增透型消影azo導(dǎo)電玻璃及其制造方法以及觸控裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于導(dǎo)電玻璃技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種增透型消影AZO導(dǎo)電玻璃及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]AZO玻璃，即摻雜鋁的氧化鋅透明導(dǎo)電玻璃，是TCO玻璃的一種，和ITO玻璃等TCO玻璃一樣也具有透明和導(dǎo)電的特點，可用于生產(chǎn)觸摸屏器件。傳統(tǒng)的AZO導(dǎo)電玻璃，在與ITO具有相同導(dǎo)電性的情況下，透過率較差，導(dǎo)電層刻蝕紋明顯，導(dǎo)致顯示效果欠佳。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于提供一種增透型消影AZO導(dǎo)電玻璃，旨在提高透過率并淡化刻蝕紋，改善顯示效果。
[0004]本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的，一種增透型消影AZO導(dǎo)電玻璃，包括玻璃基片、層疊設(shè)置于所述玻璃基片一表面的增透層和層疊設(shè)置于所述玻璃基片另一表面的消影層，所述消影層的表面設(shè)有AZO膜層；所述消影層表面設(shè)有AZO膜層時和未設(shè)有AZO膜層時對可見光的反射率之差低于2%，所述增透型消影AZO導(dǎo)電玻璃的整體透過率高于87%。
[0005]本發(fā)明的另一目的在于提供一種觸控裝置，至少包括一基板，所述基板采用所述的增透型消影AZO導(dǎo)電玻璃，所述增透型消影AZO導(dǎo)電玻璃的AZO膜層蝕刻成觸控電極。
[0006]本發(fā)明的另一目的在于提供一種增透型消影AZO導(dǎo)電玻璃的制造方法，包括下述步驟:
[0007]選取玻璃原片并進行鍍膜前處理，獲得玻璃基片；
[0008]在所述玻璃基片的一表面采用中頻交流磁控濺射工藝依次鍍制第一五氧化二鈮膜層或第一二氧化鈦膜層以及第一二氧化硅膜層，得到消影層；
[0009]在所述消影層表面鍍制AZO膜層；
[0010]在所述玻璃基片的另一表面采用中頻交流磁控濺射工藝依次鍍制第二二氧化硅膜層以及第二五氧化二鈮膜層或第二二氧化鈦膜層，得到增透層，進而獲得增透型消影AZO導(dǎo)電玻璃。
[0011]本發(fā)明提供的AZO導(dǎo)電玻璃在玻璃基片的兩側(cè)分別設(shè)置了消影層和增透層，有效消除了 AZO膜層的刻蝕紋，并提高了透光率，可獲得高亮度、清晰細膩的高品質(zhì)畫面；并且，由于消影層和增透層各自由至少兩層膜構(gòu)成，若將二者鍍在同一側(cè)，則過多層膜系生產(chǎn)工藝復(fù)雜，每一層的變化對整個膜系都影響較大，本實施例將消影層與增透層分設(shè)玻璃基片兩側(cè)，可使工藝簡化且可調(diào)性提高，減少鍍膜的復(fù)雜性和不確定性，提升產(chǎn)品良率。
【附圖說明】
[0012]圖1是本發(fā)明實施例提供的增透型消影AZO導(dǎo)電玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖2是本發(fā)明實施例提供的增透型消影AZO導(dǎo)電玻璃設(shè)置增透層和未設(shè)置增透層時的透過率曲線圖；
[0014]圖3是本發(fā)明實施例提供的增透型消影AZO導(dǎo)電玻璃的方法流程圖。
【具體實施方式】
[0015]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
[0016]以下結(jié)合具體實施例對本發(fā)明的具體實現(xiàn)進行詳細描述:
