玻璃鍍層結構的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種玻璃鍍層結構的制造方法，其中，該制造方法包括：向上部設置有玻璃基板的真空空間中，通入比例在1.3:1至1.5:1之間的氮氣和氧氣；交替執(zhí)行鈦氮氧化物鍍膜層生成工序和硅氮氧化物鍍膜層生成工序，在玻璃基板的下表面向下形成交替層疊的硅氮氧化物鍍膜層和鈦氮氧化物鍍膜層。本發(fā)明通過在玻璃基板的下表面交替鍍鈦氮氧化物鍍膜層和硅氮氧化物鍍膜層，并使鍍層化合物中的氮與氧的比例保持在1.3:1至1.5:1之間，從而在保證絕緣性的前提下，實現(xiàn)了呈現(xiàn)玫瑰金顏色的鏡面效果的玻璃鍍層結構，并且將鍍層本身的厚度對指紋檢測的影響控制在非常小的范圍內。
【專利說明】
玻璃鍍層結構的制造方法
技術領域
[0001] 本發(fā)明涉及一種玻璃鍍層結構的制造方法，尤其涉及一種應用于指紋檢測的玻璃 鍍層結構的制造方法。
【背景技術】
[0002] 目前，指紋識別技術已經(jīng)應用于移動終端（如，電腦）等產(chǎn)品上。其中，電容按壓式 指紋檢測方法應用較為廣泛，具體又分為主動式按壓檢測和被動式按壓檢測。
[0003] 被動式按壓檢測的基本原理如圖1所示，整個檢測系統(tǒng)包括:位于底部的電容式指 紋傳感器10和覆蓋在電容式指紋傳感器10之上的隔離層(或者叫保護層，也是手指直接接 觸的區(qū)域）11，其中，電容式指紋傳感器10包括以二維陣列排列的多個電容極板（圖中示例 性的標注出了5個電容極板P1-P5)，當手指12的皮膚與隔離層11貼合后，手指12的皮膚與電 容極板之間形成電容，由于指紋的存在，在微觀上形成如圖1所示的情形，手指12的皮膚與 隔離層11表面形成了多處嵴和峪，手指12的皮膚的不同位置與各個電容極板之間的距離是 不相等的，由此，各個電容極板便與手指12的皮膚之間產(chǎn)生了不同的電容值，例如在嵴處形 成的電容值為Cv，在峪處形成的電容值為Cr，通過度量這些電容值，能夠獲得指紋圖像信 息，即每一個電容極板作為一個像素，來收集指紋圖像信息。
[0004] 主動式按壓檢測的原理如圖2所示，在被動式檢測系統(tǒng)的基礎上增加了環(huán)繞在隔 離層11周圍的金屬環(huán)13,金屬環(huán)13與底層電路連接，金屬環(huán)13的作用用來喚醒底層的電容 式指紋傳感器10以及通過金屬環(huán)13向手指12施加一定的電流信號，從而增加手指12的皮膚 上的電荷數(shù)量，進而增強了電容極板所檢測到的信號。如圖3所示，其示出了通過電容式指 紋傳感器10的檢測所呈現(xiàn)的指紋圖像信號。
[0005] 在上述的指紋檢測系統(tǒng)中，隔離層11的上下表面必須要由絕緣材料形成，不然將 會破壞手指12的皮膚與電容極板的電容，從而無法檢測到指紋信息。此外，在帶有金屬環(huán)13 的檢測系統(tǒng)中，隔離層11與金屬環(huán)13接觸的部分也必須是絕緣的，如果隔離層11導電，金屬 環(huán)13上的電流將會流過隔離層11，從而造成信號混亂，同樣無法檢測到指紋信息。
[0006] 此外，由于電容式指紋傳感器10的電容極板陣列的檢測范圍很小，這就需要手指 12距離電容極板陣列很近，即要求隔離層11厚度不能很大，不然也會影響指紋檢測效果，尤 其是對于被動式按壓檢測的系統(tǒng)，電容式指紋傳感器10對上部覆蓋的隔離層11的厚度更加 敏感，無法使用厚度較大的隔離層11。
[0007] 隨著手機、平板電腦等移動終端的迅速發(fā)展，移動終端在趨向于薄型化的同時也 不斷追究美觀效果，隔離層11所覆蓋的區(qū)域也就是進行指紋識別的區(qū)域，其在移動終端上 一般處于較為突出的位置，例如設置在手機的后蓋中間位置，或者設置在手機正面的下部 等。因此，指紋識別區(qū)域美觀程度將會直接影響手機的整體外觀。但是，由于上述的諸多限 制，現(xiàn)有技術中的采用電容按壓式的指紋檢測方式的移動終端，其指紋識別區(qū)域的隔離層 11大多采用陶瓷或者塑料等材質，在功能上僅僅簡單實現(xiàn)了保護電容式指紋傳感器10的隔 離封裝作用，但是，在指紋檢測裝置上無法實現(xiàn)玻璃鏡面。
[0008] 現(xiàn)有技術中，玻璃鏡面的鍍膜技術較為成熟，但是，由于一般的鏡面鍍膜，不會對 絕緣性和厚度要求較高，一般會采用直接鍍金屬的方式，或者通過多層的鍍膜來實現(xiàn)想要 的效果，這樣形成的鍍膜層一般較厚或者不絕緣，因此，無法滿足指紋檢測的厚度要求。此 外，上述的指紋檢測系統(tǒng)本身采用的是電容檢測原理，手指12的皮膚與電容極板陣列分別 作為電容的兩極，根據(jù)電容計算公式可知，電容的大小除了與電容極板之間的距離有關，還 與電容極板之間的介質有關，鍍膜層的引入將會增加電容極板之間的介質數(shù)量，從而影響 電容值的大小，鍍膜層的厚度越大，對電容值的影響也越大，因此，為了不對指紋檢測造成 嚴重的影響，客觀上也無法允許存在很厚的鍍膜層存在。

