高侶砂：2.Ol%，滑石： 1. 4%稱量配料，作為巧體配方，球磨過篩陳腐獲得泥漿，對泥漿進(jìn)行噴霧干燥獲得粉料，均 化料倉陳腐后粉料通過壓機(jī)完成成型過程，對巧體進(jìn)行干燥后采用鐘罩淋釉方式進(jìn)行施面 釉；
[0050]B、噴墨印花：在面釉層表面噴墨印刷大理石的紋理圖案，其線條各有粗細(xì)；
[0051]C、對應(yīng)印花圖案的大理石線條紋理噴墨打印下陷墨水，線條粗的噴墨量加大，細(xì) 的減少噴墨量；其中，下陷墨水含有W下質(zhì)量分?jǐn)?shù)的組分：V2〇s25%、Bi2〇355%、BazCOsS%、 化0 3%、Si〇24%、Al2〇33%、化2〇+化2〇)2%。
[0052]D、淋生料厚拋釉，厚度為0. 46mm，所述厚拋釉由W下重量百分比的組分組成：厚 拋釉粉：71. 64%，簇甲基纖維素鋼：0. 14%，S聚憐酸鋼：0.27%,水：27. 94%。其中，厚 拋釉粉含有W下重量百分比的化學(xué)組分：Si02 :48. 28%，A1203 :11. 52%，F(xiàn)e203 :0. 12%， Ti02 :0.Ol%，CaO:10. 12%，MgO:3. 56 %，K20 :3. 69 %，Na20 :1. 92 %，Zr02 :0. 21 %， 化0:9. 32%，燒失：4. 96%。淋生料厚拋釉的方式為鐘罩淋釉，參數(shù)為：流速37 + 3S，比重 1.91 + 0. 03g/ml，施釉量 1200 ~ISOOg/片，細(xì)度（325 目篩余）0.7%~1.0% ;
[0053]E、淋厚拋釉磚巧經(jīng)烘干害二次烘干后入燒成害爐進(jìn)行燒制，燒成后釉層的厚度為 0.4mm，拋磨切割獲得成品。所獲得的拋釉磚其磚面下陷紋理效果比實(shí)施例1中的磚面下陷 效果要線虛，下陷線條不細(xì)膩，逼真感不強(qiáng)。
[0054] 實(shí)施例組2-下陷墨水的組分限定
[00巧]采用與實(shí)施例1相同的工序和巧體配方，不同的是選用的下陷墨水，其含有的組 分按下表1進(jìn)行調(diào)配備用，用于下陷墨水的噴墨。

[0058] 對實(shí)施例2-1至2-5獲得磚面效果進(jìn)行觀察，實(shí)施例2-2、2-3、2-4比實(shí)施例 2-1或?qū)嵤├?-5的磚面內(nèi)的下陷效果更加的清晰細(xì)膩，可見對下陷墨水組分作更進(jìn)一 步的限定，V2O52O-3O%、Bi2〇35〇-60%、BazOy-S%、化03-4%、Si〇23-4%、AI2O33.5-4%、 (K2〇+Na2〇) I. 5-2. 5%，使下陷墨水與厚拋釉之間具有一定的互斥作用，厚拋釉不會影響到 下陷墨水的使用效果，即使厚拋釉在高溫作用下流動性變大了，其邊緣釉也不會出現(xiàn)凹陷 或塌陷的現(xiàn)象，確保下陷線條的清晰細(xì)膩感。此外，該限定的下陷墨水在下陷紋理的細(xì)節(jié)處 理上具有更加良好的可控性。
[00則實(shí)施例3
[0060] 一種結(jié)合下陷紋理的仿大理石厚釉磚的制備方法，包括W下步驟：
[0061] A、巧體成型，向巧體表面施面釉：按質(zhì)量百分比計(jì)，將球±:5. 4%，原礦泥： 18. 00%，中溫砂：32. 07%，水磨石粉：21. 06%，長石：20. 06%，高侶砂：2. Ol%，滑石： 1. 4%稱量配料，作為巧體配方，球磨過篩陳腐獲得泥漿，對泥漿進(jìn)行噴霧干燥獲得粉料，均 化料倉陳腐后粉料通過壓機(jī)完成成型過程，對巧體進(jìn)行干燥后采用鐘罩淋釉方式進(jìn)行施面 釉；
[0062]B、噴墨印花：在面釉層表面噴墨印刷大理石的紋理圖案，其線條各有粗細(xì)；
[0063]C、對應(yīng)印花圖案的大理石線條紋理噴墨打印下陷墨水，線條粗的噴墨量加大，細(xì) 的減少噴墨量；其中，下陷墨水含有W下質(zhì)量分?jǐn)?shù)的組分：V2〇s25%、Bi2〇355%、BazCOsS%、 化03%、Si〇24%、Al2〇33%、化2〇+化2〇)2%。
[0064]D、淋生料厚拋釉，厚度為0. 5mm，所述厚拋釉由W下重量百分比的組分組成：厚拋 釉粉：71. 64%，簇甲基纖維素鋼：0. 14%，S聚憐酸鋼：0.27%,水：27. 94%，其中，所述厚 拋釉粉含有W下重量百分比的組分：Si〇2:50%，Al2〇3:12%，F(xiàn)e2〇3:〇. 09%，Ti〇2:〇. 02%， CaO:8. 85%，MgO:3. 07 %，K2O:3. 49 %，胞2〇 :1. 57 %，Zr〇2:0. 10%，ZnO:8. 00 %，燒失 5.48% ;淋生料厚拋釉的方式為鐘罩淋釉，參數(shù)為：流速37 + 3S，比重1.91 + 0. 03g/ml，施 釉量1200~ISOOg/片，細(xì)度（325目篩余）0.7%~1.0% ;