[0017]請參考圖1，本發(fā)明實施例提供一種增透型消影AZO導(dǎo)電玻璃，其包括玻璃基片01、層疊設(shè)置于玻璃基片01—表面(錫面)的增透層02和層疊設(shè)置于玻璃基片01另一表面(空氣面)的消影層03，該消影層03的表面設(shè)有AZO膜層04，該AZO膜層04通常用于蝕刻電極，作為觸控顯示裝置中的觸控電極或者顯示驅(qū)動電極。該消影層03可以淡化AZO膜層04刻蝕成電極后導(dǎo)致的刻蝕紋，當(dāng)未設(shè)有消影層03時，AZO膜層04刻蝕的電極和未經(jīng)電極覆蓋的基材表面對可見光的反射率相差較大，導(dǎo)致電極刻蝕紋明顯，本實施例中，消影層03作為折射率匹配層，設(shè)置于AZO膜層04和玻璃基片01之間，可見光在AZO材料表面和未被AZO材料覆蓋的表面上發(fā)生相消干涉從而消除刻蝕紋，單獨的消影層03對可見光的反射率和設(shè)有AZO膜層04時對可見光的反射率之差低于2%，該消影層可以有效淡化甚至忽略刻蝕紋，使顯示畫面無刻蝕紋干擾，提升品質(zhì)。在玻璃基片01的另一表面，設(shè)置了增透層02，可以大幅提高可見光的透過率，進而提高顯示的亮度，通過增透層02可以使整個AZO導(dǎo)電玻璃的整體透過率高于87%。如圖2所示，上方曲線為設(shè)置增透層的透過率曲線，下方曲線為未設(shè)置增透層的透過率曲線。
[0018]本實施例提供的AZO導(dǎo)電玻璃在玻璃基片01的兩側(cè)分別設(shè)置了消影層03和增透層02，有效消除了 AZO膜層04的刻蝕紋，并提高了透光率，可獲得高亮度、清晰細膩的高品質(zhì)畫面；并且，由于消影層03和增透層02各自由至少兩層膜構(gòu)成，若將二者鍍在同一側(cè)，則過多層膜系生產(chǎn)工藝復(fù)雜，每一層的變化對整個膜系都影響較大，本實施例將消影層03與增透層02分設(shè)玻璃基片01兩側(cè)，可使工藝簡化且可調(diào)性提高，減少鍍膜的復(fù)雜性和不確定性，提升廣品良率。
[0019]在本實施例中，消影層03包括自玻璃基片01起依次層疊設(shè)置的第一五氧化二鈮膜層031 (或第一二氧化鈦膜層)以及第一二氧化硅膜層032，第一五氧化二鈮膜層031對應(yīng)于550nm的折射率為2.20?2.40，厚度為5?50nm，第一二氧化娃膜層032對應(yīng)于550nm的折射率為1.40?1.50，厚度為30?lOOnm。AZO膜層04的厚度為50?300nm，對應(yīng)550nm的折射率為1.80?1.95，電阻率為5 X 10 4 Ω/cm。將上述材料按照上述參數(shù)匹配設(shè)置，可以獲得較佳的消影效果。
[0020]另外，該玻璃基片01可以采用厚度為0.5?2.0mm(例如0.5mm、0.7mm、1.1mm等)
的鈉鈣硅玻璃、硼硅玻璃或鋁硅玻璃。
[0021]在本實施例中，增透層02包括自玻璃基片01起依次設(shè)置的第二二氧化硅膜層021以及第二五氧化二鈮膜層022 (或第二二氧化鈦膜層)，第二二氧化硅膜層021對應(yīng)于550nm的折射率為1.40?1.50，厚度為5?50nm，第二五氧化二銀膜層022對應(yīng)于550nm的折射率為2.20?2.40，厚度為40?lOOnm。通過上述材料按照上述參數(shù)匹配設(shè)置，可以將可見光的透過率提高到87%以上。
[0022]上述增透型消影AZO導(dǎo)電玻璃通過下述方法制作，具體參考圖3，步驟如下:
[0023]在步驟SlOl中，選取玻璃原片并進行鍍膜前處理，獲得玻璃基片；
[0024]在本實施例中，將所需厚度的玻璃原片經(jīng)切割成所需尺寸，再經(jīng)磨邊、研磨、清洗等前處理過程得到鍍膜所需的玻璃基片01。
[0025]在步驟S102中，在玻璃基片01的一表面采用中頻交流磁控濺射工藝依次鍍制第一五氧化二鈮膜層031或第一二氧化鈦膜層以及第一二氧化硅膜層032，得到消影層03 ;
[0026]在步驟S103中，在消影層03表面鍍制AZO膜層04 ;
[0027]在步驟S104中，在玻璃基片01的另一表面采用中頻交流磁控濺射工藝依次鍍制第二二氧化硅膜層021以及第二五氧化二鈮膜層022或第二二氧化鈦膜層，得到增透層02，進而獲得增透型消影AZO導(dǎo)電玻璃。
[0028]具體地，將準(zhǔn)備好的玻璃基片01放在傳動小車上，設(shè)定傳動小車走速，進入真空鍍膜機，經(jīng)過腔體的加熱段加熱到50?150°C左右步入五氧化二鈮靶位，優(yōu)選Ar氣量在200sccm,優(yōu)選O2氣量在lOOsccm，優(yōu)選派射氣壓在3X 10 3，所用革巴材為孿生革巴，采用中頻交流磁控濺射在玻璃基片01上鍍制第一五氧化二鈮膜層031，第一五氧化二鈮膜層031對應(yīng)于550nm的折射率為2.20?2.40，厚度為5?