【發(fā)明內容】

[0009] 本發(fā)明的目的在于提供一種玻璃鍍層結構的制造方法，其制造出來的鍍層結構能 夠對指紋檢測效果影響較小的前提下，使得指紋檢測區(qū)域呈現(xiàn)玫瑰金顏色的鏡面效果。
[0010] 為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種玻璃鍍層結構的制造方法，包括：
[0011] 向上部設置有玻璃基板的真空空間中，通入比例在1.3:1至1.5:1之間的氮氣和氧 氣；
[0012] 交替執(zhí)行鈦氮氧化物鍍膜層生成工序和硅氮氧化物鍍膜層生成工序，在玻璃基板 的下表面向下形成交替層疊的硅氮氧化物鍍膜層和鈦氮氧化物鍍膜層；
[0013] 所述鈦氮氧化物鍍膜層生成工序包括:通過電子槍激發(fā)設置在所述密閉空間中的 鈦原料，使所述鈦原料蒸發(fā)，與所述密閉空間中的氮氣和氧氣發(fā)生反應后，在玻璃基板的下 表面向下形成鈦氮氧化物鍍膜層；
[0014] 所述硅氮氧化物鍍膜層生成工序包括:通過電子槍激發(fā)設置在所述密閉空間中的 硅原料，使所述硅原料蒸發(fā)，與所述密閉空間中的氮氣和氧氣發(fā)生反應后，在玻璃基板的下 表面向下形成硅氮氧化物鍍膜層。
[0015] 本發(fā)明提供的玻璃鍍層結構的制造方法，通過在玻璃基板的下表面交替鍍鈦氮氧 化物鍍膜層和硅氮氧化物鍍膜層，并使鍍層化合物中的氮與氧的比例保持在1.3:1至1.5:1 之間，從而在保證絕緣性的前提下，實現(xiàn)了呈現(xiàn)玫瑰金顏色的鏡面效果的玻璃鍍層結構，并 且將鍍層本身的厚度對指紋檢測的影響控制在非常小的范圍內。
【附圖說明】
[0016] 圖1為現(xiàn)有技術的指紋檢測原理的示意圖之一；
[0017] 圖2為現(xiàn)有技術的指紋檢測原理的示意圖之二；
[0018] 圖3為現(xiàn)有技術的指紋檢測圖像信號的示意圖；
[0019]圖4本發(fā)明實施例一的玻璃鍍層結構的不意圖；
[0020]圖5為本發(fā)明實施例五的玻璃鍍層結構的不意圖；
[0021 ]圖6為本發(fā)明實施例六的鍍膜原理示意圖；
[0022] 圖7為本發(fā)明實施例二中第一組膜系結構對應的反射率曲線示意圖之一；
[0023] 圖8為本發(fā)明實施例二中第二組膜系結構對應的反射率曲線示意圖之二；
[0024]圖9為本發(fā)明實施例二中第三組膜系結構對應的反射率曲線示意圖之三；
[0025]圖10為本發(fā)明實施例三中第一組膜系結構對應的反射率曲線示意圖之一；
[0026]圖11為本發(fā)明實施例三中第二組膜系結構對應的反射率曲線示意圖之二；
[0027]圖12為本發(fā)明實施例三中第三組膜系結構對應的反射率曲線示意圖之三；
[0028] 圖13為本發(fā)明實施例四中第一組膜系結構對應的反射率曲線示意圖之一；
[0029] 圖14為本發(fā)明實施例四中第二組膜系結構對應的反射率曲線示意圖之二；
[0030] 圖15為本發(fā)明實施例四中第三組膜系結構對應的反射率曲線示意圖之三。
【具體實施方式】
[0031] 下面結合附圖對本發(fā)明實施例進行詳細描述。
[0032]本發(fā)明實施例的原理在于，通過在玻璃基板的下表面交替鍍鈦氮氧化物鍍膜層和 硅氮氧化物鍍膜層，來實現(xiàn)具有特定顏色的鏡面效果，同時還要保證絕緣性并且要將整體 鍍層的厚度控制在非常薄的范圍內，從而減小對指紋檢測的影響。
[0033] 實施例一
[0034] 如圖4所示，本實施例涉及一種玻璃鍍層結構，主要應用于電容按壓式指紋檢測系 統(tǒng)中，充當覆蓋在電容式指紋傳感器之上的隔離層，該玻璃鍍層的結構包括玻璃基本1和在 所述玻璃基板的下表面向下設置的交替層疊的鈦氮氧化物鍍膜層2和硅氮氧化物鍍膜層3， 多層鍍膜層所形成的整體的鍍膜層結構也稱為膜系。
[0035] 其中，鈦氮氧化物與硅氮氧化物的分子式中，氮與氧的比例大致在1.3:1至1.5:1 之間，在實際應用中，作為較為選的方案，將氮與氧的比例定位在1.4:1，即鈦氮氧化物和硅 氮氧化物分子式可以表示為TINxOy和SINxOy，其中x=l .4y。
[0036] 在上述結構中，采用了鈦氮氧化物鍍膜層和所述硅氮氧化物鍍膜層交替層疊的鍍 層結構，來實現(xiàn)玻璃基板的鏡面效果，在保證絕緣性的前提下，能夠以整體厚度較薄的鍍層 來實現(xiàn)顏色鮮艷的鏡面效果。