[0065]E、淋厚拋釉磚巧經(jīng)烘干害二次烘干后入燒成害爐進(jìn)行燒制，其中產(chǎn)品燒成時(shí)高溫 區(qū)控制范圍為1140~1230°C，燒成后釉層的厚度為0. 45mm，拋磨切割獲得成品。
[0066] 設(shè)計(jì)不同的大理石紋理采用實(shí)施例3的方式來制備，獲得磚面效果各異，仿大理 石逼真效果的拋釉磚，其形態(tài)各異，下陷效果逼真，動靜結(jié)合，凹凸有致，立體層次感強(qiáng)。
[0067] 實(shí)施例4
[0068] 一種結(jié)合下陷紋理的仿大理石厚釉磚的制備方法，包括W下步驟：
[0069] A、巧體成型，向巧體表面施面釉：按質(zhì)量百分比計(jì)，將球±:5. 4%，原礦泥： 18. 00%，中溫砂：32. 07%，水磨石粉：21.06%,長石：20. 06%，高侶砂：2.01%,滑石： 1. 4%稱量配料，作為巧體配方，球磨過篩陳腐獲得泥漿，對泥漿進(jìn)行噴霧干燥獲得粉料，均 化料倉陳腐后粉料通過壓機(jī)完成成型過程，對巧體進(jìn)行干燥后采用鐘罩淋釉方式進(jìn)行施面 釉；
[0070]B、噴墨印花：在面釉層表面噴墨印刷大理石的紋理圖案，其線條各有粗細(xì)；
[0071] C、對應(yīng)印花圖案的大理石線條紋理噴墨打印下陷墨水，線條粗的噴墨量加大，細(xì) 的減少噴墨量；其中，下陷墨水含有W下質(zhì)量分?jǐn)?shù)的組分：V2〇s25%、Bi2〇355%、BazCOsS%、 ZnO3%、Si〇24%、Al2〇33%、化2〇+化2〇)2%。
[0072]D、淋生料厚拋釉，厚度為0. 5mm，所述厚拋釉由W下重量百分比的組分組成：厚拋 釉粉：71. 64%，簇甲基纖維素鋼：0. 14%，S聚憐酸鋼：0.27%,水：27. 94%，其中，所述厚 拋釉粉含有W下重量百分比的組分：Si〇2:55%，Al2〇3:15%，F(xiàn)e2〇3:〇. 12%，Ti〇2:〇. 01%， CaO:8. 73%，MgO:2. 89 %，K2O:3. 59 %，化2〇 :1. 87 %，Zr〇2:0. 20%，ZnO:8. 10 %，燒失 6.08% ;淋生料厚拋釉的方式為鐘罩淋釉，參數(shù)為：流速37 + 3S，比重1.91±0.03g/ml，施 釉量1200~ISOOg/片，細(xì)度（325目篩余）0.7%~1.0% ;
[0073]E、淋厚拋釉磚巧經(jīng)烘干害二次烘干后入燒成害爐進(jìn)行燒制，其中產(chǎn)品燒成時(shí)高溫 區(qū)控制范圍為1140~1230°C，燒成后釉層的厚度為0. 45mm，拋磨切割獲得成品。
[0074] 設(shè)計(jì)不同的大理石紋理采用實(shí)施例4的方式來制備，獲得磚面效果各異，仿大理 石逼真效果的拋釉磚，其形態(tài)各異，下陷效果逼真，動靜結(jié)合，凹凸有致，立體層次感強(qiáng)。
[00巧]需要說明的是巧體可選用公知常識中的配料組分來配料造粒壓制，本領(lǐng)域技術(shù)人 員可按生產(chǎn)要求選用不同的巧體或面釉也可實(shí)現(xiàn)本發(fā)明方案。W上給出的實(shí)施例為優(yōu)選實(shí) 驗(yàn)方式，對于其它組分或燒成工藝中只需做適用性調(diào)整即可，運(yùn)是本領(lǐng)域技術(shù)人員可W參 考工作經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行適當(dāng)調(diào)整。
