一種防霧減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明一種防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃及其制備方法，采取磁控濺射法鍍膜，其特征在于該鍍膜玻璃的膜層結(jié)構(gòu)按順序排列為：親水膜層/隔離層/玻璃/隔離層/減反射可見(jiàn)光膜層。該雙功能鍍膜玻璃在380nm至780nm光譜波長(zhǎng)范圍內(nèi)，透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高1.5～3.5％；膜層鉛筆硬度6.50H～7.5H；鍍膜玻璃的親水層潤(rùn)濕角1.0～4.5°。得到的鍍膜玻璃可以用于電子顯示器面板、封裝玻璃蓋板、櫥窗、鏡框、機(jī)車和輪船窗玻璃等領(lǐng)域。
【專利說(shuō)明】
一種防霧減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明屬于顯示器件、儀表封裝、保護(hù)玻璃蓋板、櫥窗、以及機(jī)車和輪船窗玻璃等使用玻璃的領(lǐng)域，具體涉及一種防霧減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]當(dāng)潮濕空氣冷卻到一定的溫度時(shí)，空氣中一部分的水汽就會(huì)凝結(jié)出來(lái)，變成很多小水滴，懸浮在近地面的空氣層里，就形成了霧。如果這些潮濕空氣冷遇到溫度較低的玻璃、并且玻璃表面又有不潔凈物(例如:小油污、細(xì)菌)，玻璃上就會(huì)更容易結(jié)霧。結(jié)霧的視窗玻璃會(huì)產(chǎn)生漫反射，出現(xiàn)彩虹、造成圖象模糊失真。
[0003]在電子顯示器件封裝、保護(hù)玻璃蓋板、櫥窗、燈具玻璃罩等使用玻璃作為視窗的領(lǐng)域，由于一些特殊的環(huán)境濕度、內(nèi)外溫差，容易造成玻璃表面結(jié)霧，使圖象模糊不清，造成觀察者的眼睛疲勞;對(duì)一些大尺寸公共顯示器件上的保護(hù)玻璃，由于不均勻結(jié)霧造成玻璃局部發(fā)霉，使顯示圖象永久模糊。玻璃結(jié)霧還造成玻璃產(chǎn)生多彩斑斕，影響正常視覺(jué)，造成眩光。為了減少霧對(duì)圖象、視覺(jué)和眼睛的影響，就需要對(duì)玻璃表面進(jìn)行適當(dāng)加工處理，使水氣不能在玻璃上成霧。
[0004]視窗玻璃自身存在8%的反射光，外部環(huán)境光源在視窗玻璃上的反射產(chǎn)生眩光，使人的視覺(jué)產(chǎn)生疲勞。為了克服眩光，減輕視覺(jué)疲勞，就需要減少玻璃自身的反射光，達(dá)到能夠清晰地觀察顯示內(nèi)容。
[0005]目前防止玻璃結(jié)霧的方法有:
[0006]—是玻璃表面親水法。通過(guò)在玻璃表面上鍍制二氧化鈦膜，利用二氧化鈦的光催化性能，使水汽不形成細(xì)小水滴，在玻璃表面均勻鋪展，達(dá)到不影響觀察顯示圖象。例如，采取濕化學(xué)涂層的專利有:申請(qǐng)專利CN102975434A(—種防霧自潔玻璃)涂覆有機(jī)-無(wú)機(jī)混合物、以及二氧化鈦和二氧化硅混合物，有機(jī)涂層熱處理方法；申請(qǐng)專利CN103964704A(—種親水防霧涂布液、親水防霧涂層制備方法及防霧玻璃)、申請(qǐng)專利CN104086093A(—種防霧涂層及其制作方法和防霧玻璃)、申請(qǐng)專利CN1478746(納米非整比T12 — S12自潔凈防霧玻璃膜的制備方法)，采取溶膠涂覆后，熱處理制備納米非整比T12 — S12自潔凈親水防霧玻璃膜;授權(quán)專利CN1317215C(自潔凈防霧玻璃的制造方法)，以鈦酸丁脂、無(wú)水乙醇和三乙醇胺為溶膠制作材料，并通過(guò)溶膠配制、玻璃片預(yù)處理、涂膜干燥、煅燒等數(shù)道工序做成自潔凈防霧玻璃，申請(qǐng)專利CN103570248A(增透的防霧玻璃及其制備方法)，在玻璃片的表面，酸刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內(nèi)部延伸的多孔結(jié)構(gòu)層，再涂覆二氧化鈦，達(dá)到親水防霧，授權(quán)專利CN102649623B(增透的超親水自清潔防霧玻璃及其制備方法)，采用堿性水溶液對(duì)玻璃片進(jìn)行刻蝕，在玻璃的表面形成厚度為10?30納米的二氧化硅納米片相互交叉連接形成的厚度為50?160納米的粗糙涂層，然后浸涂二氧化鈦；申請(qǐng)專利CN1840497( —種納米級(jí)自潔凈玻璃及生產(chǎn)工藝)，玻璃表面采用酸蝕微孔或采用激光打孔處理，形成密布納米的微孔，再鍍一層納米級(jí)Si02/Ti02溶膠薄膜/或在玻璃表面鍍一層納米鈦膜/或納米銀膜，熱處理溫度400 0C?700 0C。物理濺射鍍膜工藝有，授權(quán)專利CN100551858 (—種具有可見(jiàn)光響應(yīng)的永久自清潔玻璃及其制備方法)，玻璃表面濺射沉積二氧化硅薄膜，然后在納米二氧化硅薄膜表面上濺射一層Ti1-XW1-XO0.5N0.5 二氧化鈦薄膜，鍍薄膜的玻璃在500?600 °C下退火，燒結(jié)爐中自然冷卻即得自潔玻璃。
[0007]二是采取表面活性劑涂覆玻璃表面，達(dá)到親水不結(jié)霧目的。例如:申請(qǐng)專利CN103194103A、CN103194102A、CN103194102A和CN102941795A(汽車風(fēng)擋玻璃)以硅油和醇等活性劑涂覆玻璃，達(dá)到玻璃防霧目的；申請(qǐng)專利CN103482882A(—種吸水性防霧玻璃制備方法)，表面活性劑和納米二氧化硅溶劑混合溶液中加入含吸水基團(tuán)的樹(shù)脂和可交聯(lián)固化樹(shù)脂攪拌均勻涂覆到玻璃上;授權(quán)專利:CN103043919B(—種防水防霧表面改性玻璃的制備方法)，含有特殊官能團(tuán)的光固化單體，在改性后的玻璃表面通過(guò)UV光固化處理，得到改性的防水防霧玻璃。
[0008]三是采取玻璃表面加熱的方式，與濕空氣不產(chǎn)生溫差，達(dá)到濕氣不結(jié)霧的目的。例如:授權(quán)專利CN202368302U(汽車防霧玻璃)，汽車玻璃(I)上涂有一層透明導(dǎo)電膜，透明導(dǎo)電膜發(fā)熱，玻璃不會(huì)產(chǎn)生結(jié)霧。
[0009]四是在玻璃表面上鍍制低表面能的疏水膜，使細(xì)小霧滴凝結(jié)到依靠自身重力從玻璃表面滑落，達(dá)到玻璃表面不結(jié)霧的目的。
[0010]從所述的防結(jié)霧方法看，目前采取玻璃表面鍍制氧化鈦親水方法(方法一)的工藝都需要中、高溫?zé)崽幚砟?，并且氧化鈦膜層造成玻璃反射光增加，產(chǎn)生輕微光污染;玻璃表面常溫固化活性劑涂層工藝(方法二)，膜層的耐久性不持久;玻璃表面加熱，消除空氣與玻璃溫差的通電加熱方法，容易漏電;玻璃表面涂覆低表面能疏水膜方法(方法四)，同樣存在膜層耐久性問(wèn)題。
[0011]根據(jù)固體物理和薄膜光學(xué)理論，減少玻璃反射光的方法，就是在玻璃表面上鍍低于玻璃折射率的介質(zhì)膜，或高、低折射率復(fù)合介質(zhì)膜(例如:玻璃/高折射率/低折射率/高折射率/低折射率，重復(fù)鍍制)，利用干涉原理減少玻璃反射光，達(dá)到清晰觀察顯示內(nèi)容的目的；或者采取腐蝕玻璃表面生成孔結(jié)構(gòu)降低折射率。例如，濕化學(xué)方法有:申請(qǐng)專利201110363911.7(減反射玻璃的制備方法)、201210331777.7(酸腐蝕制備減反射玻璃的方法)、201210331809.3(減反射玻璃及二次堿腐蝕制備減反射玻璃)都采取腐蝕的方法在玻璃表面形成孔結(jié)構(gòu)，達(dá)到降低折射率，減少玻璃反射光；申請(qǐng)專利201310057774.3(—種帶有減反射膜的雙絨面玻璃)用溶膠涂敷法鍍膜。物理方法有:申請(qǐng)專利201410816930.4 (減反射玻璃及其制備方法；)在玻璃上用濺射法沉積S12、Nb205或Si3N4做膜系；申請(qǐng)專利201510083980.0(減反射膜制備方法及減反射玻璃)用Si02、SiN或Si3N4做膜系；申請(qǐng)專利201410087985.6(多層膜減反射玻璃及其制備方法)用濺射法在玻璃上分別反應(yīng)濺射沉積Ti0x、AlSi0x膜層;在線氣相方法:申請(qǐng)專利201310257406.3(—種五層膜系結(jié)構(gòu)的在線鍍膜減反射玻璃及其加工方法)用氧化錫、氧化硅和氟摻雜氧化錫組成膜系。