[0037] 具體地，通過將鈦氮氧化物和硅氮氧化物中氮原子與氧原子的比例控制在1.3:1 至1.5:1之間，來對鈦氮氧化物和硅氮氧化物的反射率進行調整，將鈦氮氧化物的折射率控 制在1.84左右，將硅氮氧化物的折射率控制在1.31左右，同時結合層數(shù)和層厚的控制，在整 體厚度較薄的情況下，實現(xiàn)了效果較為亮麗的玫瑰金的鏡面效果。這里所說的玫瑰金顏色 所對應的光波長大致在565-570nm的范圍內，該顏色的L = 80、A值= 8.65-ll.l、B值 = 0.9- 3·4o
[0038] 另外，由于電容值的大小受到電容極板之間的距離的影響，在本發(fā)明實施例的結 構中，能夠將整體的鍍膜厚度控制得很?。ㄔ跐M足所需效果的前提下，能夠控制在lum以 內），因此，對于指紋傳感器的電容值檢測影響很小。
[0039] 此外，電容值的大小也會受到電容極板之間的填充的介質的影響，當填充物質種 類越多時，也會對電容值造成一定的影響，在本發(fā)明的實施例的鍍層結構中，僅采用了兩種 氮氧化物作為鍍層，因此，在手指皮膚與電容極板陣列之間的物質的種類較少，并且沒有金 屬類鍍層，而且鍍層的整體厚度又很薄，從電容極板之間填充物質的角度來說，影響也降低 到了很小。
[0040] 較為優(yōu)選地，將鈦氮氧化物鍍膜層位于第一層，即最先鍍上鈦氮氧化物鍍膜層，由 于鈦氮氧化物的反射率比較高，因此，將其設在第一層能夠使整個膜系呈現(xiàn)出更加艷麗的 顏色。
[0041 ]在本實施例中，所述鈦氮氧化物鍍膜層2和所述硅氮氧化物鍍膜層3的鍍膜層總數(shù) 可以為5-7層，鍍層總厚度可以控制在280nm至lOOOnm之間。另外，在本發(fā)明的實施例中，玻 璃基板的厚度可以在170-180um的范圍內，優(yōu)選為175um〇
[0042] 實施例二
[0043] 本實施例在實施例一的基礎上，給出了一種具體的鍍層結構:所述鍍膜層總數(shù)為5 層，所述鈦氮氧化物的鍍膜層的總厚度與所述硅氮氧化物的鍍膜層的總厚度之比在1.55到 1.65之間，保證這個比例就能夠在僅鍍5層鍍膜層的情況下實現(xiàn)玫瑰金的鏡面效果，并且能 夠將總厚度控制在500nm以下，從而減小對電容檢測的影響。
[0044]其中，每層的結構可以采用如下厚度分配：
[0045]所述第一層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為45-70nm;
[0046] 所述第二層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為55-90nm;
[0047] 所述第三層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為45-70nm;
[0048] 所述第四層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為55-90nm;
[0049] 所述第五層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為95-150nm;
[0050] 其中，第一層與第三層的厚度相同，第二層與第四層的厚度相同，并且第二層與第 四層的厚度大于第一層與第三層的厚度。
[0051 ]具體地，給出下表中三組具體膜系結構示例：
[0052] 表一
[0053]
[0054]上表中三組膜系結構的反射率曲線如圖7至圖9所示，其中橫軸坐標為波長(nm)， 縱軸為折射率（％ )，以下實施例的曲線圖橫縱坐標相同。
[0055] 實施例三
[0056]本實施例在實施例一的基礎上，給出了另一種具體的鍍層結構:所述鍍膜層總數(shù) 為6層，所述鈦氮氧化物的鍍膜層的總厚度與所述硅氮氧化物的鍍膜層的總厚度之比在0.8 到0.9之間，保證這個比例就能夠在僅鍍6層鍍膜層的情況下實現(xiàn)玫瑰金的鏡面效果，并且 能夠將總厚度控制在600nm以下，從而減小對電容檢測的影響。
[0057]其中，每層的結構可以采用如下厚度分配：
[0058]所述第一層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為75-95nm;
[0059] 所述第二層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為75-95nm;
[0060] 所述第三層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為75-95nm;
