光學(xué)玻璃及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種光學(xué)玻璃及其制備方法，所述光學(xué)玻璃包含以化合物計(jì)的以下組分：SiO2：30?45％；B2O3：0?15％；Nb2O5：25?35％；ZnO：5?20％；Li2O：0?10％；Na2O：1?15％；Sb2O3：0?0.1％；其中，∑SiO2+B2O3：30?50％；∑Li2O+Na2O：5?20％；上述百分比均為重量百分比；所述光學(xué)玻璃不含有TiO2、ZrO2、BaO、GeO2、TeO2、Ta2O5、Yb2O3、Th、Pb、As、Cd、Hg。所述光學(xué)玻璃的折射率在1.66?1.73、阿貝數(shù)在30?36范圍內(nèi)，密度低于3.30g/cm3，玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為470℃以下，玻璃屈服溫度在530℃以下，析晶溫度低于950℃，并在330nm或更短的波長下透過率可達(dá)5％以上；390nm或更短的波長下透過率可達(dá)80％以上，耐水性、耐酸性均為1級(jí)，并且100cm3的玻璃中的異物數(shù)小于1。
【專利說明】
光學(xué)玻璃及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明提供一種光學(xué)玻璃及其制備方法，屬于光學(xué)玻璃技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002] 光學(xué)玻璃是用于制造光學(xué)儀器或機(jī)械系統(tǒng)中的透鏡、棱鏡、反射鏡和窗口等的玻 璃材料。光學(xué)玻璃透光性能好、折光率高，被廣泛應(yīng)用于制造眼鏡片、照相機(jī)、望遠(yuǎn)鏡、顯微 鏡和透鏡等光學(xué)儀器。隨著科技的進(jìn)步，數(shù)碼產(chǎn)品更新?lián)Q代，對(duì)光學(xué)玻璃的需求量也越來越 大，并且對(duì)光學(xué)玻璃的性能也提出了更高的要求。
[0003] 專利申請(qǐng)〔化010034174公開了一種折射率在1.74-1.83，阿貝數(shù)為32-47的光學(xué)玻 璃，其組成中含有5-20重量％的11化。由于含有Ti化，導(dǎo)致在360nmW下波段的透過率低。
[0004] 專利申請(qǐng)CN1772671A公開了 一種折射率在1.65-1.74，阿貝數(shù)為36-45的光學(xué)玻 璃。其組分中含有5-26重量％的8曰0。8曰0的含量高，在玻璃原料的烙解過程中，對(duì)烙煉裝置 的侵蝕增強(qiáng)，難于烙煉出高質(zhì)量的玻璃，同時(shí)影響玻璃的密度。
[0005] 專利申請(qǐng)CN1903761A公開了一種折射率在1.73-1.83,阿貝數(shù)在32-36范圍內(nèi)的光 學(xué)玻璃，其組成中含有6-14重量％的^化。由于含有Ti化，導(dǎo)致在360nmW下波段的透過率 低。
[0006] 專利申請(qǐng)〔化049447684公開了折射率在1.70-1.75，阿貝數(shù)在25-35范圍內(nèi)的光學(xué) 玻璃，其組成中含有20-40重量％的11化。由于含有Ti化，導(dǎo)致在360nmW下波段的透過率低。
[0007] 專利申請(qǐng)CN104876440A公開了 一種折射率在1.66-1.73，阿貝數(shù)在30-36范圍內(nèi)的 光學(xué)玻璃，其中含有3-10%的Zr〇2。由于Zr化的烙點(diǎn)高，影響玻璃的烙融性能。

【發(fā)明內(nèi)容】

[000引發(fā)明要解決的問題
[0009] 本發(fā)明的目的是提供一種光學(xué)玻璃及其制備方法。所述光學(xué)玻璃的折射率在 1.66-1.73范圍內(nèi)、阿貝數(shù)在30-36范圍內(nèi)，密度低于3.30g/cm3，玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為470°C W 下，玻璃屈服溫度在530°CW下，析晶溫度低于950°C，且不含有引起光致變色效應(yīng)的Ti化， 不含有對(duì)烙煉裝置侵蝕性強(qiáng)且影響玻璃密度的BaO,不含有影響玻璃烙融效果的Zr化，且不 含化、口6、43、〔(1、化^及66〇2、了6〇2、化2〇5和化2〇3。并在330皿或更短的波長下透過率可達(dá)5% W上；390nm或更短的波長下透過率可達(dá)80% W上。耐水性、耐酸性均為1級(jí)，并且100cm3的 玻璃中的異物數(shù)小于1。