[0012]目前，在玻璃上鍍膜的方法主要有濺射法、蒸鍍法、濕化學(xué)法，其中成熟的磁控濺射方法鍍膜，具有膜層均一性好、膜層厚度易控制、膜層與玻璃結(jié)合好等特點(diǎn)，已經(jīng)在生產(chǎn)鍍膜玻璃的領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0013]技術(shù)問(wèn)題:本發(fā)明的目的在于提供一種防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃及其制備方法。本發(fā)明采取了磁控濺射法在玻璃上鍍膜，利用膜層的干涉減少玻璃反射光、利用改善的氧化鈦膜層達(dá)到玻璃親水。二者在玻璃表面形成均勻、與玻璃結(jié)合牢固、硬度和耐磨性達(dá)到實(shí)用要求、具有防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃。
[0014]技術(shù)方案:本發(fā)明的一種防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃的膜層結(jié)構(gòu)按順序排列為:親水膜層/隔離層/玻璃/隔離層/減反射可見(jiàn)光膜層；其中，親水膜層為ZnO-T12膜;隔離層指二氧化硅膜;減反射可見(jiàn)光膜層結(jié)構(gòu)為:高折射率膜/二氧化硅膜A/氮氧化硅膜/ 二氧化硅膜B;高折射率膜指二氧化鈦、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫或氧化鋅介質(zhì)膜。
[0015]所述的隔離層膜厚度5?20nm;親水膜層ZnO-T12膜層厚度75?160nm。高折射率膜層厚度15?60nm; 二氧化娃膜I膜層厚度15?40nm;氮氧化娃膜層厚度75?150nm; 二氧化娃膜2膜層厚度60?I 1nm0
[0016]本發(fā)明的防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃的制備方法如下:
[0017]I)采用磁控濺射方法在玻璃上鍍膜；
[0018]a.玻璃清洗:采用去離子水清洗玻璃，干燥，得到潔凈玻璃；
[0019]b.在常壓氮?dú)夥障?，用等離子體轟擊處理潔凈玻璃表面；
[0020]c.在玻璃的一面用磁控濺射法依次鍍制隔離層、ZnO-T12膜層；
[0021]d.在玻璃未鍍膜的另一面用磁控濺射法依次鍍制隔離層即二氧化硅膜、高折射率介質(zhì)膜、二氧化硅、氮氧化硅、二氧化硅層；
[0022]所述用反應(yīng)磁控濺射法沉積二氧化硅膜;氧氣和氬氣流量比例5%?35%，濺射氣壓2.5?4.0 X KT1Pa，用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的二氧化硅膜層厚度5?20nm;鍍膜箱體空間溫度120 °C?260 °C。
[0023]所述用磁控濺射法交互濺射沉積ZnO-T12膜層，氬氣做工作氣體，濺射氣壓2.5?4.0X1 (T1Pa，用氧化鋅，氧化鈦?zhàn)霭胁摹?br>[0024]所述用磁控濺射法沉積高折射率介質(zhì)膜層，濺射氣壓2.5?4.0X KT1Pa，用二氧化鈦，氧化鈮、氧化鋯、氧化錫或氧化鋅做靶材；
[0025]所述反應(yīng)磁控濺射法沉積氮氧硅膜層，用純硅、或硅鋁、或硅硼做濺射鍍膜靶材，用氬氣做工作氣體，氮?dú)?、氧氣和氬氣流量比??10%、5?15%、75?90%，濺射氣壓2.5?4.0 X KT1Pa0
[0026]所述鍍膜前玻璃清洗、干燥后得到的潔凈玻璃需在常壓氮?dú)夥諊?，?00?1000V電壓形成的等離子體處理潔凈玻璃表面。
[0027]所述該雙功能鍍膜玻璃在380nm至780nm光譜波長(zhǎng)范圍內(nèi)，透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高1.5?3.5% ;膜層鉛筆硬度6.50H?7.5H;鍍膜玻璃的親水層潤(rùn)濕角1.0?