[0061] 所述第四層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為75-95nm;
[0062] 所述第五層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為75-95nm;
[0063] 所述第六層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為110_135nm;
[0064] 其中，第一層、第三層以及第五層的厚度相同，第二層與第四層的厚度相同，并且 第二層與第四層的厚度大于、第三層以及第五層的厚度。
[0065]具體地，給出下表中三組具體膜系結構示例：
[0066] 表二
[0067]
[0068]上表中三組膜系結構的反射率曲線如圖10至圖12所示。
[0069] 實施例四
[0070] 本實施例在實施例一的基礎上，給出了又一種具體的鍍層結構:所述鍍膜層總數(shù) 為7層，所述鈦氮氧化物的鍍膜層的總厚度與所述硅氮氧化物的鍍膜層的總厚度之比在1.4 到1.5之間，保證這個比例就能夠在僅鍍7層鍍膜層的情況下實現(xiàn)玫瑰金的鏡面效果，并且 能夠將總厚度控制在950nm以下，從而減小對電容檢測的影響。
[0071] 其中，每層的結構可以采用如下厚度分配：
[0072] 所述第一層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為65-130nm;
[0073] 所述第二層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為65-130nm;
[0074] 所述第三層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為65-130nm;
[0075] 所述第四層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為65-130nm;
[0076] 所述第五層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為65-130nm;
[0077] 所述第六層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為65-130nm;
[0078] 所述第七層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為80-170nm;
[0079] 其中，第一層至第六層的厚度相同，第七層的厚度大于第一層至第六層的厚度。
[0080] 具體地，給出下表中三組具體膜系結構示例：
[0081 ] 表三
[0082]

[0083] ~上表中三組膜系結構的反射率曲線如圖13至圖15所示。
[0084] 實施例五
[0085] 如圖5所示，本實施例在上述各實施例的基礎上，在整個鍍層的下方設置有一層油 墨層，通過設置油墨層，能夠更好地進行遮光，防止雜光的干擾，針對發(fā)明要實現(xiàn)的顏色，優(yōu) 選印刷灰色油墨層，灰色油墨層能夠對底色進行調節(jié)，從而呈現(xiàn)更好的玫瑰金效果。
[0086] 進一步地，還可以在印刷灰色油墨層的時候，印刷一定的鏤空圖案，例如，印刷指 紋圖形的鏤空圖案，鏤空部分和非鏤空的部分，在透光性和反射性上存在差異，從而在從上 層玻璃觀察將會在鏡面背景下呈現(xiàn)出相應的圖案，從而能夠實現(xiàn)指紋區(qū)域進行標識或者裝 飾。優(yōu)選地，可以在鏤空圖案中再設置區(qū)別于灰色的顏料，更優(yōu)選地，填充與灰色形成反差 的顏料，例如，填充白色顏料，從而讓圖案更加明顯。
[0087]實施例六
[0088] 本實施例主要說明制造上述實施例一的玻璃鍍層結構制造方法，如6所示，本實施 例的玻璃鍍層結構可以采用NCVM(不導電真空電鍍)工藝來實現(xiàn)。
[0089] 具體地，設置如圖6所示的真空空間，并向其中通入比例為1.3:1至1.5:1之間氮氣 和氧氣(優(yōu)選地，通入比例為1.4:1的氮氣和氧氣），然后交替執(zhí)行鈦氮氧化物鍍膜層生成工 序和硅氮氧化物鍍膜層生成工序，從而在玻璃基板的下表面向下形成交替層疊的硅氮氧化 物鍍膜層和鈦氮氧化物鍍膜層。
[0090] 其中，鈦氮氧化物鍍膜層生成工序具體為:通過電子槍激發(fā)設置在所述密閉空間 中的鈦原料，使所述鈦原料蒸發(fā)，與所述密閉空間中的氮氣和氧氣發(fā)生反應后，在玻璃基板 的下表面向下形成鈦氮氧化物鍍膜層。