[0010] 用于解決問題的方案
[0011] 本發(fā)明提供一種光學(xué)玻璃，其包含W化合物計(jì)的W下組分：
[0012] Si〇2:30-45 %;
[OOU] B203:0-15%;
[0014] 佩2〇5:25-35 %;
[0015] 化0:5-20 %;
[0016] Li2〇：〇-10%；
[0017] Na2〇：l-15%；
[001 引 Sb203:0-0.l%;
[0019] 其中，ESi〇2+B2〇3:30-50% ; ELi2〇+Na2〇:5-20% ;
[0020] 上述百分比均為重量百分比；
[0021] 所述光學(xué)玻璃不含有化、？6、43、〔(1、化、11〇2、2'〇2、8曰0、66〇2、了6〇2、了曰2〇5和/或 孔 2〇3。
[0022] 根據(jù)本發(fā)明所述的光學(xué)玻璃，其中，所述Si化的含量為30-40%，優(yōu)選30-38%，更 優(yōu)選33-36 %。
[0023] 根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)玻璃，其中，所述B2化的含量為0-10%，優(yōu)選為0-8%，更優(yōu)選0- 5%。
[0024] 根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)玻璃，其中，所述師2〇5的含量為28-35%，優(yōu)選29-34%，更優(yōu)選 30-32%。
[0025] 根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)玻璃，其中，所述ZnO的含量為8-20%，優(yōu)選12-18%，更優(yōu)選13- 16%。
[0026] 根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)玻璃，其中，所述Li2〇的含量為0-8%，優(yōu)選0-6%，更優(yōu)選0- 5%。
[0027] 根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)玻璃，其中，所述化2〇的含量為2-10%，優(yōu)選為3-8%，更優(yōu)選4- 6%。
[00%]根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)玻璃，其中，所述Σ Si化+B203的含量為30-45 %，優(yōu)選為30- 42%。
[0029] 根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)玻璃，其中，所述Σ Li2〇+化2〇的含量為6-17%，優(yōu)選7-15%，更 優(yōu)選9-14%，特別優(yōu)選10-13%。
[0030] 本發(fā)明還提供一種根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)玻璃的制備方法，包括:將各組分按照比例 稱量、混合均勻后進(jìn)行烙煉，然后誘注或漏注在成型模具中成型，或者直接壓制成型。
[0031] 發(fā)明的效果
[0032] 本發(fā)明的光學(xué)玻璃，組分中不含有引起光致變色效應(yīng)的Ti化，提高了玻璃的透過 率，特別是330nmW下波段的透過率，有利于玻璃鏡頭的膠合;不含有對(duì)烙煉裝置侵蝕性強(qiáng) 的BaO,減輕了玻璃生產(chǎn)過程中對(duì)烙煉裝置的侵蝕，降低了光學(xué)玻璃的生產(chǎn)成本;不含有影 響玻璃烙融效果的Zr化，可降低玻璃的烙制溫度，降低對(duì)烙煉裝置的侵蝕和光學(xué)玻璃的生 產(chǎn)成本。
[0033] 本發(fā)明的光學(xué)玻璃具有較低的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度和屈服溫度，能夠降低玻璃二次壓 型和精密模壓時(shí)的溫度，從而減少玻璃二次壓型和精密模壓的能量量損耗，能夠延長模具 的使用壽命適合于批量生產(chǎn)，主要用于數(shù)碼產(chǎn)品、攝像機(jī)、液晶投影、光通信的透鏡等光學(xué) 透鏡中。