4.5°。
[0028]有益效果:本發(fā)明的防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃及其制備方法，第一是制備工藝簡(jiǎn)單、方法成熟;第二是制備過(guò)程無(wú)污染;第三是得到的鍍膜玻璃有防霧和減少可見(jiàn)光反射率雙功能。該發(fā)明的鍍膜玻璃可用于電子顯示玻璃面板、封裝玻璃蓋板、櫥窗和像框、機(jī)車和輪船窗玻璃等使用玻璃的領(lǐng)域，使玻璃不結(jié)霧、通過(guò)該視窗玻璃觀察的圖像更加清晰、減少人眼的疲勞。
【具體實(shí)施方式】
[0029]I)膜層結(jié)構(gòu):親水膜層/隔離層/玻璃/隔離層/減反射可見(jiàn)光膜層，
[0030]其中，隔離層指二氧化硅膜；
[0031]親水膜層:ZnO-T12膜。
[0032]減反射膜層結(jié)構(gòu):高折射率膜/二氧化硅/氮氧化硅膜/二氧化硅膜。高折射率膜層指二氧化鈦，或氧化鈮、或氧化鋯、或氧化錫、或氧化鋅介質(zhì)膜；
[0033]2)雙功能鍍膜玻璃制備方法
[0034]采取成熟磁控濺射方法在玻璃上鍍膜，制備流程如下:
[0035]a)玻璃清洗:采取去離子水清洗玻璃，干燥，得到潔凈玻璃；
[0036]b)在常壓氮?dú)夥障?，用等離子體轟擊處理潔凈玻璃表面；
[0037]c)在玻璃的一面用磁控濺射法依次鍍制隔離層(二氧化硅膜)、Zn0-Ti02膜層；
[0038]d)在玻璃未鍍膜的另一面用磁控濺射法依次鍍制隔離層(二氧化硅膜)、高折射率介質(zhì)膜、二氧化硅、氮氧化硅、二氧化硅層。
[0039]3)效果
[0040]在380nm至780nm光譜波長(zhǎng)范圍內(nèi)，該雙功能鍍膜玻璃的透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高1.5?3.5 % ;膜層鉛筆硬度6.50H?7.5H;鍍膜玻璃的親水層潤(rùn)濕角1.0?