[0091] 硅氮氧化物鍍膜層生成工序包括:通過電子槍激發(fā)設置在所述密閉空間中的硅原 料，使所述硅原料蒸發(fā)，與所述密閉空間中的氮氣和氧氣發(fā)生反應后，在玻璃基板的下表面 向下形成硅氮氧化物鍍膜層。
[0092] 交替執(zhí)行鈦氮氧化物鍍膜層生成工序和硅氮氧化物鍍膜層生成工序的次數(shù)取決 于要最終獲得的層數(shù)，而每層的厚度通過控制每次鈦氮氧化物鍍膜層生成工序和硅氮氧化 物鍍膜層生成工序來實現(xiàn)。
[0093] 在上述工藝中，通過控制通入的氮氣和氧氣的比例，來實現(xiàn)對鍍膜層的化合物中 氮原子和氧原子的比例的控制，從而達到對鈦氮氧化物和硅氮氧化物的反射率的調整，從 而將鈦氮氧化物的折射率控制在1.84左右，將硅氮氧化物的折射率控制在1.31左右，同時 結合層數(shù)和層厚的控制，在整體厚度較薄的情況下，實現(xiàn)了效果較為亮麗的玫瑰金的鏡面 效果。本實施例采用工藝，由于僅使用了兩種常見的金屬和半導體材料，因此，其工藝實現(xiàn) 上較為簡單，便于進行批量生成。
[0094]此外，較為優(yōu)選地，在鍍膜工藝中，首先進行鈦氮氧化物鍍膜層生成工序，使得鈦 氮氧化物鍍膜層位于第一層，由于鈦氮氧化物的反射率比較高，因此，將其設在第一層能夠 使整個膜系呈現(xiàn)出更加艷麗的顏色。
[0095] 此外，在本實施例中，鍍膜層總數(shù)可以控制在5-7層，鍍層總厚度可以控制在280nm 至lOOOnm之間，另外，在本發(fā)明的實施例中，玻璃基板的厚度可以在170-180um的范圍內，優(yōu) 選為175um〇
[0096] 實施例七
[0097] 本實施例涉及制造上述實施例二的鍍層結構的制造方法，包括:交替執(zhí)行鈦氮氧 化物鍍膜層生成工序和硅氮氧化物鍍膜層生成工序(可以交替執(zhí)行五次即可實現(xiàn)），使所述 鍍膜層總數(shù)為5層，并且所述鈦氮氧化物的鍍膜層的總厚度與所述硅氮氧化物的鍍膜層的 總厚度之比在1.55到1.65之間。
[0098] 具體地，通過交替執(zhí)行鈦氮氧化物鍍膜層生成工序和硅氮氧化物鍍膜層工序，生 成如下厚度的鍍層結構：
[0099]所述第一層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為45-70nm;
[0100] 所述第二層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為55-90nm;
[0101] 所述第三層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為45-70nm;
[0102] 所述第四層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為55-90nm;
[0103] 所述第五層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為95-150nm;
[0104] 其中，第一層與第三層的厚度相同，第二層與第四層的厚度相同，并且第二層與第 四層的厚度大于第一層與第三層的厚度。
[0105] 其中，每層的厚度可以通過控制鍍膜時間來實現(xiàn)，每層的具體厚度的示例在實施 例二中已經(jīng)說明，在此不在贅述。
[0106] 實施例八
[0107]本實施例涉及制造上述實施例三的鍍層結構的制造方法，交替執(zhí)行鈦氮氧化物鍍 膜層生成工序和硅氮氧化物鍍膜層生成工序(可以交替執(zhí)行六次即可實現(xiàn)），使所述鍍膜層 總數(shù)為6層，所述鈦氮氧化物的鍍膜層的總厚度與所述硅氮氧化物的鍍膜層的總厚度之比 在0.8到0.9之間。
[0108] 具體地，通過交替執(zhí)行鈦氮氧化物鍍膜層生成工序和硅氮氧化物鍍膜層工序，生 成如下厚度的鍍層結構：
[0109] 所述第一層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為75-95nm;
[0110] 所述第二層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為75-95nm;
[0111] 所述第三層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為75-95nm;
[0112] 所述第四層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為75-95nm;