【具體實(shí)施方式】
[0034] 本發(fā)明提供一種光學(xué)玻璃，其包含W化合物計(jì)的W下組分：
[0035] Si〇2:30-45 %;
[0036] B203：0-15% ；
[0037] 佩2〇5:25-35%;
[0038] 化〇:5-20%;
[0039] Li2〇：〇-10%；
[0040] Na2〇：l-15%；
[0041 ] Sb2〇3:〇-〇.l%;
[0042] 其中，ESi〇2+B2〇3:30-50% ; ELi2〇+Na2〇:5-20% ;
[0043] 上述百分比均為重量百分比；
[0044] 所述光學(xué)玻璃不含有1'1〇2、2'〇2、8曰0、化、？6、43、〔(1、化少、66〇2、了6〇2、了曰2〇5和/或 孔 2〇3。
[0045] 原料引入方式采用能夠引入其相應(yīng)含量的化合物的多種形式，例如化2〇可W采用 碳酸鹽、硝酸鹽、硫酸鹽的形式引入。如下所述中，各組分的含量是W重量百分比來表示的。
[0046] Si化是形成玻璃的必須成分，其主要是提高玻璃的耐失透性和化學(xué)穩(wěn)定性。為了 達(dá)到上述效果，如果Si化的含量過低，會(huì)降低玻璃中的橋氧含量，并且玻璃的析晶溫度高于 1000°C;Si〇2的含量過高，難W獲得所要求的光學(xué)常數(shù)，同時(shí)會(huì)降低師2〇5在玻璃中的烙融 性。因此，Si〇2的含量控制在30-45%的范圍內(nèi)，優(yōu)選Si化的含量控制在30-40%的范圍內(nèi)，更 優(yōu)選在30-38%的范圍內(nèi)，特別優(yōu)選Si化在33-36%的范圍內(nèi)。
[0047] B203是玻璃的助烙劑的有用成分，如果B203的含量過高，光學(xué)玻璃的析晶溫度將高 于130(TC，且光學(xué)玻璃的化學(xué)穩(wěn)定性不好，不能實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)；因此，B203的含量控制在Ο? ι 5 % 的 范圍內(nèi) ，優(yōu)選 0-10 % 的 范圍內(nèi) ，更優(yōu)選為 0-8 % 的 范圍內(nèi) ，特別優(yōu)選 0-5 % 的范 圍內(nèi)。 [004引 ΣSi化+B203對(duì)光學(xué)玻璃的析晶性能有很大的影響。當(dāng)ΣSi化+B203低于30%時(shí)，得 到的光學(xué)玻璃的析晶上限溫度超過1300°C;當(dāng)ESi化+Β203高于50%時(shí)，光學(xué)玻璃的烙融性 和穩(wěn)定性變差，且光學(xué)性能不在本發(fā)明的范圍內(nèi)。Si02與Β2化的含量之和優(yōu)選在35~48%的 范圍內(nèi)，更優(yōu)選在40~45 %的范圍內(nèi)。
[00例抓205是形成玻璃的必須成分，能夠提高玻璃的折射率。在本發(fā)明中，師205的含量 過低時(shí)，難W獲得所要求的光學(xué)性能，Nb2化的含量過高時(shí)，玻璃的析晶性能會(huì)變差。因此， 抓205的含量控制在25-35%的范圍內(nèi)，優(yōu)選28-35%范圍內(nèi)，更優(yōu)選29-34%的范圍內(nèi)，特別 優(yōu)選30-32 %的范圍內(nèi)。
[0050] ZnO是形成玻璃的必須成分，能夠改善玻璃的析晶性能并具有助烙的作用。ZnO的 含量過低，無法改善玻璃的析晶性能;ZnO的含量過高，難W獲得所要求的光學(xué)常數(shù)，而且會(huì) 增大烙煉過程中對(duì)烙煉裝置的侵蝕，烙煉得到的玻璃質(zhì)量較差。因此，ZnO的含量控制在5- 20%范圍內(nèi)，優(yōu)選8-20%范圍內(nèi)，更優(yōu)選12-18%范圍內(nèi)，特別地，在13-16%的范圍內(nèi)時(shí)，玻 璃的穩(wěn)定性能最佳。
[0051 ] Li2〇具有助烙的作用，并且能夠增加玻璃的高溫烙融性，降低玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。如 果Li2〇的含量過高，玻璃的化學(xué)穩(wěn)定性和可加工性變差，同時(shí)玻璃的析晶性能變差。因此， 所述Li2〇的含量控制在0-10%范圍內(nèi)，優(yōu)選0-8%范圍內(nèi)，更優(yōu)選0-6%范圍內(nèi)，特別優(yōu)選0- 5%范圍內(nèi)。