4.5°。
[0041]本發(fā)明的目的在于提供一種一種防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃及其制備方法，得到的鍍膜玻璃可以用于電子顯示器面板、封裝玻璃蓋板、櫥窗、鏡框、機(jī)車和輪船窗玻璃等領(lǐng)域。
[0042]實(shí)施例1:
[0043]一、在玻璃的一面依次鍍膜
[0044]1、鍍制隔離層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15%，派射氣壓2.5 X 10—1Pa,用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度5nm。
[0045]2、鍍制親水膜層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15%，濺射氣壓2.5 X KT1Pa，用氧化鋅，氧化鈦?zhàn)霭胁模换R射沉積2110-1102膜，膜層厚度75nm。
[0046]二、在另一未鍍膜的玻璃面依次鍍膜
[0047]3、鍍制隔離層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15%，派射氣壓2.5 X 10—1Pa,用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度I Onm;
[0048]4、鍍制高折射率介質(zhì)膜層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15%，濺射氣壓2.5X KT1Pa，用二氧化鈦，或氧化鈮、或氧化鋯、或氧化錫、或氧化鋅做靶材，濺射沉積介質(zhì)膜，沉積膜層厚度15nm ；
[0049]5、鍍制二氧化硅膜I膜層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15%，濺射氣壓2.5XKT1Pa,用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度15nm;
[0050]6、鍍制氮氧化硅膜層:真空箱體中，氮?dú)?、氧氣和氬氣流量比?0%、15%、75%，濺射氣壓2.5 X 10—1Pa，用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的氮氧化硅膜層厚度95nm;
[0051 ] 7、鍍制二氧化硅膜2膜層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15%，濺射氣壓2.5 X10?，用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度60nm。
[0052]得到的防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃在380nm至780nm光譜波長(zhǎng)范圍內(nèi)，該雙功能鍍膜玻璃的透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高1.5 膜層鉛筆硬度6.5H;鍍膜玻璃的親水層潤(rùn)濕角4.5°。
[0053]實(shí)施例2
[0054]一、在玻璃的一面依次鍍膜
[0055]1、鍍制隔離層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15%，派射氣壓2.5 X 10—1Pa,用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度15nm。
[0056]2、鍍制親水膜層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15%，濺射氣壓2.5 X KT1Pa，用氧化鋅，氧化鈦?zhàn)霭胁?，交互濺射沉積2110-1102膜，膜層厚度110nm。
[0057]二、在另一未鍍膜的玻璃面依次鍍膜
[0058]3、鍍制隔離層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15%，派射氣壓2.5 X 10—1Pa,用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度15nm;
[0059]4、鍍制高折射率介質(zhì)膜層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15%，濺射氣壓2.5X KT1Pa，用二氧化鈦，或氧化鈮、或氧化鋯、或氧化錫、或氧化鋅做靶材，濺射沉積介質(zhì)膜，沉積膜層厚度35nm ；
[0060]5、鍍制二氧化硅膜I膜層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15%，濺射氣壓2.5XI O-1Pa，用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度32nm;
[0061 ] 6、鍍制氮氧化硅膜層:真空箱體中，氮?dú)?、氧氣和氬氣流量比?0%、15%、75%，濺射氣壓2.5X10—1Pa,用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的氮氧化硅膜層厚度115nm;
[0062]7、鍍制二氧化硅膜2膜層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15 %，濺射氣壓2.5 X10?，用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度90nm。
[0063]得到的防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃在380nm至780nm光譜波長(zhǎng)范圍內(nèi)，該雙功能鍍膜玻璃的透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高2.7 膜層鉛筆硬度7.5H;鍍膜玻璃的親水層潤(rùn)濕角3.0°。
[0064]實(shí)施例3
[0065]一、在玻璃的一面依次鍍膜
[0066]1、鍍制隔離層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15%，濺射氣壓2.5 X 10—1Pa,用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度15nm。