[0113] 所述第五層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為75-95nm;
[0114] 所述第六層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為110_135nm;
[0115] 其中，第一層、第三層以及第五層的厚度相同，第二層與第四層的厚度相同，并且 第二層與第四層的厚度大于、第三層以及第五層的厚度。
[0116] 其中，每層的厚度可以通過控制鍍膜時間來實現(xiàn)，每層的具體厚度的示例在實施 例三中已經(jīng)說明，在此不在贅述。
[0117]實施例九
[0118]本實施例涉及制造上述實施例四的鍍層結構的制造方法，交替執(zhí)行鈦氮氧化物鍍 膜層生成工序和硅氮氧化物鍍膜層生成工序(可以交替執(zhí)行七次即可實現(xiàn)），所述鍍膜層總 數(shù)為7層，所述鈦氮氧化物的鍍膜層的總厚度與所述硅氮氧化物的鍍膜層的總厚度之比在 1.4到1.5之間。
[0119]具體地，通過交替執(zhí)行鈦氮氧化物鍍膜層生成工序和硅氮氧化物鍍膜層工序，生 成如下厚度鍍層的鍍層結構：
[0120]所述第一層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為65-130nm;
[0121] 所述第二層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為65-130nm;
[0122] 所述第三層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為65-130nm;
[0123] 所述第四層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為65-130nm;
[0124] 所述第五層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為65-130nm;
[0125] 所述第六層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為65-130nm;
[0126] 所述第七層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍層，厚度范圍為80-170nm;
[0127] 其中，第一層至第六層的厚度相同，第七層的厚度大于第一層至第六層的厚度。
[0128] 其中，每層的厚度可以通過控制鍍膜時間來實現(xiàn)，每層的具體厚度的示例在實施 例四中已經(jīng)說明，在此不在贅述。
[0129] 實施例十
[0130] 本實施例主要說明制作上述實施例五涉及的結構。在本實施例中通過油墨印刷設 備，在交替執(zhí)行鈦氮氧化物鍍膜層生成工序和硅氮氧化物鍍膜層生成工序后，在鍍層的下 方印刷一層油墨層，從而能夠更好地進行遮光，防止雜光的干擾，針對發(fā)明要實現(xiàn)的顏色， 優(yōu)選印刷灰色油墨層，能夠對底色進行調節(jié)，從而呈現(xiàn)更好的玫瑰金效果。
[0131] 進一步地，在鍍層下方印刷一層灰色油墨層可以包括：印刷具有指紋圖形鏤空圖 案的灰色油墨層，在具有鏤空的部分填充區(qū)別于灰色的顏料;也可以只印刷鏤空圖案而不 填充顏料。其中，填充優(yōu)選與灰色形成反差的顏料，從而讓圖案更加明顯。
[0132] 實施例^^一
[0133] 本實施例涉及一種指紋檢測裝置，包括：電容式指紋傳感器，該電容式指紋傳感器 可以為現(xiàn)有技術中采用的任一一款電容式指紋傳感器，可以是主動式的電容式指紋傳感器 (例如FPC公司生產(chǎn)的指紋傳感器），也可以是被動式電容式指紋傳感器。在上述電容式指紋 傳感器的上部貼附有上述各實施例的玻璃鍍層結構，以作為隔離層或者保護層，鍍膜的一 面朝向電容式指紋傳感器的電容極板陣列，玻璃的上面對外，用于接觸指紋皮膚。
[0134] 實施例十二
[0135] 本實施例涉及一種包含實施例十一的指紋檢測裝置的移動終端，例如手機、平板 電腦等，在移動終端的后蓋上開設有用于進行指紋檢測的開口，所述指紋檢測裝置位于所 述開口下部，所述指紋檢測裝置的玻璃鍍層結構的上面從所述開口露出。上述結構中，將指 紋識別的區(qū)域設置在了移動終端的后面，通過在后蓋上開設開口，讓具有鏡面效果的玫瑰 金顏色的玻璃露出，作為指紋識別的區(qū)域。由于本發(fā)明實施例的玻璃鍍層能夠呈現(xiàn)亮麗的 玫瑰金鏡面效果，因此，能夠使得移動終端的指紋識別區(qū)域異常明顯和美觀，能夠提成移動 終端的整體美觀效果。