[0052]化2〇也具有助烙的作用，能有效地降低烙化溫度，并降低玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。如果 化2〇的含量過高，會(huì)使光學(xué)玻璃的析晶性能變差，并難W難W獲得具有所要求的光學(xué)常數(shù) 的光學(xué)玻璃。因此，Na2〇的含量控制在1-15%范圍內(nèi)，優(yōu)選2-10%范圍內(nèi)，更優(yōu)選3-8%范圍 內(nèi)，特別優(yōu)選4-6%范圍內(nèi)，尤其是Na2〇的含量在5.5%時(shí)，光學(xué)玻璃的析晶溫度為850°C。
[0053] Li2〇和化2〇同屬于堿金屬氧化物，ELi2〇+化2〇的含量過低，不能達(dá)到助烙的作用。 同時(shí)其在玻璃結(jié)構(gòu)中用于斷裂橋氧鍵，形成長程無序的玻璃結(jié)構(gòu)，Σ Li2〇+Na2〇的含量過高， 則不能形成玻璃。ΣLi2〇+Na2〇的含量控制在5-20%范圍內(nèi)，優(yōu)選6-17%范圍內(nèi)，更優(yōu)選Τ? ι 5 % 的范圍 ，特別優(yōu)選控制在 9-14% 范圍內(nèi)，尤其是控制在 10-13% 范圍內(nèi)時(shí)， 組分中 70% 的Σ Si〇2+Nb2〇5能夠被烙融。
[0054] Sb2化作為除泡劑任意添加，但Sb2〇3的含量過高，玻璃的著色度將增大，透過性能 變差。因此，Sb2化的含量控制在0-0.1 %范圍內(nèi)。
[0055] 為保證本發(fā)明所述光學(xué)玻璃的透過率，本發(fā)明提供的光學(xué)玻璃同時(shí)，也不含有化、 0(1、化、43、化等對(duì)環(huán)境和人體有危害元素的化合物及氣化物。也可^不含有1'1、〇3、日6、56等 元素，不含有對(duì)烙煉裝置侵蝕性強(qiáng)且影響玻璃密度的BaO,不含有影響玻璃烙融性能的Zr化 的光學(xué)玻璃，不含有引起光致變色效應(yīng)的Ti化，也不含有在近紅外波段有吸收峰并降低玻 璃透過率的化2〇3,不含有價(jià)格昂貴的Ge〇2、Te化和Ta2〇5。另外，當(dāng)不需要對(duì)本發(fā)明的光學(xué)玻 璃進(jìn)行著色時(shí)，本發(fā)明的光學(xué)玻璃還可W不含有其它可W著色的元素，例如:V、Mo、Cr、Mn、 Fe、Co、化、Qi、Ag 等。
[0056] 本發(fā)明還提供一種根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)玻璃的制備方法，包括:將各組分按照比例 稱量、混合均勻后進(jìn)行烙煉，烙煉溫度為1150-130(TC，然后誘注或漏注在成型模具中成型， 或者直接壓制成型。
[0057] 本發(fā)明還提供一種根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)玻璃在光學(xué)透鏡中的應(yīng)用。例如本發(fā)明的光 學(xué)玻璃可W應(yīng)用在數(shù)碼產(chǎn)品、攝像機(jī)、液晶投影、望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡W及光通信的透鏡等光學(xué) 透鏡中。
[005引實(shí)施例
[0059] 下面通過實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更具體的說明，但本發(fā)明并不受限于運(yùn)些實(shí)施例。
[0060] 將表1和表2中實(shí)施例1-12的各組分按比例稱量、混合均勻后制成配合料，并將制 成的配合料投入銷相蝸中，并按照表1和表帥的烙煉溫度，經(jīng)過1小時(shí)烙煉、3小時(shí)攬拌均勻 后，然后誘注至成型模具中成型，冷卻后即可制得本發(fā)明的光學(xué)玻璃。
[0061] 將對(duì)比例1-5按各組分對(duì)應(yīng)的原料分別按規(guī)定的比例稱取，采用與實(shí)施例1-12相 同的制備方法進(jìn)行制備，獲得對(duì)比例1-5的光學(xué)玻璃。