[0067]2、鍍制親水膜層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15%，濺射氣壓2.5 X KT1Pa，用氧化鋅，氧化鈦?zhàn)霭胁?，交互濺射沉積的2110-1102膜，膜層厚度140nm。
[0068]二、在另一未鍍膜的玻璃面依次鍍膜
[0069]3、鍍制隔離層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15%，派射氣壓2.5 X 10—1Pa,用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度20nm;
[0070]4、鍍制高折射率介質(zhì)膜層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15%，濺射氣壓2.5X KT1Pa，用二氧化鈦，或氧化鈮、或氧化鋯、或氧化錫、或氧化鋅做靶材，濺射沉積介質(zhì)膜，沉積膜層厚度55nm ；
[0071]5、鍍制二氧化硅膜I膜層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15%，濺射氣壓2.5XI O-1Pa，用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度32nm;
[0072]6、鍍制氮氧化硅膜層:真空箱體中，氮?dú)?、氧氣和氬氣流量比?0%、15%、75%，濺射氣壓2.5X10—1Pa,用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的氮氧化硅膜層厚度150nm;
[0073]7、鍍制二氧化硅膜2膜層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15 %，濺射氣壓2.5 X1-1Pa，用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度110nm。
[0074]得到的防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃在380nm至780nm光譜波長(zhǎng)范圍內(nèi)，該雙功能鍍膜玻璃的透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高3.5 膜層鉛筆硬度7.5H;鍍膜玻璃的親水層潤(rùn)濕角1.0°。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃，其特征在于該鍍膜玻璃的膜層結(jié)構(gòu)按順序排列為:親水膜層/隔離層/玻璃/隔離層/減反射可見(jiàn)光膜層;其中，親水膜層為ZnO-T12膜;隔離層指二氧化硅膜;減反射可見(jiàn)光膜層結(jié)構(gòu)為:高折射率膜/二氧化硅膜A/氮氧化硅膜/ 二氧化硅膜B;高折射率膜指二氧化鈦、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫或氧化鋅介質(zhì)膜。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃，其特征在于所述的隔離層膜厚度5?20nm;親水膜層ZnO-T12膜層厚度75?160nm。高折射率膜層厚度15?60nm; 二氧化娃膜A膜層厚度15?40nm;氮氧化娃膜層厚度75?150nm; 二氧化娃膜B膜層厚度60?llOnm。3.一種如權(quán)利要求1或2所述的防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于所述雙功能鍍膜玻璃制備方法如下: I)采用磁控濺射方法在玻璃上鍍膜； a.玻璃清洗:采用去離子水清洗玻璃，干燥，得到潔凈玻璃； b.在常壓氮?dú)夥障?，用等離子體轟擊處理潔凈玻璃表面； c.在玻璃的一面用磁控濺射法依次鍍制隔離層、ZnO-T12膜層； d.在玻璃未鍍膜的另一面用磁控濺射法依次鍍制隔離層即二氧化硅膜、高折射率介質(zhì)膜、二氧化硅、氮氧化硅、二氧化硅層。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于所述用反應(yīng)磁控濺射法沉積二氧化硅膜;氧氣和氬氣流量比例5 %?35 %，濺射氣壓2.5?4.0 X KT1Pa，用純硅、或硅鋁、或硅硼做靶材，沉積的二氧化硅膜層厚度5?20nm;鍍膜箱體空間溫度120 °C?260 °C。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于所述用磁控濺射法交互濺射沉積ZnO-T12膜層，氬氣做工作氣體，濺射氣壓2.5?4.0 XI (T1Pa，用氧化鋅，氧化鈦?zhàn)霭胁摹?.根據(jù)權(quán)利要求3所述的防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于所述用磁控濺射法沉積高折射率介質(zhì)膜層，濺射氣壓2.5?4.0 X 1-1Pa，用二氧化鈦，氧化鈮、氧化鋯、氧化錫或氧化鋅做靶材。7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于所述反應(yīng)磁控濺射法沉積氮氧硅膜層，用純硅、或硅鋁、或硅硼做濺射鍍膜靶材，用氬氣做工作氣體，氮?dú)?、氧氣和氬氣流量比??10%、5?15%、75?90%，濺射氣壓2.5?4.0XKT1Pa08.根據(jù)權(quán)利要求3所述的防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于所述鍍膜前玻璃清洗、干燥后得到的潔凈玻璃需在常壓氮?dú)夥諊?，?00?1000V電壓形成的等離子體處理潔凈玻璃表面。9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的防霧和減反射可見(jiàn)光雙功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于所述該雙功能鍍膜玻璃在380nm至780nm光譜波長(zhǎng)范圍內(nèi)，透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高1.5?3.5% ;膜層鉛筆硬度6.50H?7.5H;鍍膜玻璃的親水層潤(rùn)濕角1.0?4.5°。
【文檔編號(hào)】C03C17/34GK105859153SQ201610204610
【公開(kāi)日】2016年8月17日
【申請(qǐng)日】2016年4月1日
【發(fā)明人】董玉紅, 趙青南, 繆燈奎, 趙杰, 劉旭
【申請(qǐng)人】江蘇秀強(qiáng)玻璃工藝股份有限公司