[0136] 最后應說明的是：以上各實施例僅用以說明本發(fā)明的技術方案，而非對其限制;盡 管參照前述各實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理解:其依 然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分或者全部技術特征進 行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應技術方案的本質脫離本發(fā)明各實施例技術 方案的范圍。
【主權項】
1. 一種玻璃鍍層結構的制造方法，其特征在于，包括： 向一側設置有玻璃基板的密閉空間中，通入氮氣和氧氣，所述密閉空間為真空空間；其 中，通入的氮氣與氧氣的比例在1.3:1到1.5:1之間； 執(zhí)行氮氧化合物生成工序，在所述玻璃基板的一側形成氮氧化合物鍍膜層。2. 根據(jù)權利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述執(zhí)行氮氧化合物生成工序，在所 述玻璃基板的一側形成氮氧化合物鍍膜層包括： 交替地執(zhí)行氮氧化合物生成工序，在所述玻璃基板的一側形成交替層疊的氮氧化合物 鍍膜層。3. 根據(jù)權利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述交替地執(zhí)行氮氧化合物生成工 序，在所述玻璃基板的一側形成交替層疊的氮氧化合物鍍膜層包括： 交替地執(zhí)行至少兩種氮氧化合物的生成工序，在所述玻璃基板的一側形成交替層疊的 至少兩種氮氧化合物的鍍膜層。4. 根據(jù)權利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述交替地執(zhí)行至少兩種氮氧化合物 的生成工序，在所述玻璃基板的一側形成交替層疊的至少兩種氮氧化合物的鍍膜層包括： 交替地執(zhí)行鈦氮氧化物鍍膜層生成工序和硅氮氧化物鍍膜層生成工序，在所述玻璃基 板的一側形成交替層疊的硅氮氧化物鍍膜層和鈦氮氧化物鍍膜層。5. 根據(jù)權利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述執(zhí)行鈦氮氧化物鍍膜層生成工序 包括： 通過電子槍激發(fā)設置在所述密閉空間中的鈦原料，使所述鈦原料蒸發(fā)，與所述密閉空 間中的氮氣和氧氣發(fā)生反應后形成鈦氮氧化物鍍膜層。6. 根據(jù)權利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述執(zhí)行硅氮氧化物鍍膜層生成工序 包括： 通過電子槍激發(fā)設置在所述密閉空間中的硅原料，使所述硅原料蒸發(fā)，與所述密閉空 間中的氮氣和氧氣發(fā)生反應后形成硅氮氧化物鍍膜層。7. 根據(jù)權利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述交替地執(zhí)行鈦氮氧化物鍍膜層生 成工序和硅氮氧化物鍍膜層生成工序包括： 先執(zhí)行鍍鈦氮氧化物鍍膜層生成工序，再執(zhí)行硅氮氧化物鍍膜層生成工序。8. 根據(jù)權利要求1所述的制造方法，其特征在于，通入氮氣和氧氣的比例為1.4:1。9. 根據(jù)權利要求4所述的制造方法，其特征在于，交替地執(zhí)行的所述鈦氮氧化物鍍膜層 生成工序和所述硅氮氧化物鍍膜層生成工序的總次數(shù)為5次，使所述鈦氮氧化物鍍膜層和 所述硅氮氧化物鍍膜層的總層數(shù)為5層，并且所述鈦氮氧化物鍍膜層的總厚度與所述硅氮 氧化物鍍膜層的總厚度之比在1.55到1.65之間。10. 根據(jù)權利要求9所述的制造方法，其特征在于，交替地執(zhí)行鈦氮氧化物鍍膜層生成 工序和硅氮氧化物鍍膜層工序，生成如下鍍膜層： 所述第一層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為45-70nm; 所述第二層鍍膜層為硅氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為55-90nm; 所述第三層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為45-70nm; 所述第四層鍍膜層為硅氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為55-90nm; 所述第五層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為95-150nm。