號】CN104591151
【申請?zhí)枴緾N201310524410
【發(fā)明人】喬帥
【申請人】青島泰浩達(dá)碳材料有限公司
【公開日】2015年5月6日
【申請日】2013年10月31日