[0062] 性能測(cè)試
[0063] 1、著色度 λ8〇/λ5
[0064] 制作厚度為10±0.1mm，具有經(jīng)光學(xué)研磨的相互平行的平面玻璃試樣，從與上述平 面垂直的方向，向該玻璃試樣射入強(qiáng)度為Iin的光線，測(cè)定透射光線的強(qiáng)度iDUt，將強(qiáng)度比 lout化η稱為玻璃的外部透過率。
[0065] 在波長200-700nm的范圍，將外部透過率達(dá)到80%時(shí)對(duì)應(yīng)的波長記作λ8〇、外部透過 率達(dá)到5 %時(shí)對(duì)應(yīng)的波長記作λ5。
[0066] 2、折射率nd、阿貝數(shù)…：
[0067] 按照GB/T7962.1-2010的測(cè)試方法對(duì)所得光學(xué)玻璃進(jìn)行折射率nd、阿貝數(shù)Ud的測(cè) 定，表中所列nd、…為-25 °C退火后的數(shù)據(jù)。
[0068] 3、析晶溫度Lt
[0069] 采用日本本山公司的GM-N16P型梯度爐在室溫下進(jìn)行析晶溫度Lt的測(cè)定。
[0070] 4、玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg、玻璃屈服溫度Ts與線膨脹系數(shù)020-120 :
[0071] 玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg、玻璃屈服溫度Ts、20-120°C的線膨脹系數(shù)020-120采用美國陽公 司的TMA測(cè)試儀在室溫下進(jìn)行測(cè)定。
[0072] 5、耐水性Dw、耐酸性Da
[0073] 按照GB/T10576-2006的測(cè)試方法對(duì)所得光學(xué)玻璃的耐水性Dw和耐酸性Da進(jìn)行測(cè) 定。
[0074] 6、密度 P
[0075] 按照GB/T7962.20-2010的測(cè)試方法對(duì)所得光學(xué)玻璃的密度進(jìn)行測(cè)定。
[0076] 7、玻璃中的異物數(shù)
[0077] 將玻璃樣品置于200倍的偏光顯微鏡下進(jìn)行異物的測(cè)定。
[007引實(shí)施例1-12
[0079]表1:實(shí)施例1-6的玻璃組分及性能參數(shù)
[0080]
[0081 ]表2:實(shí)施:7-12的玻璃組分及性能參數(shù)
[0082]
[008；3]對(duì)比例1-5
[0084]表3:對(duì)比例1-5的玻璃組分及性能參數(shù)
[0085]
[00化]由表1-3可w看出，實(shí)施例1-12的光學(xué)玻璃的折射率在1.66-1.73、阿貝數(shù)在30-36 范圍內(nèi)，密度低于3.30g/cm3，玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為470°C W下，玻璃屈服溫度在530°C W下，析 晶溫度低于950°C，并在330nm或更短的波長下透過率可達(dá)5%W上；390nm或更短的波長下 透過率可達(dá)80 % W上。耐水性、耐酸性均為1級(jí)，并且100cm3的玻璃中的異物數(shù)小于1。
[0087] 對(duì)比例1中含有Ti〇2、BaO和Zr〇2,但其透過率為5%的波長超過330加1，透過率為 80%的波長超過390nm，不利于短波長的透過，不能提高光學(xué)零件的清晰度。析晶溫度在950 °CW上，不利于玻璃的成型控制。玻璃化轉(zhuǎn)變溫度在470°CW上，玻璃屈服溫度在530°CW 上，不利于壓制光學(xué)元件時(shí)模具的使用壽命，增加光學(xué)零件的制作成本，并且密度在3.3g/ cm3W上。由于含有侵蝕性強(qiáng)的BaO,因此光學(xué)玻璃中含Pt異物數(shù)為10個(gè)/100cm3,超過1個(gè)/ lOOcm]。
[008引對(duì)比例2中Si02、師205不在本發(fā)明的范圍內(nèi)，且含有Ti02、化02,其密度在3.3g/cm 3W上，析晶溫度在950°C W上。并且其透過率為5 %的波長超過330皿，透過率為80 %的波長 超過390nm，不利于短波長的透過，光學(xué)零件的清晰度較低。