11. 根據(jù)權利要求4所述的制造方法，其特征在于，交替地執(zhí)行的所述鈦氮氧化物鍍膜 層生成工序和所述硅氮氧化物鍍膜層生成工序的總次數(shù)為6次，使所述鈦氮氧化物鍍膜層 和所述硅氮氧化物鍍膜層的總層數(shù)為6層，所述鈦氮氧化物鍍膜層的總厚度與所述硅氮氧 化物鍍膜層的總厚度之比在0.8到0.9之間。12. 根據(jù)權利要求11所述的制造方法，其特征在于，交替地執(zhí)行鈦氮氧化物鍍膜層生成 工序和硅氮氧化物鍍膜層工序，生成如下鍍膜層： 所述第一層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為75-95nm; 所述第二層鍍膜層為硅氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為75-95nm; 所述第三層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為75-95nm; 所述第四層鍍膜層為硅氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為75-95nm; 所述第五層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為75-95nm; 所述第六層鍍膜層為硅氮氧化物鍍層，厚度范圍為ll〇_135nm。13. 根據(jù)權利要求4所述的制造方法，其特征在于，交替地執(zhí)行的所述鈦氮氧化物鍍膜 層生成工序和所述硅氮氧化物鍍膜層生成工序的總次數(shù)為7次，使所述鈦氮氧化物鍍膜層 和所述硅氮氧化物鍍膜層的總層數(shù)為7層，并且所述鈦氮氧化物鍍膜層的總厚度與所述硅 氮氧化物鍍膜層的總厚度之比在1.4到1.5之間。14. 根據(jù)權利要求13所述的制造方法，其特征在于，交替地執(zhí)行鈦氮氧化物鍍膜層生成 工序和硅氮氧化物鍍膜層工序，生成如下鍍膜層： 所述第一層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為65-130nm; 所述第二層鍍膜層為硅氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為65-130nm; 所述第三層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為65-130nm; 所述第四層鍍膜層為硅氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為65-130nm; 所述第五層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為65-130nm; 所述第六層鍍膜層為硅氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為65-130nm; 所述第七層鍍膜層為鈦氮氧化物鍍膜層，厚度范圍為80-170nm。15. 根據(jù)權利要求1至14任一所述的制造方法，其特征在于，在交替地執(zhí)行鈦氮氧化物 鍍膜層生成工序和硅氮氧化物鍍膜層生成工序后，還包括： 在最后一次生成的鍍膜層的一側印刷一層黑色油墨層。16. 根據(jù)權利要求15所述的制造方法，其特征在于，在最后一次生成的鍍膜層的一側印 刷一層灰色油墨層包括： 在最后一次生成的鍍膜層的一側印刷具有鏤空圖案的灰色油墨層。17. 根據(jù)權利要求16所述的制造方法，其特征在于，所述鏤空圖案為指紋圖形的鏤空圖 案。18. 根據(jù)權利要求16所述的制造方法，其特征在于，在所述鏤空圖案中具有鏤空的部分 填充區(qū)別于灰色的顏料。19. 根據(jù)權利要求1至14任一所述的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板的厚度在 170-180um〇20. 根據(jù)權利要求19所述的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板的厚度為175um。
【文檔編號】C03C17/34GK105837056SQ201610045624
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2016年1月22日
【發(fā)明人】郝亞可, 孫坤, 孟祥發(fā), 梁倩
【申請人】樂視移動智能信息技術（北京）有限公司