[0076] W上結(jié)合具體實(shí)施例描述了本發(fā)明的技術(shù)原理。運(yùn)些描述只是為了解釋本發(fā)明的 原理，而不能W任何方式解釋為對本發(fā)明保護(hù)范圍的限制。基于此處的解釋，本領(lǐng)域的技術(shù) 人員不需要付出創(chuàng)造性的勞動即可聯(lián)想到本發(fā)明的其它【具體實(shí)施方式】，運(yùn)些方式都將落入 本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種結(jié)合下陷紋理的仿大理石厚釉磚的制備方法，其特征在于：包括以下步驟： A、 坯體成型，向坯體表面施面釉； B、 噴墨印花； C、 印花后噴墨打印下陷墨水； D、 淋生料厚拋釉，所述生料厚拋釉的厚拋釉粉中含有重量百分比不少于50%的SiOjP 不少于12%的A1203; E、 淋厚拋釉磚坯經(jīng)烘干窯二次烘干后入燒成窯爐，燒成獲得成品。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種結(jié)合下陷紋理的仿大理石厚釉磚的制備方法，其特征在 于：所述Si02的含量不大于55 %，所述A1 203的含量不大于15 %。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種結(jié)合下陷紋理的仿大理石厚釉磚的制備方法，其特征 在于：所述生料厚拋釉工序中使用的厚拋釉，其由以下重量百分比的組分組成：厚拋釉粉： 71. 64%，羧甲基纖維素鈉：0. 14%，三聚磷酸鈉：0. 27%，水：27. 94%，其中，所述厚拋釉粉 含有以下重量百分比的組分：Si02:5L98%，A1 203:12· 19%，F(xiàn)e203:0. 10%，Ti02:0. 01%， CaO:8. 83%，MgO:3. 09%，K20 :3. 29%，Na20 :1. 67%，Zr02:0 . 20%，ZnO:8. 10%。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種結(jié)合下陷紋理的仿大理石厚釉磚的制備方法，其特 征在于：所述噴墨打印下陷墨水工序中使用的下陷墨水含有以下質(zhì)量百分比的組分： V205 20-30 %、Bi203 50-60 %、Ba2C03 7-8 %、Zn03-4 %、Si02 3-4 %、A1203 3. 5-4 %、 (K20+Na20) 1. 5-2. 5%〇5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種結(jié)合下陷紋理的仿大理石厚釉磚的制備方法，其特征在 于：所述步驟C印花后按照前步驟的印花裝飾圖案設(shè)計(jì)下陷墨水的噴墨。6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種結(jié)合下陷紋理的仿大理石厚釉磚的制備方法，其特征在 于：所述步驟E燒成后還包括拋磨和切割工序。7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種結(jié)合下陷紋理的仿大理石厚釉磚的制備方法，其特征在 于：所述步驟D淋生料厚拋釉的厚度不少于4mm。8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種結(jié)合下陷紋理的仿大理石厚釉磚的制備方法，其特征在 于：所述步驟A施面釉前對坯體先進(jìn)行干燥處理。9. 一種結(jié)合下陷紋理的仿大理石厚釉磚，其特征在于：所述生料厚釉仿大理石紋理新 型拋釉磚采用如權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的方法制備而成。
【專利摘要】一種結(jié)合下陷紋理的仿大理石厚釉磚的制備方法及產(chǎn)品，所述制備方法包括以下步驟：A、坯體成型，向坯體表面施面釉；B、噴墨印花；C、印花后噴墨打印下陷墨水；D、淋生料厚拋釉，所述生料厚拋釉的厚拋釉粉中含有重量百分比不少于50％的SiO2和不少于12％的Al2O3；E、淋厚拋釉磚坯經(jīng)烘干窯二次烘干后入燒成窯爐，燒成獲得成品。本發(fā)明提出一種結(jié)合下陷紋理的仿大理石厚釉磚的制備方法，有效的解決現(xiàn)有的陶瓷磚因其特性及配方的限制，使陶瓷磚具備下陷紋理和仿大理石紋理，且其紋理各異，并讓磚面局部區(qū)域產(chǎn)生下陷效果，形態(tài)各異，動靜結(jié)合，凹凸有致，立體層次感更強(qiáng)的問題；其制備獲得結(jié)合下陷紋理的仿大理石紋理新型厚釉磚，其立體層次感強(qiáng)、具有更逼真的下陷紋理效果。
【IPC分類】C04B41/89
【公開號】CN105272378
【申請?zhí)枴緾N201510873924
【發(fā)明人】史杰, 劉俊榮, 蔣祥莉
【申請人】佛山歐神諾陶瓷股份有限公司
【公開日】2016年1月27日
【申請日】2015年12月1日