[0089] 對(duì)比例3中含有BaO和Κ2〇,析晶溫度在950°CW上，不利于玻璃的成型控制。并且其 密度在3.3g/cm3 W上。由于含有侵蝕性強(qiáng)的化0，因此光學(xué)玻璃中含Pt異物數(shù)為8個(gè)/100cm3， 超過1個(gè)/100cm3。
[0090] 對(duì)比例4中含有化化，但是析晶溫度在950°C W上，不利于玻璃的成型控制。玻璃化 轉(zhuǎn)變溫度在470°C W上，玻璃屈服溫度在530°C W上，不利于壓制光學(xué)元件時(shí)模具的使用壽 命，增加光學(xué)零件的制作成本。并且透過率為80%的波長超過390nm。
[0091] 對(duì)比例5中不含有化2〇,析晶溫度在950°CW上，不利于玻璃的成型控制。并且其密 度在3.3g/cm3W上。并且透過率為80%的波長超過39〇11111。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種光學(xué)玻璃，其特征在于，其包含以化合物計(jì)的以下組分： SiO2:30-45% ； B2O3:0-15 % ； Nb2O5:25-35 % ； ZnO：5-20%； Li20：0-10% ； Na20:1-15% ； Sb2〇3：〇-〇.l% ； 其中，Σ Si〇2+B2〇3:30-50 % ; Σ Li2ONa20:5-20% ; 上述百分比均為重量百分比； 所述光學(xué)玻璃不含有Th、Pb、As、Cd、Hg、TiO2、ZrO2、BaO、Ge0 2、TeO2、Ta2O5和/或 Yb2O3。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)玻璃，其特征在于，所述SiO2的含量為30-40%，優(yōu)選30-38%，更優(yōu)選33-36 %。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)玻璃，其特征在于，所述B2O3的含量為0-10%，優(yōu)選為 0-8%，更優(yōu)選 0-5 %。4. 根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的光學(xué)玻璃，其特征在于，所述Nb2O5的含量為28-35%， 優(yōu)選29-34 %，更優(yōu)選30-32 %。5. 根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的光學(xué)玻璃，其特征在于，所述ZnO的含量為8-20%，優(yōu) 選 12-18%，更優(yōu)選 13-16%。6. 根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的光學(xué)玻璃，其特征在于，所述Li2O的含量為0-8%，優(yōu) 選0-6%，更優(yōu)選0-5 %。7. 根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的光學(xué)玻璃，其特征在于，所述Na2O的含量為2-10 %，優(yōu) 選為3-8%，更優(yōu)選4-6 %。8. 根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的光學(xué)玻璃，其特征在于，所述ESi02+B2〇3的含量為 30-45%，優(yōu)選為 30-42 %。9. 根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的光學(xué)玻璃，其特征在于，所述Σ Li20+Na20的含量為6-17%，優(yōu)選7-15%，更優(yōu)選9-14%，特別優(yōu)選10-13%。10. -種根據(jù)權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的光學(xué)玻璃的制備方法，包括:將各組分按照比 例稱量、混合均勻后進(jìn)行熔煉，然后澆注或漏注在成型模具中成型，或者直接壓制成型。
【文檔編號(hào)】C03C3/062GK105948482SQ201610259764
【公開日】2016年9月21日
【申請(qǐng)日】2016年4月25日
【發(fā)明人】戎俊華, 王拓, 梁立新, 徐華峰, 徐光以
【申請(qǐng)人】湖北新華光信息材